岳秋琴 張智海 余 華
1.重慶電子工程職業學院,重慶,401331
2.重慶大學新型微納器件與系統技術國防重點學科實驗室,重慶,400044
阿達瑪變換(Hadamard transform,HT)光譜儀是一種新型的多通道調制型光譜儀,它具有信噪比高、掃描速度快以及光通量大等優點,特別適用于微弱光譜信號測量[1-2]。阿達瑪變換光譜儀的關鍵器件——HT編碼模板主要包括:機械移動和旋轉式模板、液晶空間光調制器模板、微光機電系統 (MOEMS)光調制器模板。MOEMS光調制器模板與前兩者相比較,不僅克服了機械式模板固有的振動和磨損誤差,而且比液晶空間光調制器模板具有更快的調制速度、更大的帶寬和更高的效率。近年來,國內外一些專家學者對此展開了深入研究。文獻[3]介紹了靜電驅動相位式微型光柵干涉儀、可調式MEMS微型可編程光柵、周期可調式的MEMS微型可編程光柵,以及基于SOI制作的周期可調式MEMS微型可編程光柵。莫祥霞等[4]從空間采樣率的角度對光譜儀器分辨率進行分析,從而對MOEMS微鏡面陣光譜儀進行了優化設計。陳小來等[5]采用FPGA(現場可編程門陣列)+ADV212(專用圖像壓縮編解碼芯片),設計了HT光譜儀硬件實時壓縮系統。
本文構建的MOEMS可動光柵光開關陣列利用光衍射原理,采用HT編碼模板進行光譜儀的編碼調制,相對于其他MOEMS微鏡型的光調制器來說,它具有加工工藝較簡單、成本較低、開關速度快、光譜范圍寬等優點。本文首先分析了HT光譜儀的結構及工作原理,然后提出了可動式光柵光開關陣列結構,并改進了傳統的HT算法,最后設計了加工工藝流程,完成了器件制作,并給出了實驗測試結果及分析。
HT光譜儀的基本結構如圖1所示,它的工作原理如下:寬帶光源射出的光經過準直,透過采樣池和固定光柵分光,入射到MOEMS可動光柵光開 關 陣 列 (grating moving light modulator,GMLM)上。MOEMS光柵有兩個狀態:開態和關態。不同波長的光經調制后,只有在開態下,才能經過透鏡匯聚到單個探測器上。通過對MOEMS可動光柵光開關陣列按照Hadamard編碼模板編程驅動,可使不同波長的光按特定組合被探測器檢測到,再利用嵌入式系統進行信號解調處理,并在屏幕上顯示光譜測量結果。新型HT光譜儀具有光通量大、光譜信噪比高的優點,特別是應用于近紅外譜段時,可以使用單個近紅外探測器檢測,降低了成本,提高了靈敏度和集成度。

圖1 HT光譜儀結構圖
可動光柵光開關陣列GMLM的每個像素結構如圖2所示。

圖2 GMLM單像素結構圖
頂層為可動光柵,在其反射面上蝕刻有鏤空的光柵;中間層為懸臂梁,它作為支撐梁,用來支撐頂層反射面;頂層反射面和底層反射面之間的間距可變。當上下電極沒有施加電壓時,底層反射面與頂層光柵平面距離為nλ/2(λ為入射光波長,n為正整數),此時上下反射表面的相位差為0,±1級的能量幾乎為0,衍射能量集中在0級。當在上下極板之間施加電壓時,由此產生的靜電吸引力使可動光柵光開關向下移動λ/4,底層反射面與光柵平面的間距是(2n-1)λ/4,下反射面與可動光柵一起構成的矩形槽相位光柵相位差為π。由此,入射光的相位通過光柵的上下活塞式運動得到調制,實現光的開關態。
如圖3所示,采用GMLM實現被分光元件色散后的光譜面的空間調制,每個像素對應一個光通道。采用HT編碼模板來驅動GMLM,用HT編碼“0”或“1”來表征GMLM每個像素狀態“ON”或“OFF”。當像素狀態為“ON”時,表示通過該光通道的光可以達到探測器件,對應HT編碼模板的“1”;當像素狀態為“OFF”時,表示通過該光通道的光不能達到探測器件,而被衍射到了其他空間位置,此時對應HT編碼模板的“0”。

圖3 GMLM分光示意圖
HT應用于光譜儀中的基本公式可以表示為

式中,W為編碼矩陣;ψ為待測光譜的光強值向量;η為測量光強值向量。
式(1)表示所測信號光入射到編碼矩陣W的GMLM模板上,經過模板的光調制采集到信號光的各個頻段的光強值,該值已經是經過Hadamard編碼的光譜信號的數據值了。因此,只需對式(1)進行逆運算就可以得到所測光譜的數值,即

以上算法在理論上完美,但實際應用中會出現問題。原有的W編碼矩陣為0和1構成的矩陣,其物理意義分別代表對光的完全阻擋和通過。但實際上,GMLM的現有加工工藝使得陣列中的像素高度并非完全均勻,這使得它對某些光波段的調制并非全關和全開,這樣就會造成編碼誤差,影響復原光譜的質量。
適用于GMLM的HT誤差補償算法基于這樣一個更合理的假設[6]:假設GMLM在“ON”態下的通光率為to,在“OFF”態下的通光率為tc,則式(1)中編碼矩陣W中的1和0應該相應地修改為to和tc。這樣,原有的編碼矩陣W改善為


其中,S為Sylvester型阿達瑪編碼矩陣[7]。這樣,測量光強值向量可以寫成

其中,b是一常量向量,其中的元素由下式給出:

修正后的測量光強值向量可以表示為

于是,光譜估計值可以表示為

這個算法考慮到了阿達瑪模板中每個像素的不完美狀況,因而可以對GMLM像素不均勻造成的編碼誤差進行較好的補償。整個補償算法如圖4所示,它具有誤差小、速度快、容易實現等優點。

圖4 HT誤差補償算法框圖
GMLM的吸合電壓非常重要,它關系到器件正常工作電壓的范圍和合理的器件驅動方式。當施加的電壓超過器件吸合電壓時,器件兩個極板會吸合在一起。設計中考慮了電容的邊緣場效應影響,引入修正因子γ(h)[8]如下:

式中,a為柵條寬度;t為上極板厚度;h為上下兩極板間的等效距離。
由此得到修正后的吸合電壓公式:

式中,A為上下極板重合部分的面積;ε0為真空介電常數;ε為上極板和絕緣層間的相對介電常數;deff為上下極板間的等效距離;K為等效彈性系數。
K的計算公式如下:

式中,E為材料的彈性模量;σ為材料的應力;ν為泊松比;l、b1、t2分別為每個支撐梁展開后的長度、寬度、厚度。
根據設計參數,先代入式(7),求得邊緣場效應校正系數γ(deff);然后根據式(9)求出彈性系數K;最后將上述值代入式(8),求出吸合電壓。
GMLM加工工藝采用表面濺射Al膜(其中w(Si)=1%)的微加工工藝[9],具體工藝流程如圖5所示:(a)P型100硅片進行熱氧化,濺射Al膜,圖形化底層電極和反射面;(b)PECVD淀積SiO2,形成絕緣層;(c)涂聚酰亞胺PI,圖形化PI,形成支撐錨點孔;(d)濺射Al膜,形成支柱和支撐梁;(e)涂光刻膠,曝光,但不刻蝕;(f)濺射 Al膜,形成頂層反射面;(g)干法刻蝕Al膜,形成頂層光柵;(h)等離子去膠釋放梁。

圖5 GMLM加工工藝流程圖
加工后的芯片如圖6所示。檢查外觀,發現芯片上的懸空光柵形狀完整,表面光潔,無明顯應力翹曲現象,光柵底部犧牲層釋放干凈,無殘渣。

圖6 可動光柵光開關陣列SEM電鏡圖
在信號發生器上產生三角波,經過高壓驅動器放大后,驅動GMLM進行動作。讓0級或±1級衍射光通過,觀察光電探測器上接收到的光強響應信號幅值大小,用示波器可觀測光強響應與驅動電壓的關系曲線,從而確定GMLM的工作電壓和吸合電壓。GMLM的驅動波形和光強響應信號如圖7所示。圖7上面第一通道波形顯示的是驅動電壓,下面第二通道波形顯示的是與光電探測器上接收到的0級光強信號成正比放大的電壓信號。從波形分析可知:隨著驅動電壓的增大,GMLM的可動光柵會逐漸下移,從而使0級衍射光逐漸減弱。當可動光柵光開關下拉λ/4距離時,反射面與光柵平面距離為(2n-1)λ/4,GMLM上下反射表面相位差為π,光強響應最小。此時的電壓為器件的工作電壓,對應光強響應曲線的谷底。由圖7可知,當可動光柵光開關對達到吸合點時,電壓會發生跳變,光強響應曲線也同時發生跳變,這個電壓值稱為吸合電壓。經多次實驗測量分析發現:GMLM工作電壓為8.1V,吸合電壓為9.4V,具有工作電壓較低、便于與驅動電路兼容的優點。

圖7 GMLM驅動電壓和光強響應曲線
GMLM吸合時間和釋放時間的測量方法如下:用信號發生器上產生方波,方波幅值剛好超過吸合電壓大小,然后在示波器上觀察光強響應信號的上升沿和下降沿。對GMLM的一個像素進行測量的波形如圖8所示。圖8上面第一通道波形顯示的是與光電探測器上接收到的±1級光強信號成正比放大的電壓信號,下面第二通道波形顯示的是驅動電壓。使用示波器的自動測量功能,得到測量結果,器件吸合時間trise=332μs,釋放時間tfall=384μs,所以器件對方波的動態響應頻率為


圖8 GMLM的吸合時間和釋放時間測量波形
若陣列器件為100個像素,每次掃描時間為140ms,則完全滿足實時快速測量的要求。
對GMLM進行分光選通能力實驗,用激光和適當的光闌得到頻譜面上的像素點光斑,如圖9所示。圖9a所示為兩個相鄰像素單元未施加電壓時的0級和±1級譜,可以看出,光強集中在0級。圖9b所示為兩個相鄰像素單元在下拉過程中將光能衍射到±1級時的譜面情況。實驗證明,GMLM可以進行特定光譜波長的分光選通。

圖9 GMLM兩個相鄰像素單元的分光選通實驗
本文提出了適用于HT光譜儀的MOEMS可動光柵光開關陣列,分析了其結構和工作原理,改進了HT編碼誤差補償算法,減小了誤差,并在實驗室完成了可動光柵光開關陣列加工。實驗測試表明,可動光柵光開關陣列可以在低至8.1V的電壓下進行光調制,開關頻率達到140Hz,它具有調制速度快、光譜范圍寬、機械磨損和誤差小等優點,完全可以滿足阿達瑪變換光譜儀的編碼要求。
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