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Fe2+、Fe3+相互轉化系列例題的選擇與解析

2014-02-20 18:40:38朱懷義
化學教學 2014年1期

朱懷義

摘要:選擇了一系列以印刷電路板的制作、蝕刻廢液的再生等為素材的典型例題,并進行了詳細的解析,引導學生深入理解Fe3+與Fe2+相互轉化的原理,優化思維品質,提高解決問題的能力。

關鍵詞:Fe3+與Fe2+相互轉化;例題解析;思維優化;印刷電路板

文章編號:1005–6629(2014)1–0063–04 中圖分類號:G633.8 文獻標識碼:B

印刷電路板(PCB)(如圖1所示)的制作、蝕刻廢液的再生處理過程均涉及Fe3+與Fe2+的相互轉化。本文以此為素材、選取典型例題,分析轉化原理,加深學生對相關知識的理解,優化學生的思維品質,提高解決問題的能力。

1 PCB的制作——Fe3+被還原為Fe2+

結合圖2來說明印刷電路板的制作原理。取一塊敷銅板(單面敷有銅箔的樹脂絕緣板),除去銅片上的油污,洗凈、吹干,用棉簽蘸取少量飽和的FeCl3溶液,在銅片上畫一個“+”,放置片刻后,用少量水將銅片上的溶液沖到小燒杯中。在銅片上留下“+”字符號,發生反應:2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2。實際制作PCB時,先用油漆描電子線路,待油漆干后放入濃FeCl3溶液中。約20 min后,用鑷子取出,洗凈、吹干。用適當的溶劑清洗掉油漆,就得到用銅箔繪制在樹脂上的電路板。

分析印刷電路板蝕刻原理:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+,氧化性Fe3+>Cu2+,還原性Cu>Fe2+;分析“濕法冶金”原理:Fe+Cu2+=Fe2++Cu,氧化性Cu2+>Fe2+,還原性Fe>Cu。統合起來的總結論是:氧化性Fe3+>Cu2+>Fe2+,還原性Fe>Cu>Fe2+;這是高中階段最重要、必須透徹理解且熟練運用的氧化還原反應規律之一。

所以“有鐵無銅”的情況不可能出現。答案B。

值得注意的是,一是鐵是實現Fe3+向Fe2+轉化的最佳試劑,既不引入新雜質離子,過剩部分又容易過濾除去;二是認為“有鐵無銅”的情況不可能出現的原因是鐵能將溶液中的Cu2+置換出來,這種認識是與題意不符的,因為在鐵剩余情況下,銅根本沒有機會發生反應進入溶液。

2 蝕刻溶液的再生——Fe2+被氧化為Fe3+

印刷電路板是由高分子材料和銅箔復合而成,刻印電路時,常用過量的FeCl3溶液作為“蝕刻液”,所以在蝕刻廢液中含有FeCl3、CuCl2和FeCl2;由于電路板的需求量急劇增大,其生產過程中產生的廢液已對環境造成嚴重污染,處理廢液,從中回收銅、使蝕刻廢液再生是亟需解決的問題。

例2 (2012年12月徐州高三質檢試題)在電子工業中溶解銅的蝕刻液除FeCl3-HCl溶液外,主要還有H2O2-HCl溶液。蝕刻廢液中含有大量的Cu2+,廢液的回收利用不僅減少銅資源的流失,還可使廢液再生蝕刻能力。請回答以下問題:

(1)FeCl3溶液腐蝕銅的離子方程式 。

(2)H2O2-HCl型蝕刻液蝕刻過程中發生的化學反應用化學方程式可表示為 。

(3)用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑對蝕刻廢液進行處理,可回收銅并使蝕刻液再生。請分別寫出回收銅和再生蝕刻液過程中發生反應的離子方程式是 (有多少寫多少)。

(4)處理H2O2型廢液的方法之一是向廢液中加入NaHCO3,以制備Cu2(OH)2CO3。其反應的化學方程式為 。

解析:本題意在擴充介紹H2O2-HCl溶液溶解銅、使蝕刻溶液再生蝕刻能力和銅資源回收的措施之一。

答案:(1)2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+

(2)Cu+H2O2+2HCl=CuCl2+2H2O

(3)①Fe+2Fe3+=3Fe2+

②Fe+Cu2+=Fe2++Cu

③Fe+2H+=Fe2++H2↑

④2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-

(4)2CuCl2+4NaHCO3=Cu2(OH)2CO3↓+4NaCl+ H2O+3CO2↑

3 混合液(Fe3+、Fe2+和Cu2+)的分離

在制作PCB所得蝕刻廢液中含有FeCl3、CuCl2和FeCl2,上面所談的回收利用是處理方向之一;在中學階段,對混合溶液處理的另一方向是調控溶液的pH、將混合組分加以分離提純。在《化學反應原理》之“難溶性物質溶解平衡”中,教材對此做了如下闡釋:

在無機化合物的制備和提純、廢水處理等領域中,常利用生成沉淀來達到分離或除去某些離子的目的。例如,除去硫酸銅溶液中混有的少量Fe3+,可向溶液中加入Cu(OH)2或Cu2(OH)2CO3,調整溶液的pH至3~4,Fe3+會全部轉化為Fe(OH)3除去。

雖然Cu(OH)2難溶于水,但Fe(OH)3的溶解度比Cu(OH)2小得多[在25℃時,Cu(OH)2的溶解度為1.73×10-6 g,而Fe(OH)3的溶解度為3.0×10-9 g],當溶液的pH超過5時,Cu2+才開始轉化為Cu(OH)2沉淀。因此,我們可以通過控制溶液的pH,達到除去Fe3+而讓Cu2+保留在溶液中的目的。

通過圖4可以看出,Fe(OH)3(s)、Cu(OH)2(s)分別在溶液中達到沉淀溶解平衡后,改變溶液pH,金屬陽離子濃度將發生變化。值得注意的是,由于Fe(OH)2為絮狀、不穩定沉淀,不易徹底沉降,為除去廢液中的Fe2+,常先將Fe2+氧化為Fe3+,再調節溶液的pH使Fe3+轉化為紅褐色的Fe(OH)3沉淀析出。

請回答以下問題:

(1)①銅帽溶解時加入H2O2的目的是(用化學方程式表示)。②銅帽溶解完全后,需將溶液中過量的H2O2除去。除去H2O2的簡便方法是 。

(2)已知pH>11時Zn(OH)2能溶于NaOH溶液生成[Zn(OH)4]2+。下表列出了幾種離子生成氫氧化物沉淀和沉淀完全時的pH(開始沉淀的pH按金屬離子濃度為1.0 mol·L-1計算)。

解析:在[實驗探究]部分,廢液中離子濃度求算:由8.61 g AgCl沉淀,知道10 mL廢液中含0.06 mol Cl-;由0.32 g Fe2O3,知道10 mL廢液中含0.004 mol Fe3+;觀察蝕刻反應的化學方程式,知道廢液中n(Fe2+)是n(Cu2+)二倍,進而推求各金屬離子濃度。

在[交流討論]部分,方案中不妥之處有兩點:一是加入鐵粉質量,丙同學忽略了Fe3+離子的存在;二是錯用了氧化Fe2+的試劑,我們可以選擇Cl2或30% H2O2溶液。對丙方案討論是否到位,將直接影響后面問題的解決。

在[拓展延伸]中,我們一要注意待處理廢液體積為1 L而非10 mL;二是要繪制的關系曲線縱橫坐標的含義;三是加入的鐵粉與廢液中離子反應順序是先Fe3+后Cu2+。

[拓展延伸]繪制的關系曲線如圖。當Cu2+離子的物質的量減少一半時,加入鐵粉的質量:w=[(1/2×0.40+0.08×1/2)]×1 L×56 g/mol=13.44 g。

綜上所述,我們分析了實現Fe3+與Fe2+相互轉化多種試劑的差別,對廢液中銅資源的回收,也介紹了三種不同的選擇方向[Cu、CuCl2(aq)、Cu2(OH)2CO3(s)];同時,透過例題的剖析,也折射出學生在處理問題時的思維缺陷。相信這對優化學生的思維品質、提升學生的解題能力非常有利。

參考文獻:

[1]王祖浩主編.普通高中課程標準實驗教科書·化學2 [M].南京:江蘇教育出版社,2012.

[2]王祖浩主編.普通高中課程標準實驗教科書·化學反應原理[M].南京:江蘇教育出版社,2013.

摘要:選擇了一系列以印刷電路板的制作、蝕刻廢液的再生等為素材的典型例題,并進行了詳細的解析,引導學生深入理解Fe3+與Fe2+相互轉化的原理,優化思維品質,提高解決問題的能力。

關鍵詞:Fe3+與Fe2+相互轉化;例題解析;思維優化;印刷電路板

文章編號:1005–6629(2014)1–0063–04 中圖分類號:G633.8 文獻標識碼:B

印刷電路板(PCB)(如圖1所示)的制作、蝕刻廢液的再生處理過程均涉及Fe3+與Fe2+的相互轉化。本文以此為素材、選取典型例題,分析轉化原理,加深學生對相關知識的理解,優化學生的思維品質,提高解決問題的能力。

1 PCB的制作——Fe3+被還原為Fe2+

結合圖2來說明印刷電路板的制作原理。取一塊敷銅板(單面敷有銅箔的樹脂絕緣板),除去銅片上的油污,洗凈、吹干,用棉簽蘸取少量飽和的FeCl3溶液,在銅片上畫一個“+”,放置片刻后,用少量水將銅片上的溶液沖到小燒杯中。在銅片上留下“+”字符號,發生反應:2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2。實際制作PCB時,先用油漆描電子線路,待油漆干后放入濃FeCl3溶液中。約20 min后,用鑷子取出,洗凈、吹干。用適當的溶劑清洗掉油漆,就得到用銅箔繪制在樹脂上的電路板。

分析印刷電路板蝕刻原理:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+,氧化性Fe3+>Cu2+,還原性Cu>Fe2+;分析“濕法冶金”原理:Fe+Cu2+=Fe2++Cu,氧化性Cu2+>Fe2+,還原性Fe>Cu。統合起來的總結論是:氧化性Fe3+>Cu2+>Fe2+,還原性Fe>Cu>Fe2+;這是高中階段最重要、必須透徹理解且熟練運用的氧化還原反應規律之一。

所以“有鐵無銅”的情況不可能出現。答案B。

值得注意的是,一是鐵是實現Fe3+向Fe2+轉化的最佳試劑,既不引入新雜質離子,過剩部分又容易過濾除去;二是認為“有鐵無銅”的情況不可能出現的原因是鐵能將溶液中的Cu2+置換出來,這種認識是與題意不符的,因為在鐵剩余情況下,銅根本沒有機會發生反應進入溶液。

2 蝕刻溶液的再生——Fe2+被氧化為Fe3+

印刷電路板是由高分子材料和銅箔復合而成,刻印電路時,常用過量的FeCl3溶液作為“蝕刻液”,所以在蝕刻廢液中含有FeCl3、CuCl2和FeCl2;由于電路板的需求量急劇增大,其生產過程中產生的廢液已對環境造成嚴重污染,處理廢液,從中回收銅、使蝕刻廢液再生是亟需解決的問題。

例2 (2012年12月徐州高三質檢試題)在電子工業中溶解銅的蝕刻液除FeCl3-HCl溶液外,主要還有H2O2-HCl溶液。蝕刻廢液中含有大量的Cu2+,廢液的回收利用不僅減少銅資源的流失,還可使廢液再生蝕刻能力。請回答以下問題:

(1)FeCl3溶液腐蝕銅的離子方程式 。

(2)H2O2-HCl型蝕刻液蝕刻過程中發生的化學反應用化學方程式可表示為 。

(3)用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑對蝕刻廢液進行處理,可回收銅并使蝕刻液再生。請分別寫出回收銅和再生蝕刻液過程中發生反應的離子方程式是 (有多少寫多少)。

(4)處理H2O2型廢液的方法之一是向廢液中加入NaHCO3,以制備Cu2(OH)2CO3。其反應的化學方程式為 。

解析:本題意在擴充介紹H2O2-HCl溶液溶解銅、使蝕刻溶液再生蝕刻能力和銅資源回收的措施之一。

答案:(1)2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+

(2)Cu+H2O2+2HCl=CuCl2+2H2O

(3)①Fe+2Fe3+=3Fe2+

②Fe+Cu2+=Fe2++Cu

③Fe+2H+=Fe2++H2↑

④2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-

(4)2CuCl2+4NaHCO3=Cu2(OH)2CO3↓+4NaCl+ H2O+3CO2↑

3 混合液(Fe3+、Fe2+和Cu2+)的分離

在制作PCB所得蝕刻廢液中含有FeCl3、CuCl2和FeCl2,上面所談的回收利用是處理方向之一;在中學階段,對混合溶液處理的另一方向是調控溶液的pH、將混合組分加以分離提純。在《化學反應原理》之“難溶性物質溶解平衡”中,教材對此做了如下闡釋:

在無機化合物的制備和提純、廢水處理等領域中,常利用生成沉淀來達到分離或除去某些離子的目的。例如,除去硫酸銅溶液中混有的少量Fe3+,可向溶液中加入Cu(OH)2或Cu2(OH)2CO3,調整溶液的pH至3~4,Fe3+會全部轉化為Fe(OH)3除去。

雖然Cu(OH)2難溶于水,但Fe(OH)3的溶解度比Cu(OH)2小得多[在25℃時,Cu(OH)2的溶解度為1.73×10-6 g,而Fe(OH)3的溶解度為3.0×10-9 g],當溶液的pH超過5時,Cu2+才開始轉化為Cu(OH)2沉淀。因此,我們可以通過控制溶液的pH,達到除去Fe3+而讓Cu2+保留在溶液中的目的。

通過圖4可以看出,Fe(OH)3(s)、Cu(OH)2(s)分別在溶液中達到沉淀溶解平衡后,改變溶液pH,金屬陽離子濃度將發生變化。值得注意的是,由于Fe(OH)2為絮狀、不穩定沉淀,不易徹底沉降,為除去廢液中的Fe2+,常先將Fe2+氧化為Fe3+,再調節溶液的pH使Fe3+轉化為紅褐色的Fe(OH)3沉淀析出。

請回答以下問題:

(1)①銅帽溶解時加入H2O2的目的是(用化學方程式表示)。②銅帽溶解完全后,需將溶液中過量的H2O2除去。除去H2O2的簡便方法是 。

(2)已知pH>11時Zn(OH)2能溶于NaOH溶液生成[Zn(OH)4]2+。下表列出了幾種離子生成氫氧化物沉淀和沉淀完全時的pH(開始沉淀的pH按金屬離子濃度為1.0 mol·L-1計算)。

解析:在[實驗探究]部分,廢液中離子濃度求算:由8.61 g AgCl沉淀,知道10 mL廢液中含0.06 mol Cl-;由0.32 g Fe2O3,知道10 mL廢液中含0.004 mol Fe3+;觀察蝕刻反應的化學方程式,知道廢液中n(Fe2+)是n(Cu2+)二倍,進而推求各金屬離子濃度。

在[交流討論]部分,方案中不妥之處有兩點:一是加入鐵粉質量,丙同學忽略了Fe3+離子的存在;二是錯用了氧化Fe2+的試劑,我們可以選擇Cl2或30% H2O2溶液。對丙方案討論是否到位,將直接影響后面問題的解決。

在[拓展延伸]中,我們一要注意待處理廢液體積為1 L而非10 mL;二是要繪制的關系曲線縱橫坐標的含義;三是加入的鐵粉與廢液中離子反應順序是先Fe3+后Cu2+。

[拓展延伸]繪制的關系曲線如圖。當Cu2+離子的物質的量減少一半時,加入鐵粉的質量:w=[(1/2×0.40+0.08×1/2)]×1 L×56 g/mol=13.44 g。

綜上所述,我們分析了實現Fe3+與Fe2+相互轉化多種試劑的差別,對廢液中銅資源的回收,也介紹了三種不同的選擇方向[Cu、CuCl2(aq)、Cu2(OH)2CO3(s)];同時,透過例題的剖析,也折射出學生在處理問題時的思維缺陷。相信這對優化學生的思維品質、提升學生的解題能力非常有利。

參考文獻:

[1]王祖浩主編.普通高中課程標準實驗教科書·化學2 [M].南京:江蘇教育出版社,2012.

[2]王祖浩主編.普通高中課程標準實驗教科書·化學反應原理[M].南京:江蘇教育出版社,2013.

摘要:選擇了一系列以印刷電路板的制作、蝕刻廢液的再生等為素材的典型例題,并進行了詳細的解析,引導學生深入理解Fe3+與Fe2+相互轉化的原理,優化思維品質,提高解決問題的能力。

關鍵詞:Fe3+與Fe2+相互轉化;例題解析;思維優化;印刷電路板

文章編號:1005–6629(2014)1–0063–04 中圖分類號:G633.8 文獻標識碼:B

印刷電路板(PCB)(如圖1所示)的制作、蝕刻廢液的再生處理過程均涉及Fe3+與Fe2+的相互轉化。本文以此為素材、選取典型例題,分析轉化原理,加深學生對相關知識的理解,優化學生的思維品質,提高解決問題的能力。

1 PCB的制作——Fe3+被還原為Fe2+

結合圖2來說明印刷電路板的制作原理。取一塊敷銅板(單面敷有銅箔的樹脂絕緣板),除去銅片上的油污,洗凈、吹干,用棉簽蘸取少量飽和的FeCl3溶液,在銅片上畫一個“+”,放置片刻后,用少量水將銅片上的溶液沖到小燒杯中。在銅片上留下“+”字符號,發生反應:2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2。實際制作PCB時,先用油漆描電子線路,待油漆干后放入濃FeCl3溶液中。約20 min后,用鑷子取出,洗凈、吹干。用適當的溶劑清洗掉油漆,就得到用銅箔繪制在樹脂上的電路板。

分析印刷電路板蝕刻原理:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+,氧化性Fe3+>Cu2+,還原性Cu>Fe2+;分析“濕法冶金”原理:Fe+Cu2+=Fe2++Cu,氧化性Cu2+>Fe2+,還原性Fe>Cu。統合起來的總結論是:氧化性Fe3+>Cu2+>Fe2+,還原性Fe>Cu>Fe2+;這是高中階段最重要、必須透徹理解且熟練運用的氧化還原反應規律之一。

所以“有鐵無銅”的情況不可能出現。答案B。

值得注意的是,一是鐵是實現Fe3+向Fe2+轉化的最佳試劑,既不引入新雜質離子,過剩部分又容易過濾除去;二是認為“有鐵無銅”的情況不可能出現的原因是鐵能將溶液中的Cu2+置換出來,這種認識是與題意不符的,因為在鐵剩余情況下,銅根本沒有機會發生反應進入溶液。

2 蝕刻溶液的再生——Fe2+被氧化為Fe3+

印刷電路板是由高分子材料和銅箔復合而成,刻印電路時,常用過量的FeCl3溶液作為“蝕刻液”,所以在蝕刻廢液中含有FeCl3、CuCl2和FeCl2;由于電路板的需求量急劇增大,其生產過程中產生的廢液已對環境造成嚴重污染,處理廢液,從中回收銅、使蝕刻廢液再生是亟需解決的問題。

例2 (2012年12月徐州高三質檢試題)在電子工業中溶解銅的蝕刻液除FeCl3-HCl溶液外,主要還有H2O2-HCl溶液。蝕刻廢液中含有大量的Cu2+,廢液的回收利用不僅減少銅資源的流失,還可使廢液再生蝕刻能力。請回答以下問題:

(1)FeCl3溶液腐蝕銅的離子方程式 。

(2)H2O2-HCl型蝕刻液蝕刻過程中發生的化學反應用化學方程式可表示為 。

(3)用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑對蝕刻廢液進行處理,可回收銅并使蝕刻液再生。請分別寫出回收銅和再生蝕刻液過程中發生反應的離子方程式是 (有多少寫多少)。

(4)處理H2O2型廢液的方法之一是向廢液中加入NaHCO3,以制備Cu2(OH)2CO3。其反應的化學方程式為 。

解析:本題意在擴充介紹H2O2-HCl溶液溶解銅、使蝕刻溶液再生蝕刻能力和銅資源回收的措施之一。

答案:(1)2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+

(2)Cu+H2O2+2HCl=CuCl2+2H2O

(3)①Fe+2Fe3+=3Fe2+

②Fe+Cu2+=Fe2++Cu

③Fe+2H+=Fe2++H2↑

④2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-

(4)2CuCl2+4NaHCO3=Cu2(OH)2CO3↓+4NaCl+ H2O+3CO2↑

3 混合液(Fe3+、Fe2+和Cu2+)的分離

在制作PCB所得蝕刻廢液中含有FeCl3、CuCl2和FeCl2,上面所談的回收利用是處理方向之一;在中學階段,對混合溶液處理的另一方向是調控溶液的pH、將混合組分加以分離提純。在《化學反應原理》之“難溶性物質溶解平衡”中,教材對此做了如下闡釋:

在無機化合物的制備和提純、廢水處理等領域中,常利用生成沉淀來達到分離或除去某些離子的目的。例如,除去硫酸銅溶液中混有的少量Fe3+,可向溶液中加入Cu(OH)2或Cu2(OH)2CO3,調整溶液的pH至3~4,Fe3+會全部轉化為Fe(OH)3除去。

雖然Cu(OH)2難溶于水,但Fe(OH)3的溶解度比Cu(OH)2小得多[在25℃時,Cu(OH)2的溶解度為1.73×10-6 g,而Fe(OH)3的溶解度為3.0×10-9 g],當溶液的pH超過5時,Cu2+才開始轉化為Cu(OH)2沉淀。因此,我們可以通過控制溶液的pH,達到除去Fe3+而讓Cu2+保留在溶液中的目的。

通過圖4可以看出,Fe(OH)3(s)、Cu(OH)2(s)分別在溶液中達到沉淀溶解平衡后,改變溶液pH,金屬陽離子濃度將發生變化。值得注意的是,由于Fe(OH)2為絮狀、不穩定沉淀,不易徹底沉降,為除去廢液中的Fe2+,常先將Fe2+氧化為Fe3+,再調節溶液的pH使Fe3+轉化為紅褐色的Fe(OH)3沉淀析出。

請回答以下問題:

(1)①銅帽溶解時加入H2O2的目的是(用化學方程式表示)。②銅帽溶解完全后,需將溶液中過量的H2O2除去。除去H2O2的簡便方法是 。

(2)已知pH>11時Zn(OH)2能溶于NaOH溶液生成[Zn(OH)4]2+。下表列出了幾種離子生成氫氧化物沉淀和沉淀完全時的pH(開始沉淀的pH按金屬離子濃度為1.0 mol·L-1計算)。

解析:在[實驗探究]部分,廢液中離子濃度求算:由8.61 g AgCl沉淀,知道10 mL廢液中含0.06 mol Cl-;由0.32 g Fe2O3,知道10 mL廢液中含0.004 mol Fe3+;觀察蝕刻反應的化學方程式,知道廢液中n(Fe2+)是n(Cu2+)二倍,進而推求各金屬離子濃度。

在[交流討論]部分,方案中不妥之處有兩點:一是加入鐵粉質量,丙同學忽略了Fe3+離子的存在;二是錯用了氧化Fe2+的試劑,我們可以選擇Cl2或30% H2O2溶液。對丙方案討論是否到位,將直接影響后面問題的解決。

在[拓展延伸]中,我們一要注意待處理廢液體積為1 L而非10 mL;二是要繪制的關系曲線縱橫坐標的含義;三是加入的鐵粉與廢液中離子反應順序是先Fe3+后Cu2+。

[拓展延伸]繪制的關系曲線如圖。當Cu2+離子的物質的量減少一半時,加入鐵粉的質量:w=[(1/2×0.40+0.08×1/2)]×1 L×56 g/mol=13.44 g。

綜上所述,我們分析了實現Fe3+與Fe2+相互轉化多種試劑的差別,對廢液中銅資源的回收,也介紹了三種不同的選擇方向[Cu、CuCl2(aq)、Cu2(OH)2CO3(s)];同時,透過例題的剖析,也折射出學生在處理問題時的思維缺陷。相信這對優化學生的思維品質、提升學生的解題能力非常有利。

參考文獻:

[1]王祖浩主編.普通高中課程標準實驗教科書·化學2 [M].南京:江蘇教育出版社,2012.

[2]王祖浩主編.普通高中課程標準實驗教科書·化學反應原理[M].南京:江蘇教育出版社,2013.

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