《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》課程教學(xué)探索

陳偉中++周前能　楊虹

摘 要 半導(dǎo)體制造工藝是半導(dǎo)體器件以及集成電路制備的基礎(chǔ)。《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》重點(diǎn)研究半導(dǎo)體器件以及集成電路的制備方法與流程，是微電子專業(yè)的核心課程。基于此，本文對(duì)《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》課程進(jìn)行探索。

關(guān)鍵詞 半導(dǎo)體制造工藝 課程探索

中圖分類號(hào)：G642 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1002-7661（2015）17-0001-02

《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》以施敏所著教程為例，該課程在對(duì)基本原理介紹的基礎(chǔ)上注重對(duì)工藝過(guò)程、工藝參數(shù)的描述以及工藝參數(shù)測(cè)量方法的介紹，并在半導(dǎo)體制造的幾大工藝技術(shù)章節(jié)中加入了工藝模擬的內(nèi)容，彌補(bǔ)了實(shí)踐課程由于昂貴的設(shè)備及過(guò)高的實(shí)踐費(fèi)用而無(wú)法進(jìn)行實(shí)踐教學(xué)的缺憾。故熟練掌握《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》將有助于我們加深對(duì)半導(dǎo)體制備的了解，為我們學(xué)習(xí)微電子專業(yè)打下堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。但目前《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》在教學(xué)過(guò)程中還面臨很多問(wèn)題。在此背景下，我們將對(duì)《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》課程進(jìn)行教學(xué)探索。

一、教學(xué)內(nèi)容的設(shè)置

《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》的第一章簡(jiǎn)要回顧了半導(dǎo)體器件和關(guān)鍵技術(shù)的發(fā)展歷史，并介紹了基本的制造步驟。第二章涉及晶體生長(zhǎng)技術(shù)。后面幾章是按照集成電路典型制造工藝流程來(lái)安排的。第三章介紹硅的氧化技術(shù)。第四章和第五章分別討論了光刻和刻蝕技術(shù)。第六章和第七章介紹半導(dǎo)體摻雜的主要技術(shù)；擴(kuò)散法和離子注入法。第八章涉及一些相對(duì)獨(dú)立的工藝步驟，包括各種薄層淀積的方法。……