


摘 要:統(tǒng)計過程控制(Statistical Process Control-SPC)是一種監(jiān)測產品工藝質量,提高工藝表現(xiàn)的一種方法。為了盡可能地提高工藝水平,減小產品缺陷,業(yè)界普遍采用SPC的方法,而Cpk則是SPC方法中最重要的一項參數,其值的高低反映工藝精準度及穩(wěn)定性。文章介紹了一種能夠實時計算和監(jiān)管工藝Cpk的方法,它替代了傳統(tǒng)的人工滯后的方式獲取Cpk的方式,從而更有效更實時地監(jiān)控和追蹤工藝能力的表現(xiàn),及時采取相關措施來修正工藝,從而實現(xiàn)產品利益的最大化。
關鍵詞:半導體;制造業(yè);工藝能力;分析;追蹤
1 介紹
當前,業(yè)界有很多可利用的SPC工具,如本公司使用的e-SPC系統(tǒng),該系統(tǒng)提供了一系列的計算和監(jiān)測功能來支持所需的SPC管控需求。然而,這些SPC的管控系統(tǒng)都缺少實時計算和監(jiān)控Cpk參數的功能,工程師想要獲得Cpk的指標,都需要采取滯后手動的方法,這樣既造成了人力的浪費,又導致了對工藝能力的監(jiān)控不及時。
2 當前SPC系統(tǒng)的介紹及不足
圖1所示是業(yè)界常用的工藝能力監(jiān)控框架,線上量測數據通過EAP先將數據傳入到MES系統(tǒng)當中,后通過鏈接反饋到e-SPC系統(tǒng)當中,通過SPC預先設置的各類規(guī)則計算Cpk并輸出對應圖表,當出現(xiàn)違反設置規(guī)則的OCAP時,會自動反饋到機臺端,及時采取相關處理措施。
當前的SPC系統(tǒng)只允許工程師手動獲得Cpk,如圖2所示,對于某個量測數據的監(jiān)控,只能通過手動選擇一段時間的量測數據,計算出該段時間的Cpk數據。該數據缺乏實時性,同時缺少Cpk偏離控制界線的對應觸發(fā),因此比較低效。
3 實時Cpk監(jiān)控的實現(xiàn)方法
文章提出的工藝能力實時分析追蹤系統(tǒng),它彌補了當前SPC系統(tǒng)的不足,建立了一個可以實時計算監(jiān)控Cpk,及時偵測工藝能力偏移并采取相關措施的新的系統(tǒng)框架。如圖3所示:線上機臺量測數據后通過EAP將數據傳入到MES系統(tǒng)當中,先通過Cpk實時監(jiān)控規(guī)則設置數據庫的相關判斷,將所得到的數據同前期數據整合,反饋到e-SPC系統(tǒng)當中得到實時Cpk值。當不符合預先設置的各類監(jiān)控規(guī)則時,會自動反饋到機臺端,及時采取相關措施。
下面具體討論實時Cpk的生成和實現(xiàn)方法,通過圖3框架可以看出,MES將量測數據送到Cpk實時監(jiān)控規(guī)則設置數據庫中,這里面包括工程師對不同產品特性預先設定實時Cpk的各種定義規(guī)則。通過這些關鍵信息,核心算法通過一系列的邏輯關系構建(如圖3所示),并通過移位寄存的方式來處理數據,從而實現(xiàn)先進先出的滾動數值。
關于移位寄存的算法,我們可以通過圖4中五點Cpk滾動數值作為范例進行說明。也就是說每五個數據點累計后,Cpk指標會被計算。系統(tǒng)會動態(tài)的創(chuàng)建一個存儲陣列,陣列的大小可以被工程師預先設定,數據從機臺輸出,并存儲到陣列當中,系統(tǒng)會持續(xù)的追蹤接收到的數據點的數量。當第五個數據點接收到的時候,e-SPC系統(tǒng)和相關的SPC規(guī)則會被激活,并根據這五個點得出相關的指標。而當第六個數據點作為新數據進入時,B1會取代A1的位置,將A1移出陣列,而隨著B1的進入,陣列會重新計算新的5點數據并激活相應的監(jiān)控規(guī)則,只要不斷的有新的數據點進入,這個循環(huán)會持續(xù)進行。
4 仿真結果
基于上面的理論和計算方法,我們通過仿真驗證得出實時Cpk的監(jiān)控結果,如圖5可以看出,通過預先設定的30點滾動數值和監(jiān)控規(guī)則,當實時Cpk出現(xiàn)連續(xù)多點向下的趨勢,或是偏離控制界線時,系統(tǒng)會自動檢測到異常,并發(fā)出觸發(fā)信號,采取相關措施。這樣,對線上產品工藝能力的監(jiān)控會更加的高效和及時。
5 結束語
文章介紹了一種更有效的工藝能力監(jiān)控方法,通過與傳統(tǒng)SPC系統(tǒng)相結合的方式,針對工藝能力表征參數Cpk,提出了實時Cpk的監(jiān)控方法,采用移位寄存的方式,來持續(xù)的計算新的Cpk值,并最終通過仿真結果得出了該方法的有效性和實用性。
感謝:文章感謝中芯國際集成電路制造(天津)有限公司產品質量部門的相關工程師對該方法的建議和指導。
參考文獻
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