平面近場測試中誤差的分析

陳玉林， 李輝煌

(孔徑陣列與空間探測安徽省重點實驗室，安徽 合肥 230088)

·工程應用·

平面近場測試中誤差的分析

陳玉林， 李輝煌

(孔徑陣列與空間探測安徽省重點實驗室，安徽 合肥 230088)

首先介紹了暗室中主要的誤差項，然后通過實際測試的方式，分析了其中四項誤差對超低副瓣天線-50dB副瓣的不確定度。結果對超低副瓣天線副瓣的誤差分析有一定的參考意義，有助于天線設計師了解超低副瓣天線測試中誤差項對副瓣的影響量級。

平面近場測試；誤差分析；超低副瓣天線

0 引言

低副瓣尤其是超低副瓣天線的測量技術是國內外學者十分關注的重大課題。天線近場測量技術作為一種將自動化測試與現代分析技術密切結合的方法，具有所獲信息量大、測試效率高、測試精度高、可全天候工作、易于保密等一系列的優點，代表著未來天線測量技術的主要發展方向，其研究進展情況一直為廣大天線測量工作者所關注。平面近場測量是近場測量技術中研究最早、應用最多的測量方法，已被廣泛用于測量天線的遠場輻射特性。如今，平面近場測量技術已被用來測量高性能天線以及超低副瓣天線，并且已被證實具有良好的測量精度[1]。

但任何測量技術都不可避免地會受到這樣或那樣的誤差源的影響，從而導致測量結果必然會存在著或多或少的誤差，平面近場測量技術也不例外[2]。為了保證平面近場測量的測量精度，必須找出影響它的誤差源并對各誤差源所產生的誤差進行分析，以便給出定量化的結果?！?br>