李磊偉, 呂 勇, 牛春暉, 郎曉萍
(北京信息科技大學 儀器科學與光電工程學院, 北京 100192)
近幾十年來,稀土摻雜光學材料發展迅速,廣泛應用于諸如生物醫學[1]、食品安全監測[2]、半導體照明[3]、太陽能電池[4]、光催化[5]等領域。它的推廣給人類帶來了極大方便。上轉換發光材料就是稀土摻雜光學材料的一個重要分支,它可以吸收低能量的長波輻射,而發射出高能量的短波輻射,即反Stokes效應[6]。一般情況下,可以選用波長較長的近紅外激光作為激發源,使得上轉換發光材料發出波長較短的可見光或者紫外光等。常見的上轉換發光材料一般以氟化物作為基質,這是因為氟化物自身具有較低的聲子能量,在一定程度上可以提高上轉換效率。由于氟化物本身具有較差的化學穩定性和較高的毒性,在工業生產中,常使用氧化物作為基質[7]。其中鈮酸釔(YNbO4)就是一種很穩定的化合物,它本身具有褐釔鈮礦型結構,可以看作是畸變的白鎢礦型結構。已經有許多專家、學者在做該方面研究[8]。
稀土離子Tm3+離子具有極為豐富的能級分布[9],常常被應用到紅外光器件和上轉換固體激光器當中。為提高發光效率,會在整個摻雜系統中加入敏化劑。Yb3+是一種最佳的敏化劑離子,它僅有一個2F5/2激發能級,位于980 nm附近,而且它的吸收截面較大,激發態壽命相對較長。可以有效地傳遞能量,使得Tm3+上轉換發光效率大大提升。
本文主要研究了Tm3+/Yb3+共摻組分的YNbO4粉末的上轉換發光性能和光譜特性。首先通過高溫固相法制備了摻雜Tm3+和Yb3+的YNbO4粉末。其次,在980 nm激光器的激發下,研究了粉末材料的上轉換發光特性和能量傳遞過程。最后,測試了粉末材料的吸收譜,利用研究固體摻雜稀土離子光譜性質的重要工具——Judd-Ofelt理論計算得到了譜線強度參數Ωt(t=2,4,6),并計算了粉末材料中Tm3+離子部分能級的躍遷幾率、躍遷分支比等參數。
采用高溫固相法制備材料樣品。將Nb2O5、Y2O3、Tm2O3、Yb2O3(以上藥品均由國藥集團化學試劑北京有限公司提供)按照50Nb2O5-(46-x)Y2O3-4Yb2O3-xTm2O3(x=0.1,0.2,0.5,1,2)的配比,稱取共計20 g原料,分別標記為1#、2#、3#、4#、5#。其中Nb2O5和Y2O3原料是分析純,Yb2O3和Tm2O3是光譜純。將原料放入研缽中充分研磨并混合均勻,裝入剛玉坩堝中,放入硅碳棒馬弗爐中加熱;使其在30 min內升高到1 300 ℃,并保持恒定2 h后立即取出,在空氣中冷卻。將冷卻后的樣品研磨后裝入樣品袋,用來測試光譜特性。
利用日立DMAX-3A型X射線衍射儀,Co Kα靶(λ=0.178 9 nm)進行材料樣品的分析,掃描范圍是10°~80°。分別對5個樣品進行測試,掃描結果如圖1所示,并將不同樣品的晶胞參數列于表1中。從實驗結果來看,摻雜濃度對晶胞參數影響不大,以摻雜0.1%摩爾分數的晶胞體積最小。

圖1 樣品的X射線粉末衍射圖
Tab.1 Crystal cell parameters of the samples with different Tm3+ion concentration

Tm3+摩爾分數/%a(b)/nmc/nmV/nm3YNbO40.55500.54200.294170.10.52250.50670.289480.20.53160.50470.292220.50.53220.50430.2935310.53250.50350.2912920.53160.50580.29338

在密閉暗箱中,采用980 nm激光器作為激發光源,照射到放在樣品架上的待測樣品;樣品受激發射產生上轉換光,被收集到單色儀入射狹縫;經過單色儀分光,不同波長的上轉換光從單色儀出射狹縫入射到光電倍增管內,經過光電倍增管轉換后的電信號值被計算機記錄。所有光譜測試實驗環境均為室溫。

圖2 漫反射光譜測試裝置結構圖
Fig.2 Measurement device structure of the diffuse reflection spectra

圖3 發射譜測試裝置系統框圖
Fig.3 System block diagram for measuring emission spectrum
實驗中采用980 nm激光器作為激發光源,激光的閾值電流為I0=0.55 A。當激光器工作電流小于I0時,無激光輸出;當激光器工作電流大于I0時,輸出功率和工作電流呈線性關系。如圖4所示,在980 nm激光器激發下,Tm3+/Yb3+共摻組分的YNbO4粉末在可見光范圍內上轉換光譜峰值分別為478,645,707 nm(可見光波段后仍然有峰值出現[11],由于本文只考慮可見光波段,故而后面的峰值不做考慮)。它們分別對應于Tm3+躍遷過程1G4→3H6、1G4→3F4、3F3→3H6。從1#到5#,Tm3+離子的摻雜濃度不斷增大,但是根據圖4(b)和表2中數據可以看到:其上轉換發光強度先增大,后減少。這表明,一開始隨著Tm3+離子濃度增加,Tm3+離子個數增加,從而增大了發光強度;但是隨著濃度的繼續增加,Tm3+離子間距縮小,產生濃度猝滅現象,導致發光強度降低。

圖4 Tm3+/Yb3+摻雜YNbO4樣品1#~5#的上轉換光譜。(a)整體光譜圖;(b)局部放大圖
Fig.4 Up conversion spectra of YNbO4doped Tm3+/Yb3+samples 1#-5#. (a) Overall spectrogram. (b) Local magnification.
表2Tm3+/Yb3+摻雜YNbO4樣品1#~5#在480nm處的峰值波長及相對強度
Tab.2 Peak wavelength and intensity at 480 nm of YNbO4doped Tm3+/Yb3+samples 1#-5#

樣品Tm3+摩爾分數/%峰值波長/nm相對強度1#0.1480572.52#0.2478661.13#0.5478749.34#1478696.35#2478581.8
為了更好地了解Tm3+的上轉換機制,對各部分的上轉換光發射強度與激光器功率之間的關系進行了研究。其中已知激光器輸出功率和本身工作電流成線性關系:
Pout=σ×(i-i0)n,
(1)
式中的σ為固定常數,i是激光器工作電流,i0是激光器閾值電流。稀土上轉換材料發光功率P與激光器輸出功率Pout的關系式為[12]
(2)
其中n為上轉換過程中所需吸收的光子數目。常見的有雙光子吸收和三光子吸收。將(1)、(2)兩式聯立可得:
P=kn×(i-i0)n,
(3)
將980 nm激光器照射到3#樣品上測得樣品的上轉換發射功率和激光器工作電流關系,擬合結果如圖5所示(圖中的實點表示實際測試數據)。
從擬合結果可知:在980 nm激光器的抽運作用下,Tm3+/Yb3+共摻組分的YNbO4粉末在可見光范圍內上轉換峰值在478,645,707 nm對應的n值分別為2.72,2.69,2.01,故而得出在478 nm和645 nm處為三光子吸收過程,707 nm處為雙光子吸收過程。具體來講,如圖6能級躍遷圖,Yb3+吸收一個980 nm光子發生2F7/2→2F5/2躍遷,并將激發態的能量傳遞給Tm3+的基態能級3H6,使其躍遷到3H5能級,處在該能級的Tm3+離子通過無輻射弛豫到達3F4能級。之后處在3F4能級的Tm3+離子通過吸收一個980 nm的光子或Yb3+傳遞過來的能量轉移到3F3能級,一部分Tm3+離子再由3F3躍遷到基態發射出707 nm的紅色光,該過程為雙光子吸收過程。另外一部分Tm3+離子繼續吸收一個980 nm的光子或Yb3+傳遞過來的能量躍遷到1G4能級,此時處在1G4能級上的Tm3+離子分別向3F4和基態3H6躍遷,從而產生了645 nm和478 nm光。該過程均為三光子吸收過程。

圖5 上轉換發射功率與980 nm激光器工作電流關系
Fig.5 Relationship of up-conversion emission power and 980 nm LD working current

圖6 YNbO4粉末中Tm3+和Yb3+離子的能級結構
Fig.6 Energy level structure of Tm3+and Yb3+ions in YNbO4powder
在稀土摻雜材料理論分析中常常會用到Judd-Ofelt理論。根據該理論可以推算出躍遷振子強度、自發躍遷幾率、躍遷分子比等光譜參數。
我們知道,實驗振子強度包括電偶極和磁偶極躍遷兩方面的貢獻,它可以用材料的吸收譜來表示:
(4)

(5)
(6)
式中α(λ)為吸收系數,l為材料的厚度,k(λ)為光密度。聯立式(4)、(5)、(6)可以得出實驗振子強度大小。
電偶極矩躍遷譜線強度為:
Sed=∑t=2,4,6Ωt|〈4fNψJ‖U+‖4fNψ′J′〉|2,
(7)
式中,‖U+‖是約化矩陣張量算符,|〈4fNψJ‖U+‖4fNψ′J′〉|2是電偶極約化矩陣元,基本不隨基質變化;Ωt是譜線振子強度參數,和基質材料配位性質有關。
電偶極矩躍遷的譜線振子強度可以表示為:
(8)
式中,m是電子質量,c是真空中的光速,h是普朗克常量,J是躍遷初態能級的總角量子數。
理論上講,我們有
fexp=fed+fmd,
(9)
其中fmd為磁偶極矩躍遷譜線振子強度大小,但是對于大多數稀土離子的能級躍遷,磁偶極矩的作用常常可忽略不計。那么,fexp≈fed。由式(4)、(7)、(8)進行最小二乘法擬合,得到譜線強度參數Ωt。進而,可計算出理論振子強度:
(10)
擬合后的結果用均方根偏差δrms衡量,為
(11)
式中,∑(Δf)2是實驗振子強度和理論振子強度的差方和,Ntran是觀測到的基態吸收躍遷數目,Npara是計算參量數目。

(12)
同樣,我們將磁偶極躍遷忽略,得出ψJ到ψ′J′能級之間自發輻射幾率為AJJ′≈Aed。所對應的躍遷分支比為:
β[J,J′]=AJJ′/[∑J′AJJ′],
(13)
能級ψJ的壽命τ可根據該能級到所有下能級ψ′J′的自發輻射躍遷幾率和得到:
τ=1/[∑J′AJJ′].
(14)
根據計算得出的Tm3+/Yb3+摻雜YNbO4的吸收光譜結果如圖7所示。

圖7 YNbO4粉末中Tm3+的吸收譜
由圖7可知,Tm3+/Yb3+摻雜YNbO4的主要吸收峰值包括456,686,792,980 nm,共計4個吸收峰值,分別對應于Tm3+離子從基態3H6躍遷到1G4、3F2,3、3H4和Yb3+離子從基態2F7/2躍遷到2F5/2。在實驗中,由于很難測試粉體的折射率n、吸收光程l以及稀土摻雜濃度N,所以采用文獻[13]中YNbO4晶體在可見光波段內折射率平均值n=2.4。根據離子濃度計算得到的稀土摻雜濃度N≈1.7×1019cm-3,測量樣品厚度約為0.6 cm,考慮到光先透射再反射及粉末樣品15%光程增加[14],則吸收光程l=1.38 cm。Tm3+約化矩陣元由文獻[15]得到,采用最小二乘法擬合得到YNbO4粉末中Tm3+譜線強度參數Ωt(t=2,4,6)為:Ω2=6.010×10-20,Ω4=1.737×10-20,Ω6=5.803×10-21。
根據J-O理論,我們知道Ωt(t=2,4,6)是反映材料的結構性質的重要參數。其中Ω2對周圍基質場敏感,它與材料的結構及配位場的對稱性、有序性密切相關,它表征材料的共價性,Ω2數值小的材料,表征材料的共價性強。表3列舉出部分文獻中介紹的摻雜Tm3+晶體的強度參數值,相比之下本文所制備的材料Ω2數值較大,除比晶體NaY(WO4)2中Ω2小之外,比表3中其余晶體的Ω2數值均大,這表明該材料中Tm3+離子受到周
圍離子極化作用較強,周圍環境的非對稱性較高,具有良好的吸收特性及上轉換發光特性;Ω4/Ω6與離子所處的晶體場有關,比值越大,表明晶體場的五次項相對晶場的三次項越小,本文中Ω4/Ω6的值為2.993,比表3列出YAlO3、BaWO4的Ω4/Ω6的值小,比其余晶體中Ω4/Ω6值均大。由公式(12)~(14)計算了Tm3+從基態3H6躍遷到1G4、3F2、3F3、3H4的實驗振子強度fexp和理論振子強度fcal,并將結果列于表4。

表3 部分摻雜Tm3+晶體強度參數Ωt

表4 實驗振子強度和理論振子強度
從表4中可以看出,采用J-O理論得到實驗振子強度和理論振子強度比較接近,表明在計算稀土離子光譜特性方面的適用性。根據公式(11)得到兩者的均方根偏差δrms=1.299×10-7,根據公式(12)~(14),并采用文獻[23]中的約化矩陣元,計算得到Tm3+僅考慮電偶極矩近似模式下,從上能級1D2到下能級的躍遷幾率、躍遷分支比和能級壽命,將結果列于表5。

表5 Tm3+能級的躍遷幾率、躍遷分支比
在實際激光器的設計中,躍遷分支比是一個重要參數,它表征了Tm3+從高能級遷到某個低能級的概率大小,從而反映出發射某種波段光的幾率大小。從表5中可以看出:(1)3H5能級壽命較長,可用于激光上能級,并且3H5→3H6躍遷分支比(96.46%)接近100%,可以用于產生1 216 nm激光;(2)3F4能級壽命較長,適合作為上轉換中間能級。
本文采用高溫固相法制備了Tm3+/Yb3+共摻組分的YNbO4粉末,具體研究了該材料在980 nm激光器激發下的能級躍遷及其吸收特性。首先,在980 nm激光激發下,根據樣品的上轉換發射功率隨著激光器工作電流關系的擬合曲線,得到了波長為456,686,792 nm,對應的吸收光子數
目分別為3,3,2;其次利用Judd-Ofelt理論計算樣品的光譜特性,由最小二乘法擬合得到Tm3+/Yb3+共摻組分的YNbO4粉末中Tm3+的譜線參數Ωt(t=2,4,6),得到實驗振子強度和理論振子強度,及二者均方根偏差。最后求出在僅考慮電偶極矩近似模式下的Tm3+能級的躍遷幾率、躍遷分支比等參數。結果表明:(1)3H5能級壽命較長,可用于激光上能級,并且3H5→3H6躍遷分支比(96.46%)接近100%,可以用于產生1216 nm激光;(2)3F4能級壽命較長,適合作為上轉換中間能級。
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李磊偉(1991-),男,河北張家口人,碩士研究生,2015年于河北邯鄲學院獲得學士學位,主要從事發光材料/隱身材料方面的研究。

E-mail: 2279428962@qq.com牛春暉(1976-),男,山西運城人,博士,副教授,2005 年于中國科學院物理研究所獲得博士學位,主要從事發光材料、激光玻璃以及光電隱身材料的研究。
E-mail: niuchunhui@bistu.edu.cn