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半導體硅片的品質工藝與產品質量研究

2018-10-27 10:54:04楊玉梅
山東工業技術 2018年17期
關鍵詞:產品質量

摘 要:近年來,我國的半導體技術獲得了飛速的發展,再加上國家給予的有力支持,國內的半導體產業逐漸發展壯大,但與國外相比,還存在較大差距,還需進一步提高產品質量。因此,本文就半導體硅片的品質工藝與產品質量展開研究,希望為我國半導體產業的發展提供一定借鑒。

關鍵詞:半導體硅片;品質工藝;產品質量

DOI:10.16640/j.cnki.37-1222/t.2018.17.055

隨著電子產業的發展,半導體材料獲得了大量的應用,有效的促進了國內半導體行業的發展壯大。但隨著競爭的加劇,也突顯出了生產技術以及產品質量等方面的不足。在今后的發展中,相關企業必須加大創新力度,優化產業結構,提高產品質量。

1 半導體材料概述

1.1 半導體材料

半導體,是一種在導電性上介于金屬與絕緣體之間的材料。其中,由一類元素構成的半導體被稱作元素半導體,比如 Si 和 Ge。硅是當前電路生產中使用最普遍的一種半導體材料,而且應用前景廣闊。

1.2 半導體材料的生長

(1)區熔硅單晶。這是晶體生長的常用方法之一,不需要坩堝,因此也就避免了污染的產生,能夠生成雜質含量非常低的單晶,也可用來進行提純處理。

(2)直拉硅單晶。這種方法是將材料放入坩堝中,經過加熱將其熔化,將籽晶加入其中,不斷旋轉,依靠其中的溫度梯度生成單晶。該種方法的效率非常高,且容易實現大直徑化。

(3) MCZ 法硅單晶。這種方法也是直拉法的一種,它是在常規方法中添加了一個強磁場,以有效抑制熱對流,實現單晶的生長。該種方法可有效的減少氧含量,提高電阻率均衡性。

1.3 半導體的型號

在單晶生產過程中,根據摻雜元素的不同,可以將其分為以下兩類:P 型與 N 型。半導體的型號是非常重要的,是生產有關器件的關鍵依據,在很大程度上影響器件的性質,因此必須劃分清楚。

1.4 晶向

在常壓下,單晶有著不變的熔點、沸點以及結構。在研究過程中,人們將晶格的排列進行了劃分。而在其生長過程中,單晶是沿著一定的晶向生長的,最終實現晶格的規則化排列。

2 半導體硅片的品質工藝

2.1 檢驗的分類

為確保產品的質量,需要在半導體生產制造的各個環節進行檢驗,根據加工中形態的不同,可分為晶體檢驗、晶片檢驗。

對單晶進行一定的加工處理,得到半成品切片,再通過多個步驟的數據檢驗后,進行磨片加工,接著是清洗工序,等待出廠,進入到最后的檢驗環節。

2.2 檢驗的項目

(1)直徑。一般用到的是卡尺,具體方法為:首先進行數據校準,接著將其推緊,使得長腳一側的兩個內平面緊緊貼合,不能留有縫隙,最后讀出測定的數值。如果存在誤差,則要記得將誤差排除在外。

(2)型號。一般用到的是導電類型測試儀,具體方法為:首先開機預熱一段時間,接著是進行校對。使用冷熱探針輕觸硅片表面,觀察顯示結果為 N 或 P ,即得到了產品的型號。

(3)晶向。一般用到的是X 射線定向儀,具體方法為:首先也是進行數據校對,接著可根據指導文件進行操作,該過程要注意的一點是,避免X射線正對任何人。

(4)厚度。一般用到的是千分表,具體方法為:使用標準樣片進行校對,若數值存在誤差,則進行轉動,使其數值一致,才能進行后續的測量。一般取中心點的厚度為最終的測量值。

2.3 不合格硅片的處理

在產品檢驗過程中,難免會出現不合格產品,對其要進行專門的歸類,并注意保護好表面,不可以用手直接觸摸,以用于后續的改檔。廢品應標明型號、不合格原因等內容,并按其所屬類別進行分類,比如:可返修產品、不可返修產品等。經統一整理后,進行封裝。

2.4 硅片的出廠封裝

經過嚴格的檢驗后,確保硅片的有關參數及外形符合標準,按照客戶的要求選用泡沫盒或是塑料盒進行封裝,每盒也有一定的數量要求,并在相關文件上標明其具體的規格、參數,并記錄追溯,以用于后續的查詢。

3 質量跟蹤與反饋處理

3.1 質量跟蹤

從簽訂訂單開始,就由市場部、研發部等部門共同協調跟蹤執行,一方面要與客戶溝通好,充分了解其需要的產品用途,從而能夠最大程度的滿足客戶的要求,另一方面要將得到信息盡快反映給研發部門,結合產品的具體用途,設計生產方案,并盡快交付生產,最后進行嚴格的檢驗,確認產品質量合格后出廠。

其中,在生產方案的設計過程中,還要考慮到現有的生產技術、設施,以進行科學、合理的規劃;在產品生產階段,要安排專門人員進行定期檢測;進行最后的檢驗時,要采取分類測試的方法,最終封裝交付。實踐表明,不同部門間的協調溝通非常重要,只有做到信息交流的通暢,才能及時發現產品存在的問題,進而提高產品質量。

3.2 反饋處理

在出現反饋情況時,市場部首先得到相關信息,并由其通知品質部按照產品的出廠信息進行追溯,查找有關的生產記錄,并聯系其他部門共同分析其中的原因,如果判斷得出是工藝方面的原因,則由研發部門對生產工藝進行檢查,確認問題所在并及時糾正;如果是生產方面的原因,則由制造部門檢查生產環節是否存在疏漏,進行認真的分析并提交報告,同客戶進行充分的溝通解決。同時,對生產中的產品進行質量評估,提出解決方案,以確保后續產品的質量。

4 結語

總的來說,隨著科技的進步,半導體材料的重要性愈加凸顯,其已成為社會發展進步的重要物質基礎。因此,在生產過程中必須確保半導體硅片的產品質量,而隨著硅單晶純度的提升,缺陷有所減少,精度以及工藝水準不斷提高,將進一步推動半導體產業的發展。

參考文獻:

[1]寇文杰,王曉飛.半導體硅片退火后檢測工藝的發展探討[J].電子測試,2015(13):83-84.

[2]王艷茹,李賀梅.半導體硅材料的清洗方法[J].天津科技, 2017,44(05):56-58.

[3]陳培倉,徐政,李俊.CMOS工藝中等離子體損傷WAT方法研究[J].電子與封裝,2016,16(06):31-35.

作者簡介:楊玉梅(1989-),女,陜西榆林人,學士,助理工程師,研究方向:質量管理。

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