鞏建輝,騫龍江,王晨豐
(商洛職業(yè)技術學院機電工程系,陜西 商洛726000)
超聲相控陣技術是通過調(diào)整陣列不同位置陣元的輻射聲信號的相位,從而實現(xiàn)陣列輻射聲場的偏轉和聚焦[1]。由于該技術能夠方便、靈活的控制聲束的聚焦位置,所以被廣泛的應用于醫(yī)學的診斷和治療、無損檢測等領域,對相控陣聲場的研究是相控陣技術應用的基礎,也是眾多學者關注的熱點。1998年Wooh研究了相控線陣的聲壓分布,并討論了線陣的設計參數(shù)[2-3];2002年Song利用瑞利積分和駐相法,得到了相控陣發(fā)射聲場的表達式[4];2009年Zhao提出了非近軸多元高斯模型,計算了控陣發(fā)射聲場[5];這些方法相對復雜,不夠直觀。
此研究以矩形陣元輻射的聲場為基礎,依據(jù)Huygen’s原理和聚焦、偏轉法則[6],計算了基于矩形陣元的相控陣的聲場分布表達式,利用Matlab軟件繪制了其三維和二維的聲壓分布圖,并分析討論了陣元的寬度、間距、數(shù)目等參數(shù)對相控陣聲場的影響。
這里以矩形活塞聲源為陣元構成一維線陣,以陣列中心O為原點,陣列長度方向為x軸,寬度方向為y軸建立直角坐標系如圖1所示。陣元的寬度為w,長度為l,相鄰兩陣元中心間隔距離為d.設P為聲場中的任意一點,P′為P在xoy平面的投影點,P與z軸的夾角為θ,P′O與x軸的夾角為φ.陣列由N個陣元組成,最左邊的陣元編號為0,最右邊的為N-1.

圖1 相控陣的結構
對于單個矩形陣元,輻射聲場的聲壓表達式為[7]

其中 k、ρ、c、u分別表示波數(shù)、媒質(zhì)密度、波速、振源的振速。依據(jù)Huygen’s原理,一維相控線陣輻射的聲場為每個矩形陣元輻射聲場的疊加,則該一維相控線陣聲場的聲壓表達式為

其中rn為第n個陣元中心到任意場點P的距離,由幾何關系可得到:

由相控偏轉陣聚焦法則,可得第n個陣元相對于第0個陣元的輻射時間延遲為[8]

其中θp為相控陣聲束的偏轉角度,F(xiàn)為焦距(即陣列中心到焦點的距離)。
以 Matlab 軟件為工具,根據(jù)表達式(2)、(3)、(4)對一維相控陣偏轉聚焦聲場進行仿真[9-10]。取頻率f=3 MHz,陣元寬度w=0.8 mm,陣元長度l=8 mm,陣元中心間距為d=0.85 mm,陣元振速u=1 000 m/s,聲速 c=5 000 m/s,介質(zhì)密度 ρ=7.8 × 103kg/m3,陣元數(shù) N=32,θp=pi/6,焦距 F=0.5 m,聲場仿真的結果如圖2所示。

圖2 相控陣的聲壓分布
圖2 中的(a)為相控陣三維聲壓分布圖,(b)為(a)的俯視圖,從圖可以看出聲場的能量主要集中在φ=0的位置,其中在φ=0,θp=pi/6的位置,聲壓最高,也就是焦點位置,這正是給陣元延時后的偏轉聚焦效果。
為了獲得良好的聚焦效果,下面分析討論相控陣的參數(shù)對輻射聲場的影響,為了研究觀察方便,讓φ=0即可得到xoz平面上聲壓的分布。
取頻率f=5 MHz,陣元寬度w=0.3 mm,陣元長度l=2 mm,陣元振速u=1 000 m/s,聲速c=6 320 m/s,介質(zhì)密度 ρ=7.8×103kg/m3,陣元數(shù) N=65,焦距F=0.05 m,θp=0陣元中心間距d分別取0.4 mm,0.8 mm,0.12 mm所得的聲壓分布如圖3(a),(b),(c)所示,由圖可以看出,焦點在預計位置,其坐標為(0,0.05 m),在保持其他參量不變的情況下,隨著陣元中心間距d的增大,焦點區(qū)域逐漸縮小,聚焦性能變強,但是不是d越大越好,d值過大,就會出現(xiàn)柵瓣,能量就會分散,這樣在相控陣成像系統(tǒng)中將會使成像的質(zhì)量變差[11]。

圖3 聲壓分布隨陣元間距的變化
陣元間距d取0.6 mm,偏轉角度θp=pi/6,焦點坐標為(0.03 m,0.05 m),陣元數(shù) N 分別取 33,65,129,其他參數(shù)不變,所得的聲壓分布如圖 4(a),(b),(c)所示。

圖4 聲壓分布隨陣元個數(shù)的變化
由圖可以看出,經(jīng)相控偏轉聚焦后,焦點在預計位置,在保持其他參量不變的情況下,隨著陣元個數(shù)N的增大,焦點區(qū)域逐漸縮小,聚焦性增強,使主聲束能量增加,相控陣成像系統(tǒng)而言,可以提高空間成像的分辨率[12],但是不能過多的增加陣元個數(shù),否則將會使成像系統(tǒng)過于復雜。
陣元間距d取0.9 mm,陣元數(shù)N取33,偏轉角度 θp=pi/6,焦點坐標為(0.03 m,0.05 m),陣元寬度w分別取0.2 mm,0.6 mm,0.8 mm,其他參數(shù)不變,所得的聲壓分布如圖 5(a),(b),(c)所示。
由圖可以看出,經(jīng)相控偏轉聚焦后,隨著陣元寬度的增大,對主聲束的影響不大,但是焦點區(qū)域的聲壓略有增加,柵瓣則不斷的減小,因此在相控陣應用中,在調(diào)好陣元間距的情況下,使陣元寬度僅可能大[13],但始終不能大于間距。
陣元間距d取0.8 mm,陣元寬度w取0.5 mm,偏轉角度θp=0,陣元數(shù)N取33,焦距分別取0.03 m,0.06 m,0.08 m,對應焦點坐標為(0,0.02 m),(0,0.05 m),(0,0.08 m)其他參數(shù)不變,所得的聲壓分布如圖6(a),(b),(c)所示。

圖6 聲壓分布隨焦距的變化
由圖可以看出,在保持相控陣幾何參數(shù)不變的情況下,隨著焦距的增大,焦點區(qū)域不斷變大,在大于0.06 m的區(qū)域里,聚焦性能變差,其中(a)的聚焦效果最優(yōu),當然焦距也不能小于近場檢測區(qū)域的最小值,因此在相控陣應用中,應該結合相控陣系統(tǒng)的多項指標合理的選擇焦距。
以矩形活塞聲源輻射設聲場理論為基礎,利用Huygen’s疊加原理,得到了基于矩形活塞陣元的一維相控線陣聲壓分布表達式。對相控線陣輻射聲場進行了仿真和分析,得出以下結論:利用Matlab軟件對相控線陣聲場可視化,依據(jù)三維、二維聲壓分布圖,能夠直觀的了解相控陣聲場的特點,便于對相控陣聲場的研究;隨著陣元間距的增大,焦點區(qū)域逐漸縮小,但會出現(xiàn)柵瓣;陣元數(shù)目增加,聚焦性能增強;陣元的寬度對主聲束的影響不大,但對柵瓣影響明顯;焦距超過一定值時,聚焦效果明顯變差,應結合系統(tǒng)參數(shù),合理選取焦距。此研究為超聲相控陣的設計,提供了理論參考,有一定的實際意義。