超窄邊框觸摸屏功能片工藝探討

陳絨

摘? ?要：電容式觸摸屏誕生以來，經(jīng)過10來年的發(fā)展，已經(jīng)顛覆了人類生活方式。隨著科技不斷發(fā)展，它可能更大，更輕，更軟，可折疊等。本文主要探討超窄邊框觸摸屏功能片的工藝。功能片加工主要采用鐳射光刻加工方式，在導(dǎo)電薄膜金屬區(qū)域與其它區(qū)域采用鐳射蝕刻出觸摸功能片的線路圖形。金屬區(qū)域的線寬與線距為0.012～0.024mm，比傳統(tǒng)工藝的0.020～0.030mm縮小約40%，同時采用微米級激光設(shè)備蝕刻，對位置公置進(jìn)一步減少，達(dá)到超窄邊框的效果。

關(guān)鍵詞：電容式摸屏? 超窄邊框? 功能片? 線寬

中圖分類號：TP334? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?文獻(xiàn)標(biāo)識碼：A? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 文章編號：1674-098X（2019）10（c）-0078-02

2012年之前，XPS的邊框看起來十分厚重，09款的XPS 13有著不下1cm的邊框厚度，2012年的XPS 13就已經(jīng)把邊框縮減到了1cm以下了，2015年，XPS 13的邊框更是已經(jīng)快接近于全面屏的屏占比。全面屏將成為了筆記本屏幕，電視屏幕或其它終端的未來趨勢之一，它不僅滿足了人們對于視覺效果和高效生活的需求，還將提供更多潛在的交互方式。

1? 超窄邊框觸摸屏功能片結(jié)構(gòu)分析

現(xiàn)有傳統(tǒng)GFF觸控模組應(yīng)用于劉海屏顯示模組表面之后，因傳統(tǒng)觸控模組除顯示區(qū)域外，走線都為絲印銀漿走線，絲印銀漿走線由于工藝的特性無法形成小于一定距離的左右邊框，實現(xiàn)不了高屏占比的性能。

本文主要從銀漿噴墨技術(shù)與鐳射蝕刻技術(shù)為基礎(chǔ)，論述超窄邊框（見圖2）觸摸屏功能片的制造工藝技術(shù)。

2? 超窄邊框觸摸屏功能片技術(shù)分析

2.1 噴墨技術(shù)

噴墨印刷技術(shù)作為一項高效環(huán)保的數(shù)字化印刷技術(shù)，得到越來越高的關(guān)注，業(yè)內(nèi)普遍認(rèn)為噴墨印刷技術(shù)將是數(shù)字化印刷的必然發(fā)展趨勢（見圖1）。然而與已經(jīng)成熟的多Pass噴墨印刷設(shè)備不同，單Pass噴墨印刷設(shè)備在數(shù)據(jù)帶寬、數(shù)據(jù)在線重構(gòu)、高精度同步控制、噴嘴在線補償?shù)确矫嬗兄鴺O高的技術(shù)要求[1]。傳統(tǒng)絲印工藝加工出來的銀漿，銀漿厚度偏厚，均勻性不好（一般厚度為0.004～0.006mm），且在工藝生產(chǎn)中存在顆粒狀形狀或異物（0.010～0.030mm）。絲印銀漿后使用鐳射光刻工藝加工一般只能加工出0.03/0.03mm線寬線距的線路，難以加工出更細(xì)（0.015/0.015mm）線路[2]。本文介紹使用噴墨的方式，把銀/銅液體噴涂在雙面導(dǎo)電薄膜的第一面上，使用100℃～150℃高溫烘烤與采用UV光照固化，形成導(dǎo)電金屬區(qū)域圖形，其厚度可控在約0.001mm。

2.2 鐳射蝕刻技術(shù)

隨著集成度的不斷提高，人們對光刻技術(shù)（見圖3、圖4）分辨率要求也越來越高[3，4]。本文論述一種激光加工技術(shù)，使用一種激光蝕刻的加工，在導(dǎo)電薄膜金屬區(qū)域與其它區(qū)域蝕刻出觸摸屏功能片線路。金屬區(qū)域的線寬與線距為0.012～0.024mm，比傳統(tǒng)工藝的0.020～0.030mm縮小約40%，同時采用微米級激光設(shè)備蝕刻，對位置公置進(jìn)一步減少，達(dá)到超窄邊框的效果。

3? 結(jié)語

超窄邊框是電容式觸摸屏制造生產(chǎn)關(guān)鍵技術(shù)之一，屏占比大小的提升，屏幕的厚度、制造技術(shù)都與其能否被安全使用息息相關(guān)，如筆記本作為一種移動使用的電子產(chǎn)品，更需要一個安全可靠的屏幕的，從開始一圈屏幕邊框，到現(xiàn)在全面屏的出現(xiàn)，都是技術(shù)的積累。本文給合了噴墨技術(shù)與鐳射蝕刻技術(shù)優(yōu)勢。可以加工出超窄邊框的觸摸功能片，比傳統(tǒng)工藝的0.020～0.030mm縮小約40%。

參考文獻(xiàn)

[1] 溫曉輝，陳華慧，呂昌，等.數(shù)字噴墨印刷關(guān)鍵技術(shù)及其實現(xiàn)[J].影像科學(xué)與光化學(xué)，2019，37（3）：227-233.

[2] 王永秋.影響絲網(wǎng)印刷質(zhì)量的工藝參數(shù)分析[J].網(wǎng)印工業(yè)，2018（1）：34-37.

[3] 張新宇，易新建，起興榮，等.微透鏡制作中光刻膠與襯底匹配行為的研究[J].光子學(xué)報，1998（1）：60-64.

[4] 李寒松，丁玉成，王素琴，等.冷壓印光刻中高分辨率抗蝕劑的研究[J].西安交通大學(xué)學(xué)報，2003（7）：750-753.