王 濤,黎學明,熊林利,徐 珂,楊文靜,倪 婕
(重慶大學 化學化工學院,重慶 401331)
隨著科技的迅速發展,日常中人們使用導航、通信、工業器械及家用電器等電子設備越來越多,這種人為電磁干擾源會不同程度的產生電磁輻射[1]。電磁輻射不僅造成精密儀器之間的相互電磁干擾(Electromagnetic Interference EMI),而且對人體健康也會造成一定危害[2]。為了避免或減弱電磁輻射的影響,可使用電磁屏蔽材料進行防護。然而傳統的金屬電磁屏蔽材料加工性差、形狀固定且密度大。因此,開發質量輕且易裁剪的織物屏蔽材料成為高效防電磁輻射的一個重要研究方向[3-4]。PA66(聚酰胺,俗稱尼龍66)織物具有密度小、耐腐蝕、易加工且價格低的優點,所以實驗選擇用PA66做基底,制備輕質電磁屏蔽材料[5-7]。
目前,已經提出各種在紡織品上金屬化制備電磁屏蔽織物技術,包括噴涂,濺射涂層,真空沉積,電鍍和化學鍍[8-10]。化學鍍織物由于其具有優異的導電性和加工性,得到廣闊的應用[11]?;瘜W鍍銀織物除具有極強的導電和電磁屏蔽效能外,還具有制備工藝簡單,但是銀價格較貴?;瘜W鍍鎳織物表面的金屬鎳化學穩定性好,同時具有穩定的導磁性,但是導電性沒有銀好[12]。所以選擇化學鍍Ag-Ni制備復合電磁屏蔽材料,可以結合兩者的優勢。
選用PA66平紋織物,紗線經緯密度Tj=Tw=3.3 tex,織物面密度為40g/m2。所用的化學試劑均為分析純。
場發射掃描電子顯微鏡(JSM-7800F,日本),X-射線光電子能譜儀(XRD-6000,日本)、綜合物性測量儀(Dyna cool T,美國)、法蘭同軸屏蔽效能測試儀(DR-SO1,中國)、AUTOL AB(AUTO302N,瑞士)。
PA66基底呈疏水性、表面惰性及無潤濕性等特點,表面活化能較高,很難直接進行化學鍍,因此化學鍍前必須對其進行表面預處理[13]。PA66單根纖維基底預處理主要示意圖如圖1所示,預處理溶液與操作條件如表1所示,所有反應溫度均為室溫,用蒸餾水做溶劑,其中每一處理步驟后均需用去離子水沖洗干凈。

圖1 PA66單根纖維基底表面化學鍍前預處理示意圖

表1 預處理配方及操作條件

表2 化學鍍銀的配方
化學鍍銀、鍍鎳溶液的基礎配方見表2和表3。化學鍍銀液由銀氨溶液組分和還原性組分組成,為了控制化學鍍銀的速度,還需加入一定量的穩定劑硫脲,反應時將銀氨溶液逐滴加入還原液中,銀氨溶液和還原體積比為1∶1。化學鍍銀的反應溫度為15 ℃,化學鍍鎳的反應溫度為65℃。

表3 化學鍍鎳的配方操作條件
表4顯示了基底PA66, PA66/Ag(PA66化學鍍銀),PA66/Ni(PA66化學鍍鎳),PA66/Ag-Ni(PA66復合鍍銀-鎳)和PA66/Ni-Ag(PA66復合鍍鎳-銀)織物樣品的重量。以PA66織物為基底制備的復合電磁屏蔽材料具有密度低的性能,遠低于其它文獻制備的屏蔽材料。結果表明,隨著鍍層的增加,織物樣品的重量增加,這歸因于化學鍍過程的性質。同時可以看出相同條件下PA/Ag-Ni比PA/Ni-Ag的質量高,這表明Ni沉積于Ag上比Ag沉積于Ni上要相對容易。

表4 樣品面密度(a)PA66,(b) PA66/Ag, (c)PA66/Ni,(d) PA66./ Ag-Ni,(e) PA66 / Ni-Ag

圖2 不同鍍層形貌 (a) PA66/Ag,(b) PA66/Ni,(c) PA66/Ni-Ag, (d) PA66/Ag-Ni
采用化學鍍在PA66表面沉積Ag, Ni, Ag-Ni,Ni-Ag后的形貌如圖2所示,四種鍍層表面都具有典型的球狀結構。圖2(a)PA66/Ag,可以觀察到鍍層有一定的厚度,但是局部會出現鍍層厚度過厚而出現不均勻現象,單獨鍍Ag效果不好。圖2(b)PA66/Ni,可以看出化學鍍后,鍍層不均勻,局部有團聚現象,鍍層效果較差。圖2(c)PA66/Ni-Ag,鍍層表面均勻,覆蓋較為完全,說明復合鍍優于單層鍍,但是整個織物表面平整度沒有化學鍍Ag-Ni好。圖2(d)化學鍍Ag-Ni具有良好的均勻性和致密性,顆粒尺寸均勻,且它們之間的間隙非常小。由此,說明PA/Ag-Ni表面鍍形貌最好。

圖3 磁滯回線(a) PA66/Ag,(b) PA66/Ni-Ag,(c) PA66/Ni,(d) PA66/Ag-Ni,(e) PA66
圖3為(a) PA66/Ag,(b) PA66/Ni-Ag,(c) PA66/Ni,(d) PA66/Ag-Ni,(e) PA66織物的磁滯回線。從圖中可以看出除基底PA66織物和鍍銀PA66織物外其它三種鍍層的PA66織物均具有一定的飽和磁化強度和較小的矯頑力。圖中可以看出鍍Ag層不存在磁的作用。PA66/Ag-Ni織物的飽和磁化強度(23 emu/g)明顯高于單獨PA66/Ni織物的飽和磁強度(18 emu/g),這是因為復合鍍有利于鎳的沉積,可以沉積更多的鎳層。而PA66/Ni-Ag織物的飽和磁化強度(11 emu/g)明顯小于PA66/Ni織物的飽和磁強度(18 emu/g)和PA66/Ag-Ni織物的飽和磁化強度(23 emu/g),這是因為鍍鎳層被表面覆蓋。

圖4 電磁屏蔽效能 (a) PA66,(b) PA66/Ag, (c) PA66/Ni,(b) PA66/Ni-Ag, (d) PA66/Ag-Ni
圖4顯示了30-1500MHz頻率范圍內(a) PA66,(b) PA66/Ag,(c) PA66/Ni,(b) PA66/Ni-Ag, (e) PA66/Ag-Ni電磁屏蔽效能。圖中(a)可以看出單獨的PA66沒有電磁屏蔽效能,圖(b)和(c)單獨鍍屏蔽材料的屏蔽曲線較為平緩,波動較小。說明(b)PA66/Ag和(c)PA66/Ni織物在30~1500MHz范圍內屏蔽效能比較平穩。PA66/Ag織物的屏蔽效能在28~30dB之間,PA66/Ni織物的屏蔽效能在36~40dB之間。(d)和(e)復合鍍PA66織物在30~350MHz之間是隨著時間的增大屏蔽效能增大,350~1500MHz屏蔽效能基本穩定。(d)PA66/Ag-Ni織物在30~350MHz屏蔽效能從46 dB漲到60dB,并且350~1500MHz屏蔽效能保持在60dB左右。(e) PA66/Ag-Ni織物比PA66/Ni-Ag織物的電磁屏蔽效能高,在30~350MHz屏蔽效能從46漲到71dB, 350~1500MHz屏蔽效能在65~70dB之間。說明PA66/Ag-Ni材料屏蔽性能也優于PA66/Ni-Ag屏蔽材料。

表5 樣品的腐蝕性能
采用動電位極化測量來評估PA66鍍層織物的耐腐蝕特性。在室溫下,在質量分數為3.5%NaCl溶液中獲得(a) PA66/Ag,(b) PA66/Ni-Ag,(c) PA66/Ni,(d) PA66/Ag-Ni織物的不同鍍層動電位極化曲線如圖5所示。 根據陰極和陽極Tafel曲線的交點計算腐蝕電位Ecorr和腐蝕電流密度icorr,并將外推的陰極和陽極極化曲線制成表5。
對于任何極化曲線,還原反應主導陰極側,氧化反應主導陽極側。不同鍍層PA66織物的動電位曲線具有相似的形狀。圖中所有樣品的腐蝕電位基于作為參比電極的SCE電極,鉑網作為輔助電極。發現PA66/Ag織物,復合PA66/Ni-Ag織物,鍍PA66/Ni織物及PA66/Ag-Ni織物順序腐蝕電位向更正方向移動,腐蝕電流正好相反。圖5和表5表明,鍍有Ni和鍍Ni在表層有更好耐腐蝕性能,其中Ag-Ni沉積物具有最大的正腐蝕電位,最小的腐蝕電流密度和最高的極化電阻。因此,復合鍍PA66/Ag-Ni織物具有最優異的耐腐蝕性。

圖5 樣品的極化曲線
綜上所述,通過對屏蔽機理的研究可知層狀屏蔽材料的屏蔽性能是由材料的鍍層質量和表面磁強度決定的,并且隨著它們的增大而增大。本文經過預處理步驟后化學鍍Ag、Ni的方法制備了性能優良的PA66輕質復合屏蔽材料。通過SEM, VSM、法蘭同軸測試和Tafel測試揭示四種鍍層的不同形態,所得到PA66/Ag、PA66/Ni、復合鍍PA66/Ni-Ag、PA66/Ag-Ni織物在導電性,磁性,電磁屏蔽效能和耐腐蝕性能方面表現出不同的性能,其中復合鍍PA66/Ag-Ni織物性能最為優異。