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巖溶地質條件對花灘子水庫壩址選擇影響分析

2019-06-28 06:53:54王銀軍
水科學與工程技術 2019年3期

王銀軍

(貴州省水利水電勘測設計研究院,貴陽550002)

1 工程概況

擬建貴州省花灘子水庫位于清渡河上,該河流屬長江流域烏江水系,為烏江一級支流。壩址位于貴州省思南縣孫家壩鎮冉氏堂至花灘子河段,該河段河谷狹窄,分布巖性以硬質巖為主。壩址之上主河道長45km,集雨面積452km2,河流多年平均流量8.37m3/s,多年平均徑流量2.64 億m3。建壩位置河床高程395~400m,正常蓄水位493m,壩高110m,水位抬升100m,水庫回水長度20km。水庫主要功能是以供水和灌溉為主的多功能水庫,正常蓄水位庫容1.2億m3,興利庫容1.0億m3,為大(2)型水庫。

2 壩址工程地質條件及評價

根據地形、地質條件,本工程在擬建壩河段選擇兩個壩址進行比選。其中,冉氏堂附件的峽谷口位置為上壩址,其下游為下壩址,對兩個壩址地質條件進行評價。

2.1 上壩址

上壩址為河灣地形,適合建壩河段長300m。兩岸山體雄厚,無低矮埡口分布。河谷縱向上地形呈喇叭口形狀,上游寬闊,往下游逐漸收窄。橫向兩岸地形左陡右緩,為不對稱“V”型峽谷,正常蓄水位高程493.0m時河谷寬高比為2.3。建壩河段河床比降0.32%。

該壩址位置分布地層巖性為二疊系下統棲霞組(P1q)及茅口組(P1m)中至厚層塊狀灰巖,局部夾幾厘米至3m生物屑含黏土質灰巖或含有機質鈣質黏土巖。往河流上游分布有二疊系下統梁山組(P1l)及志留系中上統韓家店群(S2-3hn)石英砂巖、砂巖、泥質粉砂巖、粉砂質泥巖等碎屑巖。建壩巖體主要P1m、P1q灰巖,巖質堅硬,抗風化能力強,其強溶蝕風化層厚3~8m,弱溶蝕風化層厚10~30m,微溶蝕風化層厚20~40m。壩址處無斷裂發育,為單斜構造,局部發育小揉皺。受小揉皺影響,巖層產狀略有變化,為270°~298°∠26°~35°,巖層總體傾下游略傾左岸,河谷總體為橫向谷。

該壩址上游150m處河谷兩岸平緩處分布有崩塌堆積體,估算方量22.5萬m3,對建壩影響小。壩址峽谷兩岸懸崖邊上發育卸荷裂隙,其走向與懸崖基本平行。據統計,上壩址位置主要發育5組裂隙。同時,在棲霞組(P1q)及茅口組(P1m)灰巖中局部夾軟質巖(碎屑巖)夾層。除此之外,據平硐揭露,上壩址泥化夾層發育,主要發育于強溶蝕風化帶巖體內,向深部逐漸尖滅,其發育深度一般小于15m。

上壩址分布基巖巖質堅硬,雖局部軟質巖夾層發育,強溶蝕風化帶巖體內軟弱泥化夾層發育,但構造不發育,分布的崩塌堆積體距離建壩位置較遠。因此,上壩址不存在嚴重制約建壩的工程地質條件,經工程措施處理后可建壩。

2.2 下壩址

下壩址位于上壩址下游約1.1km處,適合建壩河段長620m。兩岸山體雄厚,無低矮埡口分布。河谷縱向上地形呈喇叭口形狀,上游寬闊,往下游逐漸收窄。橫向兩岸地形左陡右緩,為基本對稱“V”型峽谷,正常蓄水位高程491.0m時河谷寬高比為2.2。建壩河段河床比降0.4%。

該壩址位置分布地層巖性為二疊系上統長興組(P2c)灰、深灰色中厚、厚層狀灰巖,局部夾泥質灰巖、炭質灰巖或炭質泥巖,含燧石結核。建壩巖體總體巖質堅硬,抗風化能力強,其強溶蝕風化層厚3~18m,弱溶蝕風化層厚10~30m,微溶蝕風化層厚20~30m。壩址處無斷裂發育,為單斜構造,局部發育小揉皺。受小揉皺影響,巖層產狀略有變化,為265°~315°∠12°~34°,巖層總體傾下游,河谷為橫向谷。

該壩址河谷兩岸坡腳分布有少量崩塌塊石,其方量小,對建壩影響小。壩址峽谷兩岸懸崖邊上發育卸荷裂隙,其走向與懸崖基本平行。據統計,下壩址位置主要發育3組裂隙。同時,在長興組(P2c)灰巖中局部夾泥質灰巖、炭質灰巖或炭質泥巖,厚0~2.0m,其延展性好。除此之外,強溶蝕風化至弱溶蝕風化上部巖體中發現泥化夾層發育,尤其是壩址左岸,據左岸平硐PD1揭露,該位置發育巖溶深槽,導致平硐26.9~36.0m處為溶蝕破碎帶,層間泥化夾層較發育。推測泥化夾層主要發育于強溶蝕風化帶巖體內,向深部逐漸尖滅,其發育深度一般為15.0~20.0m,局部由于溶蝕深槽或溶蝕破碎帶的發育,泥化夾層發育深度可達30m。

下壩址分布基巖巖質堅硬,雖局部軟質巖夾層發育,強溶蝕風化帶巖體內軟弱泥化夾層發育,但構造不發育,分布的崩塌堆積方量較小。因此,下壩址不存在嚴重制約建壩的工程地質條件,經工程措施處理后可建壩。

3 巖溶地質條件及評價

3.1 上壩址

上壩址上游200m的河谷左岸發育較大規模溶洞系統,為干洞,其洞口有兩個(R1,R2),分布高程為459,453m。據溶洞測繪,該溶洞總體走向為S49°W,與巖層走向(S45°W)基本一致,溶洞順巖層走向發育,其發育可探深度125m。溶洞內發育大廳,最寬處10m,高15~20m。溶洞向山體內規模逐漸變小,直至尖滅;在溶洞底部堆積有順巖層面剝落、坍塌的塊石,沖洪積的砂卵石等。由于溶洞位于上壩址左壩肩靠上游,距離壩址200m,與河床走向基本垂直,對建壩影響較小,對左岸防滲帷幕的形成影響較大。除此之外,未發現壩址發育較大規模巖溶,左岸巖體溶蝕作用相對較弱,右岸較強,在河床高程之上巖體局部溶蝕嚴重,溶隙、溶孔等較發育。

據鉆孔水位觀測,左、右岸地下水位均高于河水位,建壩河段屬補給型河谷,水力坡降為16%。

該壩址共進行鉆孔壓水試驗184段,據統計,呂榮值≥5Lu 的共41段,占22%;5Lu<呂榮值>3Lu的61段,占33%;呂榮值≤3Lu 的共82段,占45%。灰巖巖體內透水性較好,反映P1m、P1q巖體內縫合線、節理裂隙等較發育,巖體完整性較差。下伏的S2-3hn碎屑巖內透水率普遍小于3Lu,巖體完整性較好,隔水性好。

3.2 下壩址

壩址鉆孔鉆進中未發現掉鉆現像,未發現深部、較大規模巖溶發育。地表溶溝、溶槽、小溶洞等隨處可見。除此之外,下壩址左岸發育2個規模較大溶洞R3和R4。其中,R3發育高程500m,順巖層走向、垂直河谷走向發育,為干洞,洞深28m;R4發育高程520m,順巖層走向、垂直河谷走向發育,為干洞,洞深5m。這兩個溶洞發育高程高于擬建壩頂高程9m以上,規模較小,對建壩影響小。

右岸發育1個大規模的溶洞(R5),如圖1~圖2。

圖1 R5溶洞平面

圖2 R5溶洞縱剖面

R5溶洞發育于下壩址河谷右岸山腳下、壩址上游150m處,洞口高程412m。據調查,目前溶洞洞口高僅0.8m,洞口前由于下游花灘子電站修建,泥沙淤積嚴重,暴雨時有水溢出。該溶洞總體垂直河谷向山體內、順巖層走向發育,最小處僅能成年人爬行通過,最大處寬度可達50m,高20~30m。溶洞內發育3處巖溶大廳,最大面積可達1000m2。溶洞逐漸向高海拔處延伸,可測深度580m,盡頭為地下暗河。在靠近出口的兩個巖溶大廳內分布一些灶臺,據了解為解放前煉硝所用。由此可知,一是該洞分布有灶臺的溶蝕大廳為干洞;二是分布有灶臺的兩個溶蝕大廳往溶洞口段通風良好,發育支洞較多,且與地表相通。

同時,在下壩址左岸均發育暗河系統 (大槽暗河、黃蠟洞暗河及石門坎暗河系統)。其中,大槽暗河系統基本垂直建庫河流—清渡河發育,由擬建下壩址位置流向烏江,出口高程400m。據鉆孔水位觀測,暗河與清渡河間地下水位高程463.3m,低于擬建水庫正常蓄水位491.0m。

黃蠟洞暗河系統位于下壩址右岸下游,由岸坡補給壩址下游的清渡河。該暗河基本垂直清渡河發育,為下壩址庫首地下低鄰谷。在下壩址下游右岸發育另一條暗河—石門坎暗河,與黃蠟洞暗河分別位于塘頭傾伏向斜兩翼,補給烏江,出口高程360m。

據鉆孔水位觀測,左、右岸地下水位均高于河水位,該段河谷為補給型河谷。左岸地下水水力坡降為12%;右岸地下水位較低,僅比河水位高18m,地下水水力坡度較為平緩,為2%。

該壩區鉆孔壓水試驗共131段。據統計,呂榮值≥5Lu的共36段,占27%;5Lu<呂榮值>3Lu的57段,占44%;呂榮值≤3Lu的共38段,占29%。從統計表可發現,兩壩肩上部巖體受卸荷、溶蝕風化等影響,完整性較差,透水性較好;河床位置進入弱溶蝕風化巖體中下部后,其透水性較差。

3.3 各壩址對建壩的影響

上、下壩址建壩位置均未發現較大規模溶洞,在進入弱溶蝕風化巖體內時,巖體透水率均較小,一般小于5Lu,為弱透水層,上、下壩址均不存在制約建壩的巖溶水文地質條件。

上壩址上游200m的河谷左岸發育較大規模溶洞系統(洞口編號為R1、R2),分布高程459,453m。該溶洞順巖層走向發育,可探深度125m。溶洞內發育大廳,最寬處10m,高15~20m。溶洞向山體內規模逐漸變小,直至尖滅。由于溶洞距離壩址較遠,與河床走向基本垂直,其對建壩影響小,對防滲帷幕影響較大。

從安全角度考慮,上壩址防滲帷幕底界及端點深入下伏的韓家店群S2-3hn碎屑巖體內,為全封閉式帷幕,防滲帷幕長1.3km,防滲面積13.5萬m2。防滲處理后,在上壩址位置建壩具成庫條件。

下壩址河谷左岸發育的大槽暗河系統基本垂直建庫河流—清渡河,由擬建下壩址位置流向烏江,出口高程400m。暗河與清渡河間地下水位高程463.3m,低于擬建水庫正常蓄水位491.0m。右岸發育的黃蠟洞暗河位于下壩址下游右岸,由岸坡補給壩址下游的清渡河。該暗河基本垂直清渡河發育,為下壩址庫首地下低鄰谷。下游右岸發育另一條暗河—石門坎暗河,與黃蠟洞暗河分別位于塘頭傾伏向斜兩翼,補給烏江,出口高程360m。

在壩址上游右岸150m處山腳下發育R5溶洞,洞口高程412m。溶洞總體垂直河谷、順巖層走向發育,最小處僅能成年人爬行通過,最大處寬度可達50m,高20~30m,面積可達1000m2。溶洞逐漸向高海拔處延伸,可測深度580m,盡頭為地下暗河。溶洞發育的支洞較多,且與地表相通。

綜合分析,下壩址巖溶水文地質條件復雜,從安全角度考慮,下壩址防滲帷幕端點只能向上游接韓家店群(S2-3hn)碎屑巖,其底界以區內最低排泄基準面—烏江河床360m高程進行控制。防滲處理為懸托式帷幕,長2.3km,防滲面積28.6萬m2。處理后,下壩址位置建壩具成庫條件。

綜合分析,上壩址采用全帷幕進行防滲,雖然壩址左岸發育溶洞系統,但其規模及復雜程度相對較簡單,經混凝土澆筑封堵后,再采用灌漿進行防滲處理,其處理難度相對較小。下壩址暗河、溶洞系統發育,巖溶水文地質條件復雜,建庫防滲難度極大。且下壩址防滲采用懸托式帷幕,其可靠性相對全帷幕差。同時,下壩址防滲工作量是上壩址的2倍有余。因此,在兩個壩址工程地質條件相當的情況下,本次推薦上壩址作為進一步研究壩址。

4 結語

(1) 擬建貴州省花灘子水庫位于烏江支流清渡河上,壩址區位置河谷狹窄,上、下壩址分布的基巖巖質堅硬,雖局部軟質巖夾層發育,強溶蝕風化帶巖體內軟弱泥化夾層發育,構造不發育,均不存在嚴重制約建壩的工程地質條件,經工程措施處理后均可建壩。

(2)在上壩址河谷左岸發育溶洞系統,但其規模相對較小,巖溶水文地質條件相對較簡單。防滲帷幕采用全帷幕,帷幕線相對較短,處理難度相對較小。下壩址河谷兩岸暗河、溶洞系統發育,巖溶水文地質條件復雜,建庫防滲難度極大,防滲工作量大。因此,選擇上壩址作為建庫壩址。

(3)貴州省是碳酸鹽巖廣泛分布的省份,大部分水庫均建在碳酸鹽巖上,巖溶水文地質條件決定了水庫成庫,也決定了壩址位置選擇。

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