化學(xué)沉積法制備功能性化學(xué)鍍錫層的研究

周 亞

（晉中職業(yè)技術(shù)學(xué)院生物工程學(xué)院，山西晉中 030600）

1 化學(xué)沉積法原理以及化學(xué)鍍錫層的功能研究

化學(xué)鍍錫主要包括還原法化學(xué)鍍錫、化學(xué)鍍錫和浸鍍法化學(xué)鍍錫，其沉積過(guò)程分為置換反應(yīng)期、銅錫共沉積與自催化沉積共存期和自催化沉積期。化學(xué)沉積法在微電子行業(yè)具有很好的應(yīng)用前景，浸鍍法化學(xué)鍍錫的鍍液穩(wěn)定性好，還原歧化反應(yīng)化學(xué)鍍錫鍍液穩(wěn)定性好，鍍層厚度均勻。

1.1 化學(xué)鍍錫沉積機(jī)理分析

化學(xué)鍍鋅是以鍍液的pH作為分類，分為堿性和酸性兩大類。鍍層光亮、細(xì)致，對(duì)雜質(zhì)溶質(zhì)性強(qiáng)，鍍層孔隙率較高，能夠發(fā)揮深度能力。缺點(diǎn)是鍍錫孔隙率較小，鍍錫層功能不能滿足工藝需要。酸性鍍錫方法分為氧化、氟硼酸以及硫酸鹽鍍錫等幾個(gè)類型，成本較低，易于控制、穩(wěn)定性好，用于連續(xù)性電鍍等。缺點(diǎn)是毒性較大，電流開(kāi)不大、鍍層潔白、堿性度、絲工藝電流效率低，但是在成分上較為簡(jiǎn)單，鍍層細(xì)致，鍍層的陽(yáng)極行為影響較小。在進(jìn)行鍍鋅過(guò)程中使用的焦磷酸鹽、鍍錫等成分，主要為硒酸鈉，生產(chǎn)效率較高，在較大的電流密度下依然能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定。運(yùn)行，市場(chǎng)上慢慢正在被酸性光亮度吸所取代，適合在鋁合金件和鋅合金件上進(jìn)行電鍍呈現(xiàn)的pH成弱堿性[1]。

1.2 化學(xué)鍍錫的沉積機(jī)理

化學(xué)鍍錫的沉積機(jī)理是在酸性環(huán)境下，采用還原劑進(jìn)行濕度催化活性表面上的沉積過(guò)程，運(yùn)用還原劑作用，通過(guò)智慧金屬間化合物形成自催化沉積階段等三個(gè)階段，實(shí)現(xiàn)了鍍液中硒的直接置換，根據(jù)熱力學(xué)原理反應(yīng)實(shí)現(xiàn)這一過(guò)程，需要加入相應(yīng)的電位調(diào)劑和銅離子絡(luò)合劑形成穩(wěn)定的絡(luò)合物之后，使得電位大幅度轉(zhuǎn)移，同期的電位相應(yīng)發(fā)生變化。……