一種除味釉料及使用其的釉面磚的制備方法

一種除味釉料及使用其的釉面磚的制備方法

本發(fā)明公開了一種除味釉料，按照質(zhì)量份數(shù)，所述除味釉料的原料包括以下組分：負磁場粉3～15份、鉀長石15～25份、鈉長石12～18份、石灰石10～15份、氧化鋅1～5份、高嶺土8～12份、氧化鋁8～15份、燒土5～8份、滑石10～15份和碳酸鋇5～8份;所述負磁場粉含有氧化鐵和氧化鎂，且按照質(zhì)量百分比，所述氧化鐵的含量為33%～37%，所述氧化鎂的含量≤0.5%。本技術(shù)方案提出的一種除味釉料，其燒成獲得的釉層可輻射遠紅外線，且可生成折射率高的鐵堇青石晶體結(jié)構(gòu)，有利于提高遠紅外線的輻射率，能有效去除環(huán)境內(nèi)的有害氣體。進而提出的一種使用上述除味釉料的的釉面磚的制備方法，其步驟不包括除鐵工序，有利于確保釉面磚的除味性能。

申請?zhí)?：CN202010422492.9

用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制備方法

本發(fā)明公開一種用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制備方法。所述高白面釉的原料組成包括，以質(zhì)量百分比計，超細硅酸鋯8%～12%和超細二氧化錫6%～10%，其中超細硅酸鋯和超細二氧化錫的質(zhì)量比為0.8：1～2：1;所述超細二氧化錫的粒徑為0.8～1.2μm;所述超細硅酸鋯的粒徑為2～4μm。

申請?zhí)?： CN202010341752.X

一種陶瓷磚、用于制造陶瓷磚的熔塊及其制備方法

本發(fā)明涉及陶瓷磚領(lǐng)域，提供一種陶瓷磚、用于制造陶瓷磚的熔塊及其制備方法，用于提高陶瓷磚的紋理效果。本發(fā)明提供的一種用于制造陶瓷磚的熔塊，包括長石15～20質(zhì)量份，石英15～25質(zhì)量份，鋰云母5～15質(zhì)量份，碳酸鍶5～10質(zhì)量份，硼砂15～20質(zhì)量份，碳酸鈣3～10質(zhì)量份，鋯英石10～15質(zhì)量份，氟硅酸鈉1～5質(zhì)量份，氧化鋅5～10質(zhì)量份，氧化鈷1.5～2.0質(zhì)量份?？梢陨a(chǎn)出紋理更為逼真的陶瓷磚。

申請?zhí)?： CN202010205454.8

一種巖板窯爐余熱利用裝置

本發(fā)明公開了一種巖板窯爐余熱利用裝置，包括窯爐和固定板，固定板固定安裝在窯爐內(nèi)的下方，窯爐的上端設(shè)有冷卻水噴口，冷卻水噴口固定安裝在窯爐內(nèi)的上端，冷卻水噴口外接有冷卻水源，窯爐的上方設(shè)有冷凝加濕裝置，冷凝加濕裝置包括抽風(fēng)機、空氣過濾器、冷凝管、集水箱、加濕器，抽風(fēng)機固定安裝在窯爐上方的左端，空氣過濾器設(shè)在抽風(fēng)機的上方，空氣過濾器固定安裝在抽風(fēng)機的上端，冷凝管設(shè)在空氣過濾器的上方，冷凝管的一端與空氣過濾器相互連通，集水箱設(shè)在冷凝管另一端的下方，集水箱固定安裝在窯爐的左端面上，冷凝管的另一端與集水箱相互連通，加濕器設(shè)在集水箱的左端，加濕器固定安裝在集水箱的左端。

申請?zhí)?： CN202010184729.4

一種止滑釉料與止滑陶瓷磚及其制備方法

本發(fā)明公開了一種止滑釉料與止滑陶瓷磚及其制備方法。其中，所述止滑釉料，按重量份計，包括：SiO240～65份、Al2O315～30份、Fe2O30.1～0.5份、CaO 5～10份、MgO1～9份、K2O1～4份、Na2O 0.1～2份、ZnO 0.5～1.5份、TiO20.01～0.1份、B2O30.01～0.1份、BaO 5～9份。本發(fā)明所述止滑陶瓷磚表面不會形成鋒利的凸起峰，具有很好的止滑功能，其PTV值可在36～65之間，對應(yīng)的防滑級別可達R10～R13，同時具備無光效果，其光澤度平均小于3°。

申請?zhí)?： CN202010175531.X