戴鑫輝,李 林,段景波,喬 石,徐公志,趙 曉
(青島高測科技股份有限公司,山東 青島 266114)
半導體產業位于電子產業的最前端,技術密集度高,研發投入比例大。近年來,我國出臺相關大基金等扶持發展政策,極大促進了半導體行業的整體發展[1]。
半導體行業中,硅棒的前道加工過程包含硅棒滾圓、晶向檢測及開槽、切片等多個工序,從而形成硅片雛形,其中滾圓是對硅棒的外圓進行滾圓磨削加工,使硅棒的尺寸公差、形狀公差、表面粗糙度達到一定標準,為后續切片工序做準備。
目前,國內傳統半導體硅棒加工設備存在以下問題:加工硅棒尺寸范圍窄,只能滿足6"、8"半導體硅棒的加工,不具備加工12"硅棒的能力;自動化程度低,導致工人勞動強度高、加工效率低;設備功能單一,硅棒加工過程轉換工序多;設備穩定性差,加工精度低。本文針對半導體硅棒加工存在的上述問題,提出了一種新的全自動半導體硅棒滾圓開槽一體機設計方案,通過實際生產應用,有效解決了上述問題。設備實現了上下料、對中、加工、測量、晶向檢測等功能的全自動化,加工效率、加工精度和設備穩定性均可滿足國內半導體行業的需求。
滾圓開槽一體機可用來磨削加工長度在80 mm~800 mm范圍內的6"、8"和12"半導體硅棒的外圓面,對硅棒進行晶向定位并根據硅棒尺寸加工OF面(Orientation Face)或開V槽[2],為下道切片工序做準備。
硅棒磨削直徑精度達±0.05 mm,硅棒圓度誤差小于0.03 mm,圓錐度小于1∶12 500,加工圓面表面粗糙度Ra≤0.4 μm,且表面無亮點、色差等缺陷。
全自動硅棒滾圓開槽一體機總體布局如圖1所示。機床包含自動上下料組件、粗磨組件、開V槽組件、晶向檢測組件、硅棒夾持組件、探針檢測組件、精磨組件、底座組件;另外還包含水路系統、潤滑系統、整機防護等部分。

1-自動上下料組件;2,6-粗磨組件;3-開V槽組件;4-晶向檢測組件;5-硅棒夾持組件;7-探針檢測組件;8-精磨組件;9-底座組件
底座組件如圖2所示,它是整機設備的支撐基體。底座組件上設有粗磨組件、精磨組件、開V槽組件、晶向檢測組件的安裝工位;底座上還安裝有滾珠絲杠,用于驅動安裝在底座導軌上的硅棒夾持組件前后移動;底座組件尾部設有污水排水口。
底座采用HT250鑄造,兩次退火處理,以消除絕大部分鑄造內應力。
全自動硅棒滾圓開槽一體機配有上下料機器人和上下料工作臺,上下料過程均在上下料工作臺上操作,通過調整夾爪位置能夠實現6"、8"、12"硅棒的抓取。
自動上下料組件如圖3所示。上下料機器人抓取硅棒送至硅棒夾持區域,由固定夾頭和滑動夾頭夾住并旋轉硅棒;上下料機器人抓手上的探針用于檢測硅棒與夾頭軸線的重合度,并根據檢測結果調整硅棒位置,使硅棒軸線和夾頭軸線滿足同軸度要求。

1-底座;2-導軌滑塊;3-滾珠絲桿;4-晶向檢測組件安裝工位;5-開V槽組件安裝工位;6,7-粗磨組件安裝工位;8-精磨組件安裝工位

1-上下料機器人;2-探針;3-上下料工作臺
硅棒夾持組件結構如圖4所示。硅棒夾持組件包含滑動夾頭和固定夾頭,固定夾頭安裝固定在硅棒夾持組件基板上,滑動夾頭在硅棒夾持組件內部的滾珠絲杠驅動下前后移動,改變固定夾頭和滑動夾頭之間的距離,以達到夾持不同長度硅棒的目的。

1-滑動夾頭;2-夾持組件基板;3-固定夾頭
硅棒夾持組件固定夾頭和滑動夾頭內部各含有一個旋轉電機,可在夾緊硅棒后使硅棒以一定角速度進行旋轉,實現對硅棒整個圓面的滾圓磨削。
硅棒夾持組件安裝于底座組件的導軌上,硅棒夾持組件在滾珠絲杠驅動下可在底座上前后移動。
為了提高磨削效率,本設備設計有兩套粗磨組件,同時為了省略滾圓磨削后硅棒的腐蝕處理,設置了一套精磨組件。精磨組件和粗磨組件結構相同,只有安裝的杯型磨削砂輪目數不同;兩套粗磨組件分別設置在底座組件前端的兩側,兩個粗磨砂輪對半導體硅棒同時進行粗磨削,提高了加工效率;精磨組件設置在底座組件后端的一側,用于對半導體硅棒的精磨削。下面就單套磨削組件進行結構和功能介紹,磨削組件結構如圖5所示。
單套磨削組件包含垂直運動組件、旋轉組件和水平運動組件。
(1) 旋轉組件:旋轉電機通過聯軸器與軸承箱相連,帶動與軸承箱端部相連的杯型砂輪進行旋轉,軸承箱安裝在滑動支座內部。
(2) 垂直運動組件:氣缸固定在進給基座上且其伸縮軸和軸承箱外殼相連,旋轉組件隨氣缸伸縮可沿豎直導軌方向到達上下兩個極限位置。對硅棒進行滾圓磨削和OF面磨削時使用的砂輪磨削位置不同。當進行滾圓磨削時,氣缸伸縮軸伸長,旋轉組件位置下降,使用砂輪上邊緣對硅棒進行滾圓磨削;進行OF面磨削時,氣缸伸縮軸收縮,旋轉組件位置上升,使用砂輪中心邊緣位置對硅棒進行OF面磨削。
(3) 水平運動組件:硅棒每次磨削時砂輪所處的水平位置不同,伺服電機通過驅動滾珠絲杠使進給基座沿水平導軌方向前后運動,由此可實現磨削量的調整,并決定硅棒的最終磨削尺寸。

1-垂直運動組件;2-杯型砂輪;3-水平運動組件;4-旋轉組件
在其中一套粗磨組件的進給基座上安裝有一套探針檢測組件,探針檢測組件用于測量硅棒的直徑尺寸。實際磨削時,在粗磨削前,探針檢測組件測量未磨削硅棒直徑尺寸,自動計算單次粗磨量和粗磨次數并保留精磨余量;粗磨削結束后,探針檢測硅棒尺寸,計算單次精磨量和精磨次數;精磨削結束后,探針檢測硅棒最終直徑尺寸。
開V槽組件結構如圖6所示。開V槽組件包含旋轉組件、進給基座、水平運動組件等。V型砂輪在旋轉組件電機驅動下旋轉,對硅棒進行開V槽加工,水平運動組件用于調整進給基座的水平方向位置,以控制V型砂輪距離硅棒的距離,從而控制硅棒開V槽的深度。

1-旋轉組件;2-V型砂輪;3-進給基座;4-水平運動組件
晶向檢測組件是利用X射線定向裝置檢測硅棒的晶向,確定硅棒V槽或OF面的位置;晶向檢測組件的前后進給采用伺服電機控制。
設備配有自動潤滑系統,由潤滑泵對機床各潤滑點間歇性供油潤滑。潤滑系統可實現油壓調節、堵塞報警,潤滑周期和單次注油量由系統自動控制。
采用水泵加壓供水,在粗磨組件、精磨組件、開V槽組件砂輪磨削處設有噴水口,用于對砂輪冷卻降溫,同時沖洗磨削時產生的硅粉,沖屑水沿機床底座上的排水口排出并集中處理。
機床采用全封閉式防護,機床上下料通道的防護門由電控系統自動控制,保證生產人員的安全。
該硅棒滾圓開槽一體機的工作過程如下:上下料機器人抓取半導體硅棒送至硅棒夾持區域,由固定夾頭和滑動夾頭夾緊硅棒,固定夾頭和滑動夾頭上的旋轉電機轉動硅棒,上下料機器人探針檢測硅棒與夾頭軸線的重合度,并根據檢測結果調整硅棒位置;硅棒夾持組件夾持硅棒運行至磨削區域,兩組粗磨組件對硅棒進行滾圓粗磨削,精磨組件對硅棒進行滾圓精磨削;晶向檢測組件對硅棒晶向進行檢測定位,并根據檢測結果使用粗磨組件和精磨組件對6"硅棒進行粗磨和精磨OF面,或使用開V槽組件對8"或12"硅棒開V槽;硅棒夾持組件夾持硅棒退回至原位,并由上下料機器人取走已磨削完成的硅棒。
該設備可實現從上料、磨削、檢測、下料的全自動化運行,無需人工參與;設置兩套粗磨組件和一套精磨組件,兼顧了滾圓磨削效率和滾圓磨削精度,大大提高了生產能力。
該機床可加工長度為80 mm~800 mm的6"、8"或12"半導體硅棒,磨削OF面深度誤差為±0.06 mm,OF面表面粗糙度Ra≤1 μm,開V槽深度誤差為±0.05 mm,V型槽角度為89°~91°。經實際滾圓磨削驗證,和傳統半導體硅棒加工設備相比,硅棒加工效率和精度有極大提高,得到半導體行業的相關企業認可。
全自動硅棒滾圓開槽一體機的設計,提高了國內半導體行業硅棒滾圓開槽加工技術水平,可滿足國內半導體行業對于滾圓高精度及高效率的迫切需求,為半導體行業專用機床的設計提供參考。