中國工程院院士、浙江大學微納電子學院院長吳漢明：20納米以上節點我國有巨大創新空間

諸玲珍

“目前20納米以上的工藝節點占據了市場上82%的產能。尤其是成熟工藝，在這些工藝節點上我國有巨大的創新空間和市場空間，因此這些工藝節點是國內企業需要大力發展的。去年國內的占有率達到30%，今年的數據會好于去年。”

10月14日，由中國半導體行業協會、中國電子信息產業發展研究院主辦的第三屆全球IC企業家大會暨第十八屆中國國際半導體博覽會（IC China2020）在上海開幕。中國工程院院士、浙江大學微納電子學院院長吳漢明發表了題為“集成電路產業發展的趨勢”的開幕演講。吳漢明表示，目前市場上20納米以上的工藝節點占82%的產能，在這些工藝節點上，我國有巨大的創新空間和市場空間，因此國內企業需要加大對這些工藝節點的研發力度。

國內集成電路產業化推進還有差距

昊漢明表示，集成電路產業發展除了面臨巨大資金和人才投入外，還有兩個壁壘需要攻克，即戰略性壁壘和產業性壁壘。應對措施包括：建立相對可控的產業鏈，重點是三大環節——工藝、裝備/材料、設計IP核/EDA;擁有專利庫，掌握核心技術。吳漢明強調，研發一代新的技術，工藝成本大概需要10億美元，還需要幾千人開發三到四年時間，因此，集成電路產業的投入相當巨大。

吳漢明在演講中表示，衡量集成電路產業的發達與否，產業化程度是重要的體現。目前，我國在集成電路產業化推進方面與世界先進國家相比差距較大。所以，業內人士一定要明確研究是手段，產業才是目的。……