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多工位轉(zhuǎn)盤(pán)式芯片裝管設(shè)備控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)

2021-11-23 07:59:46田李莊
商品與質(zhì)量 2021年31期
關(guān)鍵詞:檢測(cè)

田李莊

濟(jì)南新芯微電子有限公司 山東濟(jì)南 250101

收發(fā)多功能芯片作為微波電路重要類別之一,采用高密度集成射頻設(shè)計(jì),由包括低噪聲放大器、驅(qū)動(dòng)放大器、移相器、衰減器和開(kāi)關(guān)的射頻通道,以及包括收發(fā)控制電路和幅相控制電路的控制網(wǎng)絡(luò)組成,擁有體積小、重量輕、集成度高等優(yōu)點(diǎn),使其在雷達(dá)、通信、探測(cè)等關(guān)鍵領(lǐng)域中得到了廣泛應(yīng)用,并對(duì)此提出了長(zhǎng)壽命的評(píng)價(jià)要求,如何考核和評(píng)價(jià)成為當(dāng)前亟待解決的問(wèn)題。

1 未來(lái)芯片技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀

目前,原子尺度硅材料的基本物理限制使得由摩爾定律驅(qū)動(dòng)的硅技術(shù)演進(jìn)路徑似乎正快速接近終點(diǎn)。隨著摩爾定律走向終結(jié),人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、超級(jí)計(jì)算及其相關(guān)應(yīng)用卻提出了更高的性能要求,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)步入亟需轉(zhuǎn)變突破發(fā)展的關(guān)鍵點(diǎn),芯片架構(gòu)、材料、集成、工藝和安全方面的創(chuàng)新研究成為新的突破方向[1]。

1.1 新型晶體管技術(shù)

1.1.1 新架構(gòu)晶體管技術(shù)

鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FinField-EffectTran sistor,F(xiàn)inFET)是當(dāng)前主流半導(dǎo)體制造工藝采用的晶體管架構(gòu),成功地推動(dòng)了從22納米到7納米等數(shù)代半導(dǎo)體工藝的發(fā)展,并將拓展到5納米和4納米工藝節(jié)點(diǎn)。全環(huán)柵晶體管(Gate-All AroundField-EffectTransistors,GAAFET)是一種繼續(xù)延續(xù)現(xiàn)有半導(dǎo)體技術(shù)路線壽命的較主流技術(shù),可進(jìn)一步增強(qiáng)柵極控制能力,克服當(dāng)前技術(shù)的物理縮放比例和性能限制。從3納米開(kāi)始,韓國(guó)三星電子將放棄FinFET架構(gòu)轉(zhuǎn)向GAAFET架構(gòu),計(jì)劃在2020年底進(jìn)行3納米GAAFET產(chǎn)品風(fēng)險(xiǎn)試生產(chǎn)[7],2021年底進(jìn)行批量生產(chǎn)。3納米以下晶體管潛在技術(shù)包括互補(bǔ)場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Com plementaryField-EffectTransistors,CFET)、垂直納米線晶體管、負(fù)電容場(chǎng)效應(yīng)晶體管(NegativeCa pacitanceField-EffectTransistors,NC-FET)、隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管(TunnelField-EffectTransistor,TFET)等。

1.1.2 新材料晶體管技術(shù)

研究硅基材料的替代材料,開(kāi)發(fā)新型電子器件是解決當(dāng)前芯片發(fā)展瓶頸的另一種解決方法。當(dāng)前,替代性半導(dǎo)體材料主要包括第三代半導(dǎo)體材料、碳基納米材料、二維半導(dǎo)體材料等。

1.2 新型存儲(chǔ)器芯片技術(shù)

當(dāng)前,靜態(tài)存儲(chǔ)器(StaticRandom-AccessMemory,S RAM)、動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)器(DynamicRandom AccessMemory,DRAM)、閃存等主流存儲(chǔ)器面臨著難以逾越的固有技術(shù)局限和工藝挑戰(zhàn)。以相變存儲(chǔ)器(Phase-ChangeMemory,PCM或PCRAM)、磁性存儲(chǔ)器(MagnetoresistiveRandomAccessMemory,MRAM)、阻性存儲(chǔ)器(ResistiveRandomAccessMemory,ReRAM)、鐵電存儲(chǔ)器(Ferroelec tricRandomAccessMemory,F(xiàn)RAM)、碳納米管存儲(chǔ)器(NanotubeRandomAccessMemory,NRAM)為代表的新型存儲(chǔ)器能夠帶來(lái)獨(dú)特的性能優(yōu)勢(shì),但均采用新材料制造且工藝嚴(yán)苛,大規(guī)模量產(chǎn)仍需一定的時(shí)間。其中,PCM、MRAM、Re RAM是普遍認(rèn)為最有前途的新型非易失性存儲(chǔ)器[2]。

2 控制系統(tǒng)軟件設(shè)計(jì)

2.1 多工位轉(zhuǎn)盤(pán)式芯片裝管設(shè)備控制流程

多工位轉(zhuǎn)盤(pán)式芯片裝管設(shè)備用于將芯片在不同工位間進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn),進(jìn)行各項(xiàng)檢測(cè),按檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行分選,最后將合格芯片快速而準(zhǔn)確地裝入料管內(nèi)。在壓電振動(dòng)盤(pán)的作用下,芯片沿料道整齊有序地輸送至自動(dòng)上料工位,控制系統(tǒng)各個(gè)工位的具體運(yùn)行流程如下。

(1)轉(zhuǎn)盤(pán)到位(轉(zhuǎn)盤(pán)上真空吸筆正對(duì)下方各工位)。

(2)所有上下驅(qū)動(dòng)軸從上方原點(diǎn)位置(上下驅(qū)動(dòng)軸的起始位置)下壓,將真空吸筆下壓至各個(gè)工位的工作位置,下壓到位后,各個(gè)工位開(kāi)始工作。

(3)自動(dòng)上料工位。真空吸筆下壓至芯片上方,并開(kāi)啟真空,在真空吸力的作用下使得芯片脫離下基板,吸附在轉(zhuǎn)盤(pán)的真空吸筆上,完成芯片的拾取。

(4)在定位1工位對(duì)芯片進(jìn)行一次定位。

(5)字符檢測(cè)工位。該工位既檢測(cè)字符缺陷,也判別芯片方位。根據(jù)字符檢測(cè)結(jié)果,如字符有打印錯(cuò)誤、缺失或不清晰等缺陷時(shí),記錄當(dāng)前工位的芯片為不合格芯片。

2.2 軟件結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

本文多工位轉(zhuǎn)盤(pán)式芯片裝管設(shè)備控制系統(tǒng)軟件結(jié)構(gòu)包括應(yīng)用層、任務(wù)層和執(zhí)行層。應(yīng)用層包括參數(shù)設(shè)置模塊、指令獲取模塊、數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)模塊和信息顯示模塊;任務(wù)層包括動(dòng)作模塊和數(shù)據(jù)模塊;執(zhí)行層包括執(zhí)行單元和采集單元。

2.3 控制系統(tǒng)軟件實(shí)現(xiàn)

控制系統(tǒng)軟件界面顯示有總產(chǎn)量、裝管總數(shù)、排料總數(shù)、字符檢測(cè)失效(非合格)數(shù)量和3D引腳檢測(cè)失效(非合格)數(shù)量等信息;輸入按鈕有開(kāi)始運(yùn)行、暫停運(yùn)行、結(jié)束運(yùn)行、單動(dòng)等設(shè)備運(yùn)行按鈕;電機(jī)參數(shù)設(shè)定按鈕有針對(duì)分離電機(jī)、定位1電機(jī)和定位2電機(jī)等不同工位電機(jī)和針對(duì)數(shù)字I/O口與視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)通信的單獨(dú)調(diào)試按鈕[3]。

3 結(jié)語(yǔ)

本文設(shè)備在實(shí)際應(yīng)用中,芯片的檢測(cè)和裝管效率都得到了很大提高,重力式芯片裝管設(shè)備的裝管速度在18000顆/小時(shí)左右、,而本文設(shè)備的裝管速度可達(dá)到30000顆/小時(shí)以上。在更換上料方式以及相關(guān)工位治具和料管形式后,可適用于多種不同封裝類型的芯片裝管,在控制系統(tǒng)架構(gòu)基本不變的情況下,可擴(kuò)大本文芯片裝管設(shè)備的應(yīng)用場(chǎng)景。

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