王玉瑤 張微 郝雪卉 戰(zhàn)艷虎
(聊城大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,山東聊城 252000)
隨著社會(huì)的發(fā)展,紙已經(jīng)被廣泛應(yīng)用,若實(shí)現(xiàn)紙的二次利用,將極大地節(jié)約資源。盡管可以通過(guò)利用廢紙制備紙漿實(shí)現(xiàn)廢紙的再利用,但是該工藝過(guò)程需要漂白、脫墨、打漿等多道繁瑣工序,造成了電力資源和水資源的極大浪費(fèi),如何通過(guò)更簡(jiǎn)單的工藝過(guò)程實(shí)現(xiàn)廢紙更高的使用價(jià)值,是目前應(yīng)該解決的技術(shù)難題。
紙因其可折疊性、可降解性和低成本的優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于電磁屏蔽材料領(lǐng)域。Lee 等利用浸涂銀納米線的方式增強(qiáng)濾紙的電磁屏蔽性能[1],Zhan 等通過(guò)真空輔助過(guò)濾工藝直接在濾紙表面負(fù)載一層MXene,獲得高效電磁屏蔽材料[2]。然而,吸水的廢紙干燥后容易發(fā)生褶皺現(xiàn)象,所以上述工藝均不能用于提高廢紙的電磁屏蔽性能。磁控濺射是一種常見(jiàn)的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD),通過(guò)該方法,可以在基板上形成金屬、非金屬或其氧化物薄膜。目前,磁控濺射已經(jīng)廣泛應(yīng)用于聚合物基電磁屏蔽材料領(lǐng)域[3],例如,Wang 等利用磁控濺射工藝制備了屏蔽效能為26 dB 的銀基屏蔽膜[3],但借助磁控濺射工藝提高廢紙電磁屏蔽性能的報(bào)道較少。
本文利用磁控濺射法在廢紙表面鍍上一層鎳層,并通過(guò)涂覆聚二甲基硅氧烷保護(hù)膜防止鎳的氧化,獲得電磁屏蔽性能優(yōu)異的再生紙,詳細(xì)研究了磁控濺射后廢紙的形貌、導(dǎo)電率、磁性和電磁屏蔽性能的變化規(guī)律。
廢紙,實(shí)驗(yàn)室回收的A4 打印紙;鎳靶(99.995%),中諾新材(北京)科技有限公司;酒精、正己烷,分析純,天津市大茂化學(xué)試劑廠;聚二甲基硅氧烷(PDMS,Sylgard 184),道康寧公司。
先將收集的A4 打印紙裁剪成邊長(zhǎng)為6 cm 的正方形,再將其浸泡在50 mL 酒精中,并超聲清洗30 min,在空氣中風(fēng)干后,將其置放在磁控濺射儀中進(jìn)行濺射。磁控濺射儀的參數(shù):靶材為鎳,功率為50 W,工作壓力為0.8 Pa,保護(hù)氣體為氬氣,樣品旋轉(zhuǎn)速度為4 r/min。當(dāng)廢紙的一面濺射一定時(shí)間(如15,30,45 min)后,再采用相同的參數(shù)在另一面濺射相同時(shí)間的鎳。雙面濺射后的樣品命名為Ni@Cx紙,其中x 代表單面濺射時(shí)間。
將10 g 道康寧公司生產(chǎn)的PDMS 和1 g 固化劑混合均勻后,加入5 g 正己烷降低PDMS 的黏度。然后將Ni@Cx紙?jiān)赑DMS 的正己烷溶液中浸泡10 s,隨后在100 ℃的鼓風(fēng)烘箱中固化90 min,獲得Ni@Cx/PDMS 電磁屏蔽紙。
借助場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(Zeiss Ultra 55,德國(guó))表征Ni@Cx 紙的微觀結(jié)構(gòu),測(cè)試電壓為3 kV,并利用SEM 攜帶的EDS 測(cè)試材料的元素分布圖,工作電壓為9 kV,工作距離為8.5 mm。采用美國(guó)Thermo 公司的XPS(Escalab Xi+)對(duì)材料進(jìn)行元素分析。利用美國(guó)的VSM 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)在室溫下測(cè)試從-5 000 Oe到5 000 Oe 范圍內(nèi)的磁滯回線。利用美國(guó)Keithley公司的多功能源表(Keithley 2000)測(cè)試材料的電阻,并通過(guò)歐姆定律計(jì)算導(dǎo)電率。使用美國(guó)Agilent 公司的網(wǎng)絡(luò)分析儀(N5247A)測(cè)試樣品對(duì)8.2 GHz~12.4 GHz 頻率范圍的電磁波的屏蔽效能。
圖1a 表明清洗后的廢紙仍保持很好的平展性,未發(fā)生褶皺;經(jīng)過(guò)45 min 的磁控濺射工藝后,除夾具覆蓋區(qū)外廢紙表面均變成具有金屬光澤的灰色,見(jiàn)圖1b;經(jīng)PDMS 包覆后,灰色變淡,見(jiàn)圖1c。

圖1 廢紙、Ni@C45 紙和Ni@C45/PDMS 紙照片
因?yàn)镻DMS 的覆蓋作用,無(wú)法觀察到鎳的分布狀況,因此,本文只采用掃描電鏡觀察了Ni@C45紙的微觀形貌。圖2 是廢紙負(fù)載鎳前后的掃描電鏡圖片。通過(guò)對(duì)比磁控濺射前后微觀結(jié)構(gòu)圖可以發(fā)現(xiàn),鎳以納米顆粒的形式均勻分布在纖維素表面,并形成了均勻的鎳層。

圖2 廢紙、Ni@C45 紙的掃描電鏡圖
為了更清晰地觀察鎳的分布,特意選擇夾具遮擋區(qū)域附近的樣品(該處具有明顯分界線)進(jìn)行EDS測(cè)試,如圖3 所示。由圖3 可見(jiàn),鎳納米顆粒均勻分散在夾具遮擋區(qū)域以外的樣品表面,而碳元素在這些區(qū)域顯示較少的亮斑,表明鎳納米顆粒具有遮擋作用,充分證明了鎳納米顆粒均勻分散在廢紙表面。

圖3 Ni@C45 紙的SEM 和碳、鎳元素的分布圖(虛線左側(cè)為未濺射鎳區(qū)域,右側(cè)為濺射鎳區(qū)域)
Ni@C45紙的XPS 譜圖(見(jiàn)圖4a)顯示了碳、氧、鎳3 種元素的特征吸收峰。由于紙的主要成分為纖維素,所以顯示2 個(gè)強(qiáng)吸收峰,即位于284.6 eV 的C1s吸收峰和位于530.6 eV 的O1s吸收峰,而位于852.6 eV 的吸收峰(Ni2p)歸屬于鎳[4]。通過(guò)Ni2p的圖譜(見(jiàn)圖4b)可知,絕大多數(shù)鎳元素是以單質(zhì)的形式存在,僅有少量的鎳被氧化。XPS 譜圖不僅證明了通過(guò)磁控濺射方法可以將鎳負(fù)載在廢紙表面,也更能說(shuō)明在鎳表面涂覆保護(hù)層的必要性。

圖4 Ni@C45 紙的XPS 全譜圖和Ni2p 譜圖
如圖5 所示,由于鎳的鐵磁性能,使Ni@C45的磁滯回線表現(xiàn)為典型的S 型滯后環(huán)。該材料的殘余磁化強(qiáng)度和飽和磁化強(qiáng)度分別為0.06 emu/g 和0.31 emu/g,并且其矯頑力達(dá)到99.9 Oe。這些結(jié)果充分說(shuō)明了鎳納米顆粒的負(fù)載賦予廢紙良好的磁性,在電磁屏蔽材料領(lǐng)域有著潛在的應(yīng)用價(jià)值[5]。

圖5 Ni@C45 紙的磁滯回線
鎳納米顆粒除了擁有優(yōu)異的磁性外,還具有超高的導(dǎo)電性能。圖6 顯示,當(dāng)磁控濺射15 min 時(shí),Ni@C15的導(dǎo)電率達(dá)到187.0 S/m,隨著磁控濺射時(shí)間的增加,負(fù)載在廢紙表面的鎳納米顆粒的量逐漸增多,導(dǎo)電率得到提高。因此,Ni@C45的導(dǎo)電率達(dá)到了541.6 S/m,較高的導(dǎo)電率意味著該材料具有較高的電磁屏蔽性能。這些結(jié)果表明,通過(guò)磁控濺射方法將鎳納米顆粒負(fù)載在廢紙表面并形成鎳層,必然導(dǎo)致廢紙導(dǎo)電率顯著提高。

圖6 濺射時(shí)間對(duì)Ni@Cx 紙導(dǎo)電性能的影響
通過(guò)上述分析可知,通過(guò)磁控濺射方法將鎳納米顆粒均勻負(fù)載在廢紙表面,顯著提升了廢紙的導(dǎo)電率和磁性,有望將其應(yīng)用于電磁屏蔽領(lǐng)域。但以單質(zhì)狀態(tài)存在的鎳易氧化的缺點(diǎn),使其無(wú)法長(zhǎng)期保持高效的電磁屏蔽特性。為解決該問(wèn)題,本文將PDMS包覆在Ni@Cx表面,并表征該材料的電磁屏蔽性能。如圖7 所示,僅在廢紙表面覆蓋一層PDMS 膜無(wú)法起到電磁屏蔽作用,而對(duì)于有鎳負(fù)載的樣品而言,均具有較好的電磁屏蔽性能。例如,Ni@C15/PDMS 的電磁屏蔽效能達(dá)到18.0 dB;當(dāng)磁控濺射時(shí)間為30 min時(shí),Ni@C30/PDMS 的電磁屏蔽效能達(dá)到19.7 dB,已基本達(dá)到商業(yè)利用價(jià)值;當(dāng)磁控濺射時(shí)間為45 min時(shí),Ni@C45/PDMS 的電磁屏蔽效能已經(jīng)達(dá)到21.8 dB。材料優(yōu)異的電磁屏蔽性能歸因于鎳納米顆粒提高了廢紙的導(dǎo)電性和磁性。

圖7 Ni@Cx/PDMS 紙的電磁屏蔽性能
材料的電磁屏蔽性能由反射損耗(SER)、吸收損耗(SEA)和多重反射損耗(SEM)3 部分組成。當(dāng)總電磁屏蔽效能(SET)大于10 dB 時(shí),SEM可以忽略[13],因此,可以得到SET=SEA+SER。根據(jù)S 參數(shù)計(jì)算Ni@Cx/PDMS 的SET,SEA和SER,結(jié)果顯示在圖8 中。

圖8 Ni@Cx/PDMS 紙的SER,SEA 和SET
隨著磁控濺射時(shí)間的增加,SET,SEA和SER均增加,并且SEA對(duì)SET的貢獻(xiàn)率比較大。圖9 是Ni@Cx/PDMS 紙對(duì)電磁波的反射率(R)、吸收率(A)和透過(guò)率(T)的數(shù)據(jù)圖。由圖9 可知,隨著磁控濺射時(shí)間的增 加,R 由0.680 上 升 到0.803,A 由0.302 降 至0.191,T 由0.018 降至0.006。也就是說(shuō),由于負(fù)載了鎳納米顆粒,Ni@C45/PDMS 紙可以反射80.3%的電磁波,僅允許0.6%的電磁波透過(guò)。

圖9 濺射時(shí)間對(duì)Ni@Cx/PDMS 紙R,T 和A 的影響
本文利用磁控濺射工藝將具有優(yōu)異導(dǎo)電性和較高磁導(dǎo)率的鎳納米顆粒負(fù)載在廢紙的兩側(cè),并形成了均勻的鎳層。為了防止鎳納米顆粒氧化,將PDMS包覆在Ni@Cx紙表面,形成Ni@Cx/PDMS 材料。結(jié)果表明,經(jīng)過(guò)該工藝過(guò)程,廢紙的導(dǎo)電率和飽和磁化強(qiáng)度分別達(dá)到541.6 S/m,0.31 emu/g,并且由于鎳層的存在,該材料的電磁屏蔽效能達(dá)到21.8 dB,已經(jīng)滿足商業(yè)化需要。通過(guò)電磁屏蔽機(jī)理分析,該材料是以反射電磁波為主的屏蔽材料,Ni@C45/PDMS 紙可以反射80.3%的電磁波,僅允許0.6%的電磁波透過(guò)。
環(huán)境保護(hù)與循環(huán)經(jīng)濟(jì)2021年9期