后發(fā)大國的技術(shù)進步路徑與技術(shù)趕超戰(zhàn)略*

袁 禮 王林輝 歐陽峣

（1.湖南師范大學商學院 湖南長沙 410081）

（2.華東師范大學經(jīng)濟與管理學部 上海 200241）

（3.湖南師范大學大國經(jīng)濟研究中心 湖南長沙 410081）

一、引 言

中國具有人口眾多和國土面積廣闊的特點，加之近年來勞動力收入上升和市場統(tǒng)一程度提高，已形成龐大且不斷擴張的國內(nèi)市場，并形成超大規(guī)模市場優(yōu)勢（國務院發(fā)展研究中心課題組，2020）。充分挖掘和發(fā)揮中國超大規(guī)模市場優(yōu)勢，正如黨的十九屆五中全會指出，需“堅持擴大內(nèi)需這個戰(zhàn)略基點，加快培育完整內(nèi)需體系，把實施擴大內(nèi)需戰(zhàn)略同深化供給側(cè)結(jié)構(gòu)性改革有機結(jié)合起來，以創(chuàng)新驅(qū)動、高質(zhì)量供給引領(lǐng)和創(chuàng)造新需求”。事實上，實現(xiàn)供給與需求的高水平動態(tài)均衡，一方面應從需求側(cè)發(fā)力，以巨大的國內(nèi)市場需求牽引供給；另一方面需要以更高質(zhì)量的供給適應和創(chuàng)造國內(nèi)市場需求，而供給端的核心在于技術(shù)創(chuàng)新能力的提升。

世界技術(shù)變遷史表明，先發(fā)國家往往憑借自主創(chuàng)新提高技術(shù)水平，后發(fā)國家則主要依靠技術(shù)引進及模仿實現(xiàn)技術(shù)升級（林毅夫和張鵬飛，2005）。中國作為一個后發(fā)大國，既是“后發(fā)國家”，又是“大規(guī)模國家”，兼具“后發(fā)” 和“規(guī)模” 雙重內(nèi)涵（歐陽峣等，2016）：一方面，在過去四十多年中，中國通過技術(shù)貿(mào)易和外商直接投資等方式獲取發(fā)達國家的先進技術(shù)，創(chuàng)造了增長奇跡。但伴隨著技術(shù)水平的不斷提升，技術(shù)可供模仿的空間逐漸收窄，對技術(shù)引進及模仿創(chuàng)新的依賴顯然難以維系增長對技術(shù)的需求。更為重要的是，控制在發(fā)達國家手中的關(guān)鍵核心技術(shù)是要不來、買不來和討不來的。另一方面，在全球化紅利銳減和大國沖突背景下，中國迫切需要以國內(nèi)大循環(huán)為基礎(chǔ)，驅(qū)動技術(shù)創(chuàng)新模式由模仿創(chuàng)新轉(zhuǎn)向自主創(chuàng)新，有效突破“卡脖子” 技術(shù)難題（劉元春，2020）。而在由模仿創(chuàng)新向自主創(chuàng)新轉(zhuǎn)換的過程中，中國超大規(guī)模的國內(nèi)市場需求固然可以有效誘致企業(yè)內(nèi)生技術(shù)創(chuàng)新，但也需要政府發(fā)揮頂層設(shè)計和統(tǒng)一布局的作用（劉偉，2020）。

基于此，中國這樣的后發(fā)大國如何實現(xiàn)技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)變和技術(shù)趕超，不僅具有重要的研究價值，也是決策層面關(guān)注的焦點問題。為此，國家層面的創(chuàng)新戰(zhàn)略不斷調(diào)整和推進，逐步從重視技術(shù)引進轉(zhuǎn)變?yōu)閺娬{(diào)自主創(chuàng)新。得益于國家戰(zhàn)略和政策的激勵，我國創(chuàng)新投入規(guī)模迅猛增長。比如，R＆D 人員持續(xù)增長，1996 年每百萬人中R＆D 人員數(shù)僅為442.57 人，到2015 年已達1 176.58 人，超過世界平均水平的1 150.76 人。研發(fā)資金占GDP 的比重逐年擴張，1996 年研發(fā)經(jīng)費占比為0.56%，到2015 年達到2.07%，研發(fā)投入占GDP 的比重已初步達到創(chuàng)新型國家標準。①因篇幅所限，本文省略了每百萬人口中R＆D 人員的跨國比較圖和研發(fā)投入占GDP 比重的跨國比較圖，感興趣的讀者可在《經(jīng)濟科學》 官網(wǎng)論文頁面“附錄與擴展” 欄目下載。然而，研發(fā)投入的大幅增長并未帶來創(chuàng)新產(chǎn)出效率的提升，不僅沒有促進中國由要素驅(qū)動向創(chuàng)新驅(qū)動轉(zhuǎn)型，反而抑制中國全要素生產(chǎn)率及其對經(jīng)濟增長貢獻率的提升，國家綜合創(chuàng)新能力僅列世界第17 位（葉祥松和劉敬，2018）。與此同時，中國企業(yè)的自主創(chuàng)新能力依然相對薄弱，創(chuàng)新產(chǎn)出效率不高，諸多領(lǐng)域還缺乏關(guān)鍵核心技術(shù)，距離世界科技前沿仍有很長一段路要走。無論是企業(yè)層面的技術(shù)創(chuàng)新模式轉(zhuǎn)變，還是宏觀層面的技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超，國家創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略的調(diào)整和研發(fā)資源的傾斜，似乎都并未取得預期的效果。

立足上述經(jīng)驗事實，本文嘗試回答如下三個問題：第一，在中國技術(shù)趕超進程中，龐大的國內(nèi)市場需求如何在技術(shù)創(chuàng)新層面發(fā)揮規(guī)模經(jīng)濟優(yōu)勢，以及其究竟是推進還是阻礙了技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換? 第二，在不同類型的創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略下，不斷擴張的國內(nèi)市場規(guī)模是否對中國技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超發(fā)揮異質(zhì)性作用? 如果答案是肯定的，那么分別以技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超為目標來調(diào)整創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略的市場規(guī)模門檻和時點并不一致。因此，中國看似效果不佳的創(chuàng)新戰(zhàn)略調(diào)整或許是源于不同的戰(zhàn)略目標選擇，以及市場規(guī)模對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換的影響本就具有滯后性。第三，中國實現(xiàn)技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換應當以國內(nèi)經(jīng)濟大循環(huán)為基礎(chǔ)，而關(guān)鍵核心技術(shù)的突破是暢通國內(nèi)大循環(huán)和構(gòu)建新發(fā)展格局的動力源泉，這一互動過程中需要國家創(chuàng)新戰(zhàn)略的支持。中國應如何甄別國內(nèi)市場規(guī)模的變化、適時調(diào)整創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略，繼而推動中國技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超，以實現(xiàn)三位一體的動態(tài)均衡?

為此，本文建立一個后發(fā)大國的內(nèi)生技術(shù)進步模型，從技術(shù)創(chuàng)新的視角詮釋市場規(guī)模經(jīng)濟優(yōu)勢，數(shù)理演繹不同創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略下市場規(guī)模對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超的異質(zhì)性影響。結(jié)合中國經(jīng)驗數(shù)據(jù)，本文模擬在不同類型創(chuàng)新戰(zhàn)略下，國內(nèi)市場規(guī)模對后發(fā)大國技術(shù)趕超和技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換的動態(tài)作用。本文剩余部分結(jié)構(gòu)安排如下：第二部分是文獻述評；第三部分是理論模型演繹；第四部分是數(shù)值模擬；最后是結(jié)論與政策建議。

二、文獻述評

技術(shù)強國更替與后發(fā)國家技術(shù)趕超歷史表明，技術(shù)變遷路徑并非一成不變，往往表現(xiàn)出連續(xù)性，但時而也會呈現(xiàn)跳躍性，其中自主創(chuàng)新和技術(shù)引進扮演著重要角色。針對后發(fā)國家技術(shù)進步路徑的選擇，存在“以技術(shù)引進為主的模式” 和“以自主創(chuàng)新為主的模式” 的爭論（方福前和邢煒，2017）：其一，“以技術(shù)引進為主的模式” 在比較優(yōu)勢理論的基礎(chǔ)上，認為后發(fā)國家應依據(jù)自身要素稟賦條件選擇技術(shù)進步路徑。一般而言，后發(fā)國家與發(fā)達國家存在較大的技術(shù)差距，技術(shù)模仿的人力、物力與時間成本往往會低于自主創(chuàng)新，可成功規(guī)避自主研發(fā)的不確定性與失敗風險。因此，通過技術(shù)引進與模仿，可更快地進行技術(shù)升級，利用后發(fā)優(yōu)勢以實現(xiàn)技術(shù)追趕（Keller 和Yeaple，2009）。Ace_moglu 等（2006）等將技術(shù)擴散引入新增長模型中，考察發(fā)達國家和發(fā)展中國家的技術(shù)互動機制，將發(fā)展中國家的技術(shù)進步歸結(jié)為技術(shù)引進的結(jié)果。

其二，“以自主創(chuàng)新為主的模式” 則認為后發(fā)國家若過于依賴技術(shù)引進，將會陷入比較優(yōu)勢陷阱，形成低水平技術(shù)均衡鎖定，無法提高自主創(chuàng)新能力，最終與先發(fā)國家形成無法跨越的“均衡技術(shù)差距”，成為永久的跟隨者（Krugman，2003）。世界各國勞動生產(chǎn)率的明顯差異亦表明，模仿與吸收發(fā)達國家前沿技術(shù)是一個緩慢且具有較高成本的過程，通過溢出效應實現(xiàn)經(jīng)濟增長趨同的可能性較小（Los 和Timmer，2005）。在中國轉(zhuǎn)型升級的過程中，雖不乏通過模仿創(chuàng)新而在國際市場中占據(jù)一席之地的企業(yè)，但也有諸多企業(yè)陷入“引進—落后—再引進—再落后” 的怪圈（呂一博等，2017）。企業(yè)只有發(fā)揮自主創(chuàng)新能力，通過核心關(guān)鍵技術(shù)創(chuàng)新突破才可能成為技術(shù)領(lǐng)導者。事實上，國際競爭的關(guān)鍵是核心技術(shù)，發(fā)達國家并不會出售核心關(guān)鍵技術(shù)，后發(fā)國家只有通過自主創(chuàng)新，才可能實現(xiàn)技術(shù)的根本性突破，進而成功趕超發(fā)達國家。

一般而言，后發(fā)國家往往需要經(jīng)歷從技術(shù)引進、吸收、模仿創(chuàng)新再到自主創(chuàng)新的過程，任何單一強調(diào)某一類創(chuàng)新模式的觀點都存在偏誤。技術(shù)引進和自主創(chuàng)新并非完全獨立，關(guān)于二者的關(guān)系，學者們存在“替代關(guān)系假說” 和“互補關(guān)系假說” 兩種觀點（張杰等，2020）。一方面，有的文獻發(fā)現(xiàn)韓國制造業(yè)的技術(shù)引進對自主創(chuàng)新存在替代作用（Lee，1996），部分中國的經(jīng)驗研究也得到類似結(jié)論（肖利平和謝丹陽，2016）；另一方面，不乏針對中國和印度等后發(fā)國家的經(jīng)驗研究發(fā)現(xiàn)技術(shù)引進與自主創(chuàng)新之間存在互補關(guān)系（張杰等，2020）。傅曉霞和吳利學（2013）構(gòu)建基于后發(fā)國家的內(nèi)生增長模型，引入包含自主創(chuàng)新和技術(shù)引進的CES 創(chuàng)新可能性邊界，以兩類創(chuàng)新成果之間的替代彈性同時刻畫二者之間的互補和替代關(guān)系，演繹技術(shù)差距在知識生產(chǎn)和技術(shù)趕超過程中的關(guān)鍵作用。事實上，在不同的經(jīng)濟發(fā)展階段，在不同條件下兩種創(chuàng)新模式可能會交替主導技術(shù)進步（Basu 和Weil，1998）。技術(shù)創(chuàng)新模式和技術(shù)進步路徑應隨技術(shù)差距變化而發(fā)生轉(zhuǎn)換，當技術(shù)創(chuàng)新能力與發(fā)達國家存在明顯差距時，后發(fā)國家適宜選擇模仿創(chuàng)新，而當技術(shù)創(chuàng)新能力與發(fā)達國家相近時，宜由“模仿主導” 向“創(chuàng)新主導” 逐步轉(zhuǎn)換（歐陽峣和湯凌霄，2017）。不僅如此，經(jīng)驗研究顯示技術(shù)差距與對外開放程度、要素稟賦結(jié)構(gòu)、制度環(huán)境、知識產(chǎn)權(quán)保護、市場競爭程度、收入差距、金融發(fā)展與經(jīng)濟波動等因素共同作用于技術(shù)創(chuàng)新決策，并對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換形成影響（余泳澤和張先軫，2015；黃先海和宋學印，2017；方福前和邢煒，2017；王林輝和袁禮，2018）。然而，少有研究將市場規(guī)模納入技術(shù)差距收斂框架，考察其對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換的影響。

另一支文獻在繼承“需求引致創(chuàng)新” 理論的基礎(chǔ)上，已充分認識市場規(guī)模對技術(shù)創(chuàng)新的正向促進作用。理論研究在內(nèi)生經(jīng)濟增長框架下討論技術(shù)創(chuàng)新過程中規(guī)模經(jīng)濟效應強弱（Romer，1990；Lucas 和Moll，2014），繼而采用跨國經(jīng)驗數(shù)據(jù)實證檢驗規(guī)模經(jīng)濟效應是否存在，或采用特定產(chǎn)業(yè)的數(shù)據(jù)驗證市場規(guī)模對技術(shù)創(chuàng)新的作用（Barro 和Sala_i_Martin，2003；Hermosilla 和Wu，2018）。隨著中國本地市場規(guī)模的不斷擴大，學者們開始關(guān)注其對創(chuàng)新、生產(chǎn)率和全球價值鏈的作用機制和條件（陳豐龍和徐康寧，2012；鄭江淮和鄭玉，2020）。

綜上所述，現(xiàn)有文獻對后發(fā)國家選擇技術(shù)進步路徑和實現(xiàn)技術(shù)趕超提供了理論啟示，但多從研發(fā)投入視角分析技術(shù)進步路徑的轉(zhuǎn)換，基于研發(fā)產(chǎn)出視角的研究有限，同時忽視了創(chuàng)新戰(zhàn)略約束下，不斷擴張的國內(nèi)市場規(guī)模對技術(shù)創(chuàng)新模式和技術(shù)趕超的動態(tài)作用。而本文可能的貢獻則體現(xiàn)在如下兩個方面：其一，本文在技術(shù)差距收斂框架下，以自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新產(chǎn)出的相對貢獻率代表技術(shù)進步路徑，演繹市場規(guī)模對后發(fā)大國技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超的非一致門檻作用，從創(chuàng)新視角詮釋市場規(guī)模經(jīng)濟優(yōu)勢，為進一步釋放中國超大市場規(guī)模優(yōu)勢提供新的理論依據(jù)。其二，本文通過刻畫模仿創(chuàng)新和自主創(chuàng)新在技術(shù)提升時發(fā)揮的替代或互補作用，引入不同類型的創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略，數(shù)值模擬在不同創(chuàng)新戰(zhàn)略引領(lǐng)下，伴隨著本地市場規(guī)模的不斷增長，后發(fā)大國技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超的動態(tài)演化軌跡，并分析三者的動態(tài)聯(lián)動性，為探索中國特色的自主創(chuàng)新道路提供新的理論解釋。

三、模型演繹

（一）基本模型框架

基于技術(shù)差距收斂框架，本文建立一個后發(fā)大國的內(nèi)生技術(shù)進步模型。假設(shè)該后發(fā)經(jīng)濟體在連續(xù)時間內(nèi)，代表性家庭偏好滿足CRRA 效用函數(shù)：

其中，ρ表示折現(xiàn)率，θ為相對風險厭惡系數(shù)，而C（t）則代表t時刻的消費總量。代表性家庭為實現(xiàn)效用最大化，消費決策滿足歐拉方程：＝（r-ρ）/θ。后發(fā)大國為封閉經(jīng)濟體，且生產(chǎn)過程中投入勞動要素，設(shè)定總量勞動要素投入L恒定，勞動力供給無彈性。因而，該經(jīng)濟體在t時刻所面對的資源約束為：C（t）＋Z（t）≤Y（t）。其中，Z（t）代表經(jīng)濟體在t時刻的研發(fā)總支出，而Y（t）代表總產(chǎn)出。后發(fā)大國的最終產(chǎn)品Y（t）由連續(xù)性的中間產(chǎn)品yi（t）生產(chǎn)，將中間產(chǎn)品種類標準化為1，生產(chǎn)函數(shù)形式設(shè)定為CD 型：

將最終產(chǎn)品Y（t）設(shè)定為價值標準，以pi（t）代表中間產(chǎn)品yi（t）的價格。在完全競爭的最終產(chǎn)品市場下，根據(jù)式（1）可得中間產(chǎn)品的需求函數(shù)為：yi（t）＝Y(jié)（t）/pi（t）。

將中間產(chǎn)品yi（t）生產(chǎn)企業(yè)i的技術(shù)設(shè)定為：

其中，qi（t）代表該產(chǎn)品生產(chǎn)線上的最先進技術(shù)，而li（t）則代表企業(yè)i雇用的勞動力，支付的工資報酬為w（t），經(jīng)濟體的總量勞動力投入滿足lnL ＝。

根據(jù)式（2）可得，生產(chǎn)中間產(chǎn)品的邊際成本為：

技術(shù)進步表現(xiàn)為中間品最先進技術(shù)qi（t）的提升，而中間品生產(chǎn)企業(yè)從事新技術(shù)的研發(fā)。一旦研發(fā)成功，則該產(chǎn)品的最先進技術(shù)qi（t）提升至（1 ＋λ）qi（t）。在該生產(chǎn)線上，掌握當前最先進生產(chǎn)技術(shù)qi（t）的企業(yè)與掌握原最先進技術(shù)qi（t）/（1 ＋λ）的企業(yè)進行競爭。在伯川德（Bertrand）競爭格局下，掌握當前最先進技術(shù)的企業(yè)依據(jù)原最先進技術(shù)企業(yè)的邊際成本確定中間品價格：

若定價高于該價格，則原最先進技術(shù)企業(yè)仍有利可圖，市場將被原企業(yè)侵占；若定價低于該價格，原企業(yè)雖難以獲利，但因掌握當前最先進技術(shù)，企業(yè)利潤仍有提升空間。

結(jié)合式（2）—（4），可得中間產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè)的利潤函數(shù)為：

市場規(guī)模由居民收入水平和人口規(guī)模等因素決定，而總產(chǎn)出（收入）Y（t）代表了一國居民的總購買力，因此可代表國家的市場規(guī)模（Alesina 等，2000；Acemoglu 和Linn，2004）。根據(jù)式（5）可知，市場規(guī)模對中間品生產(chǎn)企業(yè)的利潤具有正向影響，即市場規(guī)模越大，通過創(chuàng)新獲得的利潤越高，企業(yè)研發(fā)動機越強，也體現(xiàn)了創(chuàng)新的規(guī)模經(jīng)濟優(yōu)勢。

當然，研發(fā)創(chuàng)新具有高風險特征，若企業(yè)研發(fā)成功將改善產(chǎn)品生產(chǎn)技術(shù)，掌握新技術(shù)一期專利權(quán)，可采用新技術(shù)生產(chǎn)中間品并獲利；而一旦研發(fā)失敗則難以提升其技術(shù)水平，中間產(chǎn)品的生產(chǎn)將隨機分配給掌握原技術(shù)的任一企業(yè)（Aghion 和Howitt，2008）。假定中間品生產(chǎn)企業(yè)可通過自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新兩種模式，提升i類中間產(chǎn)品的技術(shù)水平。設(shè)生產(chǎn)企業(yè)在t期自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新成功后，可使t＋1 期技術(shù)分別提升至：

其中，λD和λF分別為自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新實現(xiàn)的技術(shù)改善程度，而a（t）＝A（t）/（t）代表后發(fā)大國的相對技術(shù)水平或技術(shù)差距，即后發(fā)大國技術(shù)水平A（t）與世界前沿技術(shù)水平（t）的比值，a（t）越大表明該國與發(fā)達國家的技術(shù)差距越小（Acemoglu 等，2006）。可見，后發(fā)大國的模仿創(chuàng)新實際所實現(xiàn)的技術(shù)改善程度λF/a（t）受制于技術(shù)差距，這是因為技術(shù)差距越大，后發(fā)大國技術(shù)模仿的空間越大，技術(shù)外溢效應越顯著（Keller 和Yeaple，2009）。而伴隨著后發(fā)大國技術(shù)水平逐漸接近世界技術(shù)前沿，技術(shù)外溢效應逐漸減弱，此時技術(shù)的引進對提升技術(shù)水平作用有限。同時，世界前沿技術(shù)進步率為

由于企業(yè)的創(chuàng)新行為具有高風險特征，本文引入創(chuàng)新成功率衡量研發(fā)風險，即成功率越高則研發(fā)風險越小，反之則反是。設(shè)定自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新成功率是各自研發(fā)投入的增函數(shù)：

其中，ζD和ζF分別代表自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的成本參數(shù)，由于自主創(chuàng)新的成本高于模仿創(chuàng)新，本文直接設(shè)定ζF≤ζD≤Y。一個合理的假設(shè)是研發(fā)投入對創(chuàng)新成功率的邊際影響隨著研發(fā)投入增加呈遞減趨勢。當研發(fā)投入zDi（t）和zFi（t）保持不變時，創(chuàng)新成功率還取決于創(chuàng)新成功后新技術(shù)的改善程度λD和λF/a（t），改善程度越高，通過研發(fā)創(chuàng)新實現(xiàn)這一突破的可能性越小。而函數(shù)φ則體現(xiàn)了研發(fā)成本隨技術(shù)改善程度λD和λF/a（t）的提高而上升，以及隨著研發(fā)投入zDi（t）和zFi（t）的增加而上升。為了使模型能夠得到顯性解，且不失一般性，假定φ的函數(shù)形式為：

t時刻用于自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的研發(fā)投入ZD（t）、ZF（t）及總量研發(fā)投入Z（t）為：

（二）創(chuàng)新戰(zhàn)略約束下的技術(shù)進步路徑

本文進一步分析不同創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略約束下后發(fā)大國的技術(shù)進步路徑。至于如何表征不同類型的創(chuàng)新戰(zhàn)略，Acemoglu 等（2006）認為異質(zhì)性創(chuàng)新戰(zhàn)略表現(xiàn)為不同雇傭決策下生產(chǎn)率水平的差異，黃先海和宋學印（2017）則將基于技術(shù)差距和技術(shù)外溢效應實現(xiàn)的技術(shù)進步定義為追趕導向型，將以競爭創(chuàng)新為動力的技術(shù)進步定義為競爭導向型。據(jù)此，本文以兩種創(chuàng)新模式所實現(xiàn)的目標即技術(shù)改善程度λD和λF/a（t）的相對大小代表不同的創(chuàng)新戰(zhàn)略：當λD＞λF/a（t）時，自主創(chuàng)新成果能夠覆蓋和替代模仿創(chuàng)新，后發(fā)大國實施以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略。當λD≤λF/a（t）時，自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新呈互補關(guān)系，后發(fā)大國實施自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略。創(chuàng)新戰(zhàn)略的分類，一方面回應了理論層面關(guān)于自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新互補和替代關(guān)系的爭議（張杰等，2020），另一方面也體現(xiàn)了中國不同階段創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略的演進軌跡。

在不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下，兩類創(chuàng)新對技術(shù)的改善程度保持不變，經(jīng)濟體的技術(shù)進步率與創(chuàng)新成功率相關(guān)，因而需要確定自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的研發(fā)投入ZD（t）和ZF（t）。中間產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè)i將根據(jù)下式預期利潤Eπi（t＋1），確定自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的研發(fā)投入zDi（t）和zFi（t）：

其中，EπDi（t＋1）和EπFi（t＋1）分別代表自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新成功后所實現(xiàn)的預期利潤，企業(yè)根據(jù)當期市場預測下期利潤，由式（5）可得：EπFi（t＋1）＝（λF/a（t））Y（t）/（1 ＋λF/a（t））和EπDi（t＋1）＝λDY（t）/（1 ＋λD）。由上式可知，中間品生產(chǎn)企業(yè)創(chuàng)新的預期利潤受市場規(guī)模、創(chuàng)新的技術(shù)改善程度及各自創(chuàng)新成功率等因素的共同影響。

結(jié)合式（7）和式（10）可知：受限于新技術(shù)研發(fā)的高風險和高成本特征，企業(yè)研發(fā)投入規(guī)模有限。但在經(jīng)濟體具有大規(guī)模市場的條件下，創(chuàng)新成功率中蘊含的研發(fā)風險與利潤函數(shù)中隱藏的市場規(guī)模相耦合，即創(chuàng)新的高研發(fā)投入被大規(guī)模市場所分攤，市場規(guī)模也吸收和分散了企業(yè)的創(chuàng)新風險，恰好體現(xiàn)了研發(fā)的市場規(guī)模經(jīng)濟優(yōu)勢。

當后發(fā)大國實施以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略即λD＞λF/a（t）時，若企業(yè)自主創(chuàng)新成功而模仿創(chuàng)新失敗，則該企業(yè)以pDi（t）×（1 -pFi（t））的概率獲得預期利潤EπDi（t＋1）；若企業(yè)自主創(chuàng)新失敗，則該企業(yè)以pFi（t）×（1 -pDi（t））的概率獲取預期利潤EπFi（t＋1）；若企業(yè)自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新同時成功實現(xiàn)技術(shù)突破，由于此時自主創(chuàng)新對技術(shù)的改善程度大于模仿創(chuàng)新，則自主創(chuàng)新成果將覆蓋模仿創(chuàng)新成果，該企業(yè)以pDi（t）×pFi（t）的概率獲得預期利潤EπDi（t＋1）；但若研發(fā)企業(yè)的自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新均未實現(xiàn)技術(shù)突破，企業(yè)獲得零利潤的概率為（1-pFi（t））×（1-pDi（t））。

根據(jù)式（10）的一階條件，結(jié)合式（5）—（7）可確定企業(yè)兩類創(chuàng)新的研發(fā)投入：

可見，市場規(guī)模Y（t）的擴張有利于中間品生產(chǎn)企業(yè)利潤的增加，利潤激勵下兩類創(chuàng)新的研發(fā)投入都出現(xiàn)增加。同時，研發(fā)投入受技術(shù)改善程度λD影響，當技術(shù)改善程度增加時，該企業(yè)的研發(fā)投入水平相應提高。而企業(yè)內(nèi)部自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新之間的研發(fā)資源分配，則受創(chuàng)新成本參數(shù)ζD和ζF影響，兩類研發(fā)投入隨各自成本提高而增加。

由式（9）和式（11）可得，全社會的總量研發(fā)投入為：

由式（12）可知：一方面，企業(yè)研發(fā)投入能夠被大規(guī)模市場Y（t）所分攤，市場規(guī)模的擴張有利于總量研發(fā)投入的提高，這體現(xiàn)了創(chuàng)新的規(guī)模經(jīng)濟優(yōu)勢；另一方面，研發(fā)投資偏好于蘊藏著巨大增長潛力的新技術(shù)領(lǐng)域，企業(yè)將關(guān)注自主創(chuàng)新可實現(xiàn)的重大技術(shù)突破，即技術(shù)改善程度λD，以此確定研發(fā)投入的規(guī)模，技術(shù)改善程度越高則研發(fā)投入越多。

結(jié)合式（7）、式（8）和式（11），可得自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的成功率分別為：

兩類創(chuàng)新成功率受創(chuàng)新成本參數(shù)、技術(shù)改善程度和市場規(guī)模等因素影響。創(chuàng)新成本參數(shù)提高，將增加創(chuàng)新風險，創(chuàng)新的高風險特征使得企業(yè)必須考慮能否成功收回研發(fā)成本，繼而減少研發(fā)投入，降低創(chuàng)新成功率。但強大的國內(nèi)市場可以強化企業(yè)創(chuàng)新的動機，提高研發(fā)投入規(guī)模，分攤高額的創(chuàng)新成本，從而降低創(chuàng)新風險，有效發(fā)揮規(guī)模經(jīng)濟優(yōu)勢。不僅如此，模仿創(chuàng)新成功率也與其所實現(xiàn)的技術(shù)改善程度和相對技術(shù)水平有關(guān)，通過模仿創(chuàng)新實現(xiàn)的技術(shù)改善程度越低，相對技術(shù)水平越高，模仿創(chuàng)新的成功率越高。

由式（13）可得，企業(yè)通過自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新使中間品的生產(chǎn)技術(shù)提升至：

根據(jù)式（1），本文定義總量技術(shù)水平為各企業(yè)最先進技術(shù)加總，即lnA（t）＝，再對式（14）取對數(shù)按照企業(yè)進行加總，可得后發(fā)大國的技術(shù)進步率：

由式（15）可知，后發(fā)大國通過自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新兩種模式實現(xiàn)技術(shù)進步。首先，技術(shù)進步率g（t）受技術(shù)改善程度和相對技術(shù)水平的影響。自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新實現(xiàn)的技術(shù)改善程度λD和λF越大，技術(shù)進步速度越快。而后發(fā)大國與先發(fā)國家上一期的相對技術(shù)水平對當期技術(shù)進步率的跨期影響存在正反兩種效應：一方面，上期相對技術(shù)水平a（t-1）對當期技術(shù)進步速率g（t）產(chǎn)生反向影響，這是因為技術(shù)外溢效應隨著技術(shù)差距縮小而減少，從而技術(shù)進步率減慢。另一方面，相對技術(shù)水平對技術(shù)進步速率具有正向作用，隨著技術(shù)差距的縮小，技術(shù)吸收障礙逐漸減弱，模仿創(chuàng)新成功的概率提升。因此，相對技術(shù)水平對技術(shù)進步率的影響取決于這兩種作用的相對強弱：

由上式可知，隨著后發(fā)大國技術(shù)逐漸接近技術(shù)前沿，模仿創(chuàng)新成功率提高的正向作用不足以抵消技術(shù)改善程度減少的反向影響，技術(shù)進步率隨相對技術(shù)水平的提高而下降。

在此基礎(chǔ)上，結(jié)合式（15）分析自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新對技術(shù)進步率g（t）的相對貢獻強弱，據(jù)此從創(chuàng)新產(chǎn)出視角考察技術(shù)進步路徑的演進軌跡：

若?（gD（t）/gF（t））＞0，表明相對于模仿創(chuàng)新，自主創(chuàng)新增速更快，技術(shù)進步路徑偏向自主創(chuàng)新，符合預期戰(zhàn)略目標；若?（gD（t）/gF（t））＜0，表明技術(shù)進步路徑朝模仿創(chuàng)新發(fā)展，則以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略并未取得預期效果。由式（16）可知，?（gD（t）/gF（t））/?a（t-1）＞0，說明伴隨著技術(shù)差距的縮小，模仿創(chuàng)新增速gF（t）下降，自主創(chuàng)新作用更為突出，此時技術(shù)進步天然朝自主創(chuàng)新發(fā)展。

若后發(fā)大國選擇自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略，即λD≤λF/a（t），根據(jù)式（10）的一階條件可以推導出自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的成功率，并由此得到后發(fā)大國的技術(shù)進步率和技術(shù)進步路徑：

結(jié)合式（17）—（18）可知：當后發(fā)大國逐漸接近世界技術(shù)前沿即技術(shù)差距縮小時，技術(shù)進步率g（t）、自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的速率gD（t）和gF（t）均隨之下降，且模仿創(chuàng)新降幅大于自主創(chuàng)新，技術(shù)進步朝自主創(chuàng)新方向發(fā)展。

（三）市場規(guī)模、創(chuàng)新戰(zhàn)略與技術(shù)進步路徑

國內(nèi)市場規(guī)模是后發(fā)大國的突出優(yōu)勢，因此本文進一步剖析不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下，市場規(guī)模對自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的異質(zhì)性影響，以及對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超的作用。

當后發(fā)大國實施以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略，即λD＞λF/a（t）時，根據(jù)式（15），市場規(guī)模對自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新增速的影響如下式所示：

一方面，?gD（t）/?Y（t-1）＞0，表明市場規(guī)模的擴大有利于提高自主創(chuàng)新增速，在兩類創(chuàng)新戰(zhàn)略下，大規(guī)模市場能夠分攤研發(fā)成本和分散自主創(chuàng)新風險。另一方面，市場規(guī)模對模仿創(chuàng)新的影響則存在門檻效應。雖然市場規(guī)模能同時提高兩類創(chuàng)新的成功率，但在該類創(chuàng)新戰(zhàn)略下，模仿創(chuàng)新能否實現(xiàn)技術(shù)改善受限于自主創(chuàng)新成果。因此，市場規(guī)模對模仿創(chuàng)新增速的影響取決于其對自主創(chuàng)新風險和模仿創(chuàng)新成功率作用的強弱。

令Y1＝2ζD為門檻值，當大國市場規(guī)模小于門檻值即Y（t-1）≤Y1時，?gF（t）/?Y（t-1）＞0，市場規(guī)模擴大提升模仿創(chuàng)新增速，其對模仿創(chuàng)新成功率的促進作用超過其對自主創(chuàng)新風險的化解作用；當市場規(guī)模跨越門檻后即Y（t-1）＞Y1時，?gF（t）/?Y（t-1）＜0，市場規(guī)模擴張將抑制模仿創(chuàng)新增速提升，其對自主創(chuàng)新風險的化解作用更強。

市場規(guī)模對技術(shù)進步路徑的影響亦存在門檻效應，令Y2＝為門檻值，當Y（t-1）≤Y2時，則?（gD（t）/gF（t））/?Y（t-1）＜0，表明市場規(guī)模使模仿創(chuàng)新增長更快，技術(shù)進步偏向模仿創(chuàng)新，有限的市場規(guī)模難以分散自主創(chuàng)新風險和分攤研發(fā)成本。當Y（t-1）＞Y2時，市場規(guī)模足夠大，能分攤自主創(chuàng)新成本和化解研發(fā)風險，?（gD（t）/gF（t））/?Y（t-1）＞0，規(guī)模擴張引致自主創(chuàng)新增長更快，技術(shù)進步偏向自主創(chuàng)新。

整體而言，當市場規(guī)模Y（t-1）≤Y2時，市場規(guī)模擴張同時有利于自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新增速提高，且模仿創(chuàng)新增速更快，使技術(shù)進步更加依賴模仿創(chuàng)新，偏離以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新戰(zhàn)略的目標；而當市場規(guī)模Y2＜Y（t-1）≤Y1時，市場規(guī)模擴大對兩類創(chuàng)新增速均產(chǎn)生正向影響，但自主創(chuàng)新增速更快，技術(shù)進步路徑偏向自主創(chuàng)新；當市場規(guī)模Y（t-1）＞Y1時，市場規(guī)模的進一步擴張將抑制模仿創(chuàng)新增速的提升，促進自主創(chuàng)新增速的提高，實現(xiàn)自主創(chuàng)新對模仿創(chuàng)新的替代，使技術(shù)進步路徑向自主創(chuàng)新轉(zhuǎn)換的速率加快。

本文進一步分析在以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略下，市場規(guī)模對后發(fā)大國技術(shù)趕超的影響。經(jīng)濟體的技術(shù)差距a（t）變化路徑滿足：。結(jié)合式（15）可知，若g（t）＞，后發(fā)大國技術(shù)進步快于世界前沿技術(shù)，相對技術(shù)水平提高，但技術(shù)進步率下降即（t）＜0；若g（t）＜，后發(fā)大國技術(shù)進步低于世界技術(shù)前沿，該國相對技術(shù)水平下降，技術(shù)進步率上升即（t）＞0，其技術(shù)進步率逐漸收斂于世界前沿技術(shù)進步率。當g（t）＝時，后發(fā)大國與世界前沿技術(shù)保持相同增長率，其相對技術(shù)水平收斂于a*：

后發(fā)大國的市場規(guī)模對均衡技術(shù)差距的影響亦存在門檻效應①為探析市場規(guī)模對均衡技術(shù)差距a*的影響，令?a*/?Y ＝0 可得：-Γ（）Y2 ＋2Γ（）ζDY ＋ζDζF（1＋λD）＝0，方程解即為門檻值。：本文定義門檻值，當市場規(guī)模未達到門檻值即Y（t-1）≤Y4時，?a*/?Y（t-1）＜0，國內(nèi)市場規(guī)模將抑制均衡技術(shù)水平的提高。一方面，若市場規(guī)模有限，則難以分攤自主創(chuàng)新成本并分散研發(fā)風險，企業(yè)擔心無法收回研發(fā)成本；另一方面，模仿創(chuàng)新對技術(shù)的改善有限，且能否實現(xiàn)仍受制于自主創(chuàng)新成功與否，市場規(guī)模的擴張不能有效激勵研發(fā)規(guī)模優(yōu)勢的發(fā)揮。當后發(fā)大國的市場規(guī)模跨越門檻即Y（t-1）＞Y4時，?a*/?Y（t-1）＞0，后發(fā)大國將形成獨特的市場規(guī)模優(yōu)勢，有利于縮小均衡技術(shù)差距。

在自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下，即λD≤λF/a（t）時，后發(fā)大國的市場規(guī)模亦對自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新形成非對稱性影響，繼而作用于技術(shù)進步路徑。結(jié)合式（17）和式（18）可得，市場規(guī)模對自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新增速的影響如下式所示：

首先，?gF（t）/?Y（t-1）＞0，表明在自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下，市場規(guī)模的擴大始終有利于促進模仿創(chuàng)新增速gF（t）的提高。其次，市場規(guī)模對自主創(chuàng)新增速gD（t）的影響存在門檻效應。在該類創(chuàng)新戰(zhàn)略下，經(jīng)濟體的市場規(guī)模雖然能夠提升兩類創(chuàng)新的成功率，但自主創(chuàng)新對模仿創(chuàng)新成果形成有益補充，只有在模仿創(chuàng)新失敗且自主創(chuàng)新成功的條件下，自主創(chuàng)新才能改善技術(shù)水平。市場規(guī)模擴張一方面能夠提升自主創(chuàng)新成功率，另一方面也能化解模仿創(chuàng)新風險，其對自主創(chuàng)新的影響取決于二者作用的強弱。

令Y3＝2ζF表示門檻值，當后發(fā)大國的市場規(guī)模Y（t-1）≤Y3時，?gD（t）/?Y（t-1）＞0，國內(nèi)市場規(guī)模擴張對自主創(chuàng)新成功率的促進作用超過其對模仿創(chuàng)新風險的化解作用，將有利于提高自主創(chuàng)新增速；當后發(fā)大國的市場規(guī)模Y（t-1）＞Y3時，?gD（t）/?Y（t-1）＜0，市場規(guī)模在化解模仿創(chuàng)新風險上的作用更強，繼而抑制自主創(chuàng)新增速提升。在此基礎(chǔ)上，本文進一步分析市場規(guī)模對技術(shù)進步路徑的影響，?（gD（t）/gF（t））/?Y（t-1）＜0，表明擴大的市場規(guī)模將使技術(shù)進步加深對模仿創(chuàng)新的路徑依賴。①令?（gD（t）/gF（t））/?Y（t -1）＝0，可得一個關(guān)于Y（t）的一元二次方程，方程的根為Y ＝（ζF ±。由于ζF ＜ζD 時，方程無實根，?（gD（t）/gF（t））/?Y（t-1）＜0。

整體而言，當市場規(guī)模Y（t-1）≤Y3時，市場規(guī)模擴大對兩類創(chuàng)新增速均產(chǎn)生正向影響，但模仿創(chuàng)新增速更快，技術(shù)進步路徑偏向模仿創(chuàng)新；而當市場規(guī)模Y（t-1）＞Y3時，市場規(guī)模擴張將抑制自主創(chuàng)新增速的提升，促進模仿創(chuàng)新增速的提高，使技術(shù)進步加深對模仿創(chuàng)新的依賴，從而偏離制定該戰(zhàn)略促進自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新耦合式發(fā)展的初衷。

進一步分析在自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下，后發(fā)大國市場規(guī)模對技術(shù)追趕的影響，若表示在該創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略下后發(fā)大國均衡的技術(shù)差距，??Y（t-1）＜0表明當后發(fā)大國實施該類創(chuàng)新戰(zhàn)略時，市場規(guī)模的擴張將使該國陷入低水平均衡陷阱。②令?/?Y ＝0，可解得方程根為Y ＝2ζF （1 ＋λD）/（λD -λF）。在自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下λD≤λF/a（t），方程根為負值，即?/?Y（t-1）＜0。

命題1：在不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下，市場規(guī)模對后發(fā)大國技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換存在異質(zhì)性作用。當市場規(guī)模未達到門檻值Y（t-1）≤Y2時，無論實施何種創(chuàng)新戰(zhàn)略，市場規(guī)模擴張都將加深技術(shù)進步對模仿創(chuàng)新的依賴；當市場規(guī)模跨越門檻后（Y（t-1）＞Y2），若選擇自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略，將使技術(shù)進步加深對模仿創(chuàng)新的依賴，偏離戰(zhàn)略目標；若實施以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略，市場規(guī)模可使技術(shù)進步轉(zhuǎn)向自主創(chuàng)新。若以技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換為標準，當大國市場規(guī)模跨越門檻（Y2）后，應及時推進創(chuàng)新戰(zhàn)略的調(diào)整。

命題2：在不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下，市場規(guī)模對后發(fā)大國技術(shù)趕超具有異質(zhì)性影響。若市場規(guī)模未跨越門檻（Y（t-1）≤Y4），無論采取何種創(chuàng)新戰(zhàn)略，市場規(guī)模的擴張都將抑制均衡技術(shù)差距的縮小；當市場規(guī)模跨越門檻時（Y（t-1）＞Y4），若選擇自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略，將抑制其均衡技術(shù)水平的提升；若實施自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略，有利于其向技術(shù)前沿收斂。若以技術(shù)趕超為標準，則調(diào)整創(chuàng)新戰(zhàn)略的市場規(guī)模門檻為Y4。

命題1 和命題2 分別揭示了如何根據(jù)市場規(guī)模的變化適時調(diào)整創(chuàng)新戰(zhàn)略以實現(xiàn)技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和推進技術(shù)趕超。但問題在于，分別以二者作為目標來調(diào)整創(chuàng)新戰(zhàn)略的市場規(guī)模門檻并不一致。表1 歸納總結(jié)了在不同的市場規(guī)模下，當后發(fā)大國實施不同的創(chuàng)新戰(zhàn)略時，市場規(guī)模擴張對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超的異質(zhì)性作用，據(jù)此可制定符合市場規(guī)模的創(chuàng)新戰(zhàn)略：第一，當后發(fā)大國的市場規(guī)模由大規(guī)模向超大規(guī)模發(fā)展時，由于尚未達到超大規(guī)模市場，無論實施何種戰(zhàn)略，市場規(guī)模對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超的影響均為負向，實施自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略能達到更高的技術(shù)進步率，技術(shù)進步主要依靠后發(fā)優(yōu)勢和比較優(yōu)勢。第二，當后發(fā)大國經(jīng)濟階段處于由超大轉(zhuǎn)向超強時，由于并未達到超強階段，此時無論采取何種戰(zhàn)略，市場規(guī)模對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換的影響均為負向，但在以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新戰(zhàn)略下能夠推進經(jīng)濟體向世界技術(shù)前沿收斂；而在自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下，市場規(guī)模的擴張反而將抑制均衡技術(shù)水平的提升。此時，大國技術(shù)進步雖然仍依賴后發(fā)優(yōu)勢，但為了避免陷入低水平均衡陷阱，應當向以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)換。第三，當后發(fā)大國經(jīng)濟規(guī)模完成從超大向超強的轉(zhuǎn)變后，在以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新戰(zhàn)略下，市場規(guī)模不僅能夠提高均衡技術(shù)水平，還能夠使技術(shù)進步路徑朝向自主創(chuàng)新發(fā)展。整體來看，依靠市場規(guī)模擴張促進技術(shù)進步路徑變遷和技術(shù)趕超，存在關(guān)鍵的雙重門檻，分別對應的市場規(guī)模為Y2和Y4。而技術(shù)進步路徑變遷的市場規(guī)模門檻滯后于技術(shù)差距收斂門檻即Y2＞Y4，原因在于大規(guī)模市場能夠同時化解兩類技術(shù)創(chuàng)新風險，當市場規(guī)模足夠大時，其對自主創(chuàng)新風險的化解作用超過模仿創(chuàng)新，才能夠促進技術(shù)進步路徑向自主創(chuàng)新轉(zhuǎn)換。

表1 不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下市場規(guī)模對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超的影響

數(shù)理模型為制定符合和適應市場規(guī)模變化的創(chuàng)新戰(zhàn)略、推進后發(fā)大國實現(xiàn)技術(shù)進步路徑變遷和技術(shù)趕超提供了理論依據(jù)。然而，中國技術(shù)進步路徑變遷的典型事實和政策實踐的復雜程度遠超數(shù)理演繹，它們是否符合市場規(guī)模的演變規(guī)律，并在理論層面上具有邏輯自洽性? 回顧中國創(chuàng)新戰(zhàn)略的調(diào)整，2006 年提出要提升自主創(chuàng)新能力、建設(shè)創(chuàng)新型國家戰(zhàn)略，同時也鼓勵企業(yè)引進先進技術(shù)。黨的十八大明確強調(diào)要堅持走中國特色自主創(chuàng)新道路、實施創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略。十九大進一步提出創(chuàng)新是引領(lǐng)經(jīng)濟發(fā)展的第一動力，是建設(shè)現(xiàn)代化經(jīng)濟體系的戰(zhàn)略支撐。而創(chuàng)新戰(zhàn)略調(diào)整也體現(xiàn)在研發(fā)投入結(jié)構(gòu)變化上，中國向以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略調(diào)整甚至早于“創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略” 的提出。2010 年中國引進國外技術(shù)經(jīng)費支出和引進技術(shù)消化吸收經(jīng)費支出都出現(xiàn)下滑趨勢，中國創(chuàng)新戰(zhàn)略自此已開始調(diào)整和轉(zhuǎn)變（方福前和邢煒，2017）。①方福前和邢煒（2017）在原文中提到的“拐點” 是從研發(fā)投入角度視角估計中國技術(shù)進步模式轉(zhuǎn)折點，與本文從創(chuàng)新產(chǎn)出貢獻率視角分析技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)變并不相同。原文中的模式轉(zhuǎn)變更接近于本文的創(chuàng)新戰(zhàn)略調(diào)整，因為戰(zhàn)略調(diào)整帶動研發(fā)投入結(jié)構(gòu)變化。此外，余泳澤和張先軫（2015）認為這一轉(zhuǎn)折點可能出現(xiàn)在2002 年，該年中國研發(fā)投入開始超過技術(shù)引進支出，其后二者差距逐年擴大。

但創(chuàng)新戰(zhàn)略的調(diào)整和研發(fā)資源的傾斜似乎并未取得預期效果，模仿創(chuàng)新和技術(shù)外溢效應能提升全要素生產(chǎn)率對經(jīng)濟增長的貢獻率，但科學研究和自主創(chuàng)新短期內(nèi)未能提高全要素生產(chǎn)率（葉祥松和劉敬，2018）。背后的原因是否在于未能根據(jù)當時的市場規(guī)模及時調(diào)整恰當?shù)膭?chuàng)新戰(zhàn)略? 中國國土面積接近1 000 萬平方千米，2018 年GDP 達13.6 萬億美元，社會消費品零售總額約為5.8 萬億美元，具有4 億左右的中等收入人群。依托人口眾多、國土面積廣闊、市場體量大和市場統(tǒng)一程度高等特征，中國經(jīng)濟具有超大規(guī)模性，但還未實現(xiàn)從超大到超強的轉(zhuǎn)變（國務院發(fā)展研究中心課題組，2020）。而根據(jù)表1的分析，中國應當實施以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略，以充分挖掘和釋放超大規(guī)模優(yōu)勢。一方面，以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略吻合中國市場規(guī)模的演變規(guī)律，是基于技術(shù)趕超目標的現(xiàn)實選擇，而非過早地調(diào)整創(chuàng)新戰(zhàn)略引致技術(shù)進步路徑偏離戰(zhàn)略目標。在該創(chuàng)新戰(zhàn)略引導下，市場規(guī)模擴張對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換的影響確實存在滯后性，自主創(chuàng)新的貢獻率出現(xiàn)先降后升趨勢亦符合理論預期。當中國經(jīng)濟規(guī)模完成從超大向超強的轉(zhuǎn)變時，市場規(guī)模的擴張將進一步推進技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)向自主創(chuàng)新。

四、數(shù)值模擬

本節(jié)將結(jié)合理論模型數(shù)值模擬在不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下，隨著市場規(guī)模的不斷擴張后發(fā)大國技術(shù)進步路徑的動態(tài)轉(zhuǎn)換及技術(shù)趕超的演進態(tài)勢，并分析參數(shù)變化的影響。

（一）參數(shù)校準

本文借鑒已有文獻，結(jié)合中國經(jīng)驗數(shù)據(jù)對模型參數(shù)進行校準，以使模型設(shè)定更加吻合中國實際情況。本文模擬部分采用的經(jīng)驗數(shù)據(jù)來源于《中國統(tǒng)計年鑒》、《中國科技統(tǒng)計年鑒》 和賓夕法尼亞大學世界表（Penn World Table 10），所有指標均為剔除價格波動后的實際值。首先，市場規(guī)模Y的測算借鑒Alesina 等（2000）的研究思路，采用中國實際GDP衡量市場規(guī)模。其次，相對技術(shù)水平a的測度借鑒黃先海和宋學印（2017）的做法，選擇中美全要素生產(chǎn)率之比衡量相對技術(shù)水平。再次，依據(jù)文獻的通用做法，本文將世界技術(shù)前沿的技術(shù)進步率ˉg設(shè)定為0.02（Barro 和Sala_i_Martin，2003；Acemoglu 和Cao，2015）。

最后，不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新實現(xiàn)的技術(shù)改善程度λD和λF，以及兩類創(chuàng)新的成本參數(shù)ζD和ζF是本文參數(shù)校準的關(guān)鍵。關(guān)于兩類創(chuàng)新模式所實現(xiàn)的技術(shù)改善的相對大小即比值，本文參考Acemoglu 和Cao（2015）的做法，若自主創(chuàng)新實現(xiàn)的技術(shù)改善程度要大到能夠替代模仿創(chuàng)新成果，設(shè)定自主創(chuàng)新的技術(shù)改善約為模仿創(chuàng)新的10倍，即在以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略下λD/λF＝10，而在自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下λF/λD＝10。在此基礎(chǔ)上，借鑒傅曉霞和吳利學（2013）的研究思路，本文結(jié)合不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下研發(fā)投入和配置方程②以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新戰(zhàn)略下研發(fā)投入和配置方程請見式（11）—（12），自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合戰(zhàn)略下研發(fā)投入和配置方程請見《經(jīng)濟科學》 官網(wǎng)“附錄與擴展”。，結(jié)合中國技術(shù)進步率、相對技術(shù)水平、市場規(guī)模、研發(fā)投入的實際數(shù)據(jù)，以及設(shè)定的兩類創(chuàng)新模式所實現(xiàn)的技術(shù)改善的相對大小，校準自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的技術(shù)改善程度和成本參數(shù)。其中，自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新的研發(fā)投入數(shù)據(jù)，借鑒劉小魯（2011）的方法，本文采用研究與試驗發(fā)展經(jīng)費支出代表自主創(chuàng)新投入zD（t），引進國外技術(shù)經(jīng)費支出與購買國內(nèi)技術(shù)支出之和衡量模仿創(chuàng)新投入zF（t）。同時，本文需要界定兩類創(chuàng)新戰(zhàn)略的實施階段，以利用各階段的實際數(shù)據(jù)校準兩類創(chuàng)新戰(zhàn)略下的參數(shù)水平。根據(jù)方福前和邢煒（2017）的思路，本文以2010 年作為創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略轉(zhuǎn)變的分界點，以1991—2010 年數(shù)據(jù)校準自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合戰(zhàn)略的參數(shù)，由此確定λD＝0.00175，λF＝0.0175，ζD＝5 455.69，ζF＝2 693.78；而2011—2019 年數(shù)據(jù)則用于校準以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新戰(zhàn)略下的參數(shù)水平，確定λD＝0.0322，λF＝0.0032，ζD＝105 879.93，ζF＝58 599.28。

為檢驗理論模型的有效性，本文結(jié)合經(jīng)驗數(shù)據(jù)與校準參數(shù)對上述理論模型進行數(shù)值模擬，對模擬的技術(shù)進步率與實際技術(shù)進步率進行對比分析，技術(shù)進步率的模擬值和測算值的均值水平和變化規(guī)律基本趨同，驗證數(shù)理模型的有效性。①模型有效性檢驗的結(jié)果請見《經(jīng)濟科學》 官網(wǎng)“附錄與擴展”。

（二）不同類型的創(chuàng)新戰(zhàn)略

本文設(shè)定2019 年為基期，結(jié)合市場規(guī)模和技術(shù)差距的實際數(shù)據(jù)，通過多次迭代模擬兩類創(chuàng)新戰(zhàn)略下，隨著市場規(guī)模擴張，技術(shù)進步路徑gD（t）/gF（t）和相對技術(shù)水平a（t）的動態(tài)演變趨勢，如圖1 和圖2 所示。圖1 為不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下技術(shù)進步路徑的動態(tài)轉(zhuǎn)換，表明在自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下，伴隨著大國市場規(guī)模的持續(xù)擴張，自主創(chuàng)新相對于模仿創(chuàng)新的貢獻率下降，后發(fā)大國技術(shù)進步路徑對模仿創(chuàng)新的依賴不斷加深，偏離該戰(zhàn)略促進自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新耦合發(fā)展的目標。而在以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略下，市場規(guī)模擴大使自主創(chuàng)新相對于模仿創(chuàng)新增速出現(xiàn)先下降后上升的U 形趨勢。第1—11 期自主創(chuàng)新相對于模仿創(chuàng)新的增速持續(xù)下降，以第12 期為拐點技術(shù)進步路徑開始朝自主創(chuàng)新發(fā)展。這是因為后發(fā)大國市場規(guī)模的擴張對自主創(chuàng)新增速始終存在正向影響，雖然自主創(chuàng)新增速的提升速度不斷放緩，但對模仿創(chuàng)新增速的影響則呈現(xiàn)先正后負的倒U 形門檻特征。這一結(jié)果也暗示當宏觀層面采取以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略時，研發(fā)投入資源向自主創(chuàng)新的不斷傾斜，并未伴隨研發(fā)產(chǎn)出層面兩類創(chuàng)新模式相對貢獻率的同等變化，市場規(guī)模擴張對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換的影響確實存在一定的時滯性。而促進技術(shù)進步路徑變遷的市場規(guī)模門檻值為187 957.90 億元，即當中國實際GDP 超過該水平時，市場規(guī)模的擴大能夠促進技術(shù)進步路徑向自主創(chuàng)新轉(zhuǎn)換。

圖1 不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下后發(fā)大國的技術(shù)進步路徑

圖2 不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下后發(fā)大國的技術(shù)趕超態(tài)勢

圖2 為兩類創(chuàng)新戰(zhàn)略下后發(fā)大國技術(shù)趕超的動態(tài)演進趨勢，數(shù)據(jù)顯示后發(fā)大國無論采取何種創(chuàng)新戰(zhàn)略，伴隨著國內(nèi)市場規(guī)模的擴張，后發(fā)大國與先發(fā)國家的技術(shù)差距均不斷縮小。若選擇自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略，則后發(fā)大國相對技術(shù)水平呈對數(shù)型增長，經(jīng)濟體初期的相對技術(shù)水平提升較快，但國內(nèi)市場規(guī)模的擴張使其增速下降；但若選擇以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略，則該國相對技術(shù)水平的提升呈指數(shù)型增長，初期相對技術(shù)水平的增速較慢，后期增長的本地市場需求能發(fā)揮指數(shù)型規(guī)模經(jīng)濟效應，使相對技術(shù)水平加速提升。第1—70 期在以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略下技術(shù)趕超態(tài)勢均滯后于兩類創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略，但從第71 期態(tài)勢出現(xiàn)逆轉(zhuǎn)，實施以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略相對技術(shù)水平出現(xiàn)反超。從長期來看，若選擇以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略，市場規(guī)模的擴張將提升均衡的相對技術(shù)水平；但若實施自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略，則不斷擴大的市場規(guī)模將抑制均衡的相對技術(shù)水平提升。

結(jié)合圖1 和圖2 的數(shù)值模擬結(jié)果可以發(fā)現(xiàn)：中國當前的經(jīng)濟規(guī)模正處于由超大轉(zhuǎn)向超強的階段。為避免陷入低水平均衡陷阱，以技術(shù)趕超為戰(zhàn)略目標、實施以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略能夠提高均衡的相對技術(shù)水平，因而中國實施的創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略是適應當下國內(nèi)市場規(guī)模的。但若從技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換的視角看，在該類創(chuàng)新戰(zhàn)略引導下，擴大的市場規(guī)模短期內(nèi)將使自主創(chuàng)新對技術(shù)進步的貢獻率下降。而從長期來看，隨著中國經(jīng)濟規(guī)模由超大轉(zhuǎn)向超強，市場規(guī)模的擴張不僅能提升均衡的技術(shù)水平，更能分散自主創(chuàng)新風險和研發(fā)成本，支撐創(chuàng)新模式的轉(zhuǎn)變，使技術(shù)進步路徑向自主創(chuàng)新切換。

（三）創(chuàng)新戰(zhàn)略的強度調(diào)整

在此基礎(chǔ)上，本文進一步分析創(chuàng)新戰(zhàn)略強度的調(diào)整對后發(fā)大國技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超的影響，即使λD和λF上下浮動20%，以此表示兩類創(chuàng)新戰(zhàn)略向自主創(chuàng)新和模仿創(chuàng)新傾斜的強度。①創(chuàng)新戰(zhàn)略強度調(diào)整的圖形結(jié)果請見《經(jīng)濟科學》 官網(wǎng)“附錄與擴展”。

一方面，在自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下，調(diào)整模仿創(chuàng)新技術(shù)改善程度的作用更為明顯，而自主創(chuàng)新的影響并不顯著。在該類創(chuàng)新戰(zhàn)略下，通過提高模仿創(chuàng)新的技術(shù)改善程度能提升后發(fā)大國的相對技術(shù)水平。但與此同時，創(chuàng)新戰(zhàn)略向模仿創(chuàng)新的傾斜將使技術(shù)進步路徑加深對模仿創(chuàng)新的依賴，偏離該戰(zhàn)略以模仿創(chuàng)新促進自主創(chuàng)新、推動兩類創(chuàng)新耦合發(fā)展的目標。另一方面，在以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略下，提高自主創(chuàng)新技術(shù)改善程度的作用更加顯著，表明在該類戰(zhàn)略下加大向自主創(chuàng)新的傾斜程度可以使擴張的市場規(guī)模更好地推進后發(fā)大國的技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超。以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新戰(zhàn)略強度的增加，能夠強化大規(guī)模市場對技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換的促進作用，使后發(fā)大國技術(shù)進步路徑由模仿創(chuàng)新轉(zhuǎn)向自主創(chuàng)新的拐點提前，最終使該國均衡的相對技術(shù)水平提高，發(fā)揮研發(fā)創(chuàng)新層面的超大市場規(guī)模經(jīng)濟優(yōu)勢。②由于創(chuàng)新成本參數(shù)的調(diào)整亦將影響研發(fā)資源配置，本文進一步考慮在創(chuàng)新成本參數(shù)調(diào)整時，后發(fā)大國技術(shù)進步路徑與相對技術(shù)水平的動態(tài)演變軌跡，對比分析結(jié)果請見《經(jīng)濟科學》 官網(wǎng)“附錄與擴展”。

（四）創(chuàng)新戰(zhàn)略的動態(tài)調(diào)整

后發(fā)大國所實施的創(chuàng)新戰(zhàn)略并非一成不變，而是一個持續(xù)推進不斷深化的過程，本文進一步考慮采取時變創(chuàng)新戰(zhàn)略時，隨著市場規(guī)模的逐步擴張，后發(fā)大國技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超的動態(tài)演進趨勢。①創(chuàng)新戰(zhàn)略動態(tài)調(diào)整的圖形結(jié)果請見《經(jīng)濟科學》 官網(wǎng)“附錄與擴展”。結(jié)果假設(shè)兩類創(chuàng)新模式實現(xiàn)的技術(shù)改善隨時間變化即λD（t＋1）＝λD（t）×（1 ＋gλD），λF（t＋1）＝λF（t）×（1 ＋gλF），分別設(shè)置gλD和gλF為2%、-2%和0。

在自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下，基準情形設(shè)定為gλD＝gλF＝0。首先，將基準情形gλD＝0 替換為gλD＝2%或gλD＝-2%，后發(fā)大國技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超態(tài)勢幾乎與基準情形重合，表明通過調(diào)整λD使創(chuàng)新戰(zhàn)略不斷弱化（深化），對該戰(zhàn)略的政策效應影響甚微。但若將gλF＝0 替換為gλF＝2%，隨著市場規(guī)模的持續(xù)擴張，技術(shù)進步路徑偏向模仿創(chuàng)新的速率加快，且技術(shù)差距收斂速度也同步增加，其演進趨勢領(lǐng)先于基準狀態(tài)，且領(lǐng)先程度逐漸放大；而若設(shè)置gλF＝-2%，使模仿創(chuàng)新戰(zhàn)略強度持續(xù)減弱，后發(fā)大國的技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超的演進趨勢則相對滯后。

在以自主創(chuàng)新替代模仿的戰(zhàn)略下，基準狀態(tài)設(shè)定gλD＝gλF＝0，將gλD＝0 替換為gλD＝2%時，與基準狀態(tài)相比后發(fā)大國技術(shù)進步路徑和相對技術(shù)水平的演變軌跡出現(xiàn)超前變化。但若將gλD＝0 替換為gλD＝-2%，后發(fā)大國技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超的變化趨勢滯后于基準狀態(tài)，且二者差距不斷擴大。在市場規(guī)模逐步增加的條件下，技術(shù)進步路徑朝向自主創(chuàng)新的強度弱化，技術(shù)差距的收斂速度減緩。若將基準情況gλF＝0 替換為gλF＝2%或gλF＝-2%，后發(fā)大國技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超態(tài)勢幾乎與基準情形重合，表明通過動態(tài)改變λF持續(xù)推進創(chuàng)新戰(zhàn)略的不斷弱化或深化，戰(zhàn)略調(diào)整收效甚微。整體而言，與直接調(diào)整創(chuàng)新戰(zhàn)略強度相比，持續(xù)調(diào)整創(chuàng)新戰(zhàn)略強度雖然具有一定的時滯性，但能夠進一步釋放超大規(guī)模市場優(yōu)勢的指數(shù)效應。

（五）穩(wěn)健性檢驗

本文在校準參數(shù)時，參考Acemoglu 和Cao（2015）的做法直接設(shè)定自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新技術(shù)改善程度的相對大小。然而，以發(fā)達國家經(jīng)驗事實為基礎(chǔ)的文獻與中國技術(shù)趕超的實際情況并不相同。為此，本文考察技術(shù)改善程度相對大小的變化是否對技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超產(chǎn)生影響，以檢驗模擬結(jié)果的穩(wěn)健性。②穩(wěn)健性檢驗圖形結(jié)果請見《經(jīng)濟科學》 官網(wǎng)“附錄與擴展”。

在自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下，基準情形為λD＝0.00175，λF＝0.0175，λF/λD＝10。情形一保持自主創(chuàng)新的技術(shù)改善程度λD＝0.00175 不變，設(shè)定λF＝0.00875，λF/λD由10 調(diào)整為5，伴隨著市場規(guī)模的不斷增加，后發(fā)大國技術(shù)進步路徑對模仿創(chuàng)新的依賴程度減弱，但相對技術(shù)水平也出現(xiàn)下降。情形二考慮λF＝0.0175 不變，將自主創(chuàng)新的技術(shù)改善程度λD調(diào)整為0.0035，使λF/λD＝5，后發(fā)大國技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超態(tài)勢幾乎未發(fā)生改變。與情形二相比，情形一的參數(shù)調(diào)整對模擬結(jié)果的影響較大，但這一影響究竟是源于自主創(chuàng)新的技術(shù)改善還是兩類創(chuàng)新技術(shù)改善比值的調(diào)整，仍有待進一步探究。因此，情形三和情形四均設(shè)定λF/λD＝10，但前者設(shè)定λF＝0.00875，與情形一相同，而后者設(shè)定λD＝0.0035，與情形二一致。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，將情形一與情形三對比，兩種情形下模仿創(chuàng)新的技術(shù)改善程度相同，自主創(chuàng)新的技術(shù)改善程度與兩類創(chuàng)新模式技術(shù)改善的比值不同，但技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超態(tài)勢幾乎一致。同時，將情形二與情形四對比，兩種情形下自主創(chuàng)新的技術(shù)改善程度相同，模仿創(chuàng)新的技術(shù)改善程度與兩類創(chuàng)新模式技術(shù)改善的比值不同，但技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超態(tài)勢發(fā)生改變。

將上述四種情形與基準情形進行對比分析可知，在該類創(chuàng)新戰(zhàn)略下，影響后發(fā)大國技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超態(tài)勢的關(guān)鍵在于模仿創(chuàng)新所實現(xiàn)的技術(shù)改善程度；在自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略下，影響后發(fā)大國技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超態(tài)勢的關(guān)鍵在于自主創(chuàng)新所實現(xiàn)的技術(shù)改善程度，兩類創(chuàng)新的技術(shù)改善程度均采用中國實際數(shù)據(jù)進行了參數(shù)校準。引用文獻直接設(shè)定兩類創(chuàng)新的技術(shù)改善程度之比并不影響技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超態(tài)勢，驗證了模擬結(jié)果的穩(wěn)健性。

五、結(jié)論和政策建議

本文建立了一個后發(fā)大國的內(nèi)生技術(shù)進步模型，演繹不同創(chuàng)新戰(zhàn)略下市場規(guī)模對以技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超的作用機理。結(jié)合中國的經(jīng)驗數(shù)據(jù)，本文數(shù)值模擬了不同創(chuàng)新戰(zhàn)略類型和強度下，隨著國內(nèi)市場規(guī)模的不斷擴張，技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超的動態(tài)演進軌跡，研究發(fā)現(xiàn)：第一，研發(fā)創(chuàng)新的規(guī)模經(jīng)濟優(yōu)勢表現(xiàn)在龐大的市場規(guī)模能夠強化企業(yè)創(chuàng)新動機，分攤高額的創(chuàng)新成本，降低研發(fā)風險，提高創(chuàng)新成功率。第二，在自主創(chuàng)新與模仿創(chuàng)新相耦合的戰(zhàn)略下，不斷擴張的市場規(guī)模將抑制經(jīng)濟體向技術(shù)前沿收斂，并加深技術(shù)進步對模仿創(chuàng)新的依賴度。在以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略下，市場規(guī)模對技術(shù)進步路徑和技術(shù)趕超的影響存在非一致的U 形門檻效應，且促進技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換的市場規(guī)模門檻滯后于技術(shù)趕超的門檻。第三，為避免陷入低水平收斂陷阱，應選擇技術(shù)趕超為基準目標，及時推進和不斷強化以自主創(chuàng)新替代模仿創(chuàng)新的戰(zhàn)略，以進一步釋放市場規(guī)模優(yōu)勢的指數(shù)效應。第四，中國實施的創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略是適應當下市場規(guī)模的現(xiàn)實選擇，但因經(jīng)濟尚處于由超大轉(zhuǎn)向超強的階段，擴張的市場規(guī)模將使自主創(chuàng)新對技術(shù)進步的貢獻率先降后升。看似效果不佳的創(chuàng)新戰(zhàn)略調(diào)整實際上源于不同的戰(zhàn)略目標選擇及政策效果的滯后性。

加快形成雙循環(huán)新發(fā)展格局，既需要以超大規(guī)模市場引致內(nèi)生技術(shù)創(chuàng)新，也需要國家層面的創(chuàng)新戰(zhàn)略支撐，以有效突破“卡脖子” 技術(shù)難題。本文提出如下政策建議：首先，以國內(nèi)需求為基礎(chǔ)，進一步挖掘和發(fā)揮創(chuàng)新的超大市場規(guī)模優(yōu)勢。應當通過交通、通信、政策和制度增強地區(qū)市場之間的互聯(lián)互通，打破市場分割，提高市場一體化程度；通過整合商品市場需求，深化要素市場化改革，形成真正統(tǒng)一的國內(nèi)大市場；通過多措并舉改善初次收入分配和再分配的不平等，釋放內(nèi)需潛力和擴大內(nèi)需容量，加速形成國內(nèi)經(jīng)濟大循環(huán)，將超大的市場規(guī)模轉(zhuǎn)化為自主創(chuàng)新的利潤，通過利潤激勵機制強化企業(yè)創(chuàng)新動機。

其次，以內(nèi)需驅(qū)動自主創(chuàng)新，以高質(zhì)量供給創(chuàng)造需求，促進自主創(chuàng)新與市場需求的良性循環(huán)。應當完善市場制度環(huán)境，增強超大規(guī)模市場的集聚效應，促進形成強大的國內(nèi)市場，實現(xiàn)中國經(jīng)濟由超大轉(zhuǎn)向超強，并以強大的市場需求為基礎(chǔ)，分散企業(yè)研發(fā)創(chuàng)新風險；提高市場競爭程度，強化研發(fā)主體和消費者的學習互動效應，優(yōu)化創(chuàng)新試錯機制，提升創(chuàng)新成功率。以內(nèi)需驅(qū)動創(chuàng)新模式由引進模仿轉(zhuǎn)向自主創(chuàng)新，一方面能夠以高質(zhì)量供給創(chuàng)造新需求，繼而利用不斷擴張的需求引致供給質(zhì)量提升，形成需求與供給的動態(tài)均衡暢通國內(nèi)經(jīng)濟大循環(huán)的堵點；另一方面，也成為深度參與國際技術(shù)合作、重構(gòu)國際創(chuàng)新聯(lián)盟的新優(yōu)勢，并構(gòu)成以內(nèi)為主參與國際大循環(huán)的重要基礎(chǔ)。

最后，堅持創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略的引領(lǐng)和支撐作用，疏導大規(guī)模市場需求誘致創(chuàng)新的制度性梗阻，發(fā)揮超大國內(nèi)市場規(guī)模對關(guān)鍵核心技術(shù)的誘致作用。不能以先發(fā)國家技術(shù)進步和國際市場需求為依托，應當堅持以國內(nèi)市場需求為出發(fā)點，強調(diào)超大國內(nèi)市場需求對企業(yè)原創(chuàng)性創(chuàng)新的引導作用。在這一過程中也需要發(fā)揮中國社會主義制度優(yōu)勢和政府頂層設(shè)計作用，及時甄別市場規(guī)模變化，適時推動創(chuàng)新戰(zhàn)略方向轉(zhuǎn)變，因產(chǎn)業(yè)而制宜，調(diào)整創(chuàng)新戰(zhàn)略強度。當創(chuàng)新戰(zhàn)略調(diào)整后，市場規(guī)模將引致自主創(chuàng)新貢獻率先降后升。為縮小技術(shù)進步路徑轉(zhuǎn)換和技術(shù)趕超雙重門檻之間的差距，縮短自主創(chuàng)新貢獻率下降的周期，應打破制約創(chuàng)新模式轉(zhuǎn)變的體制障礙，完善有利于保護創(chuàng)新成果的產(chǎn)權(quán)制度、研發(fā)人員的績效管理和收益分配制度，以激發(fā)研發(fā)主體的創(chuàng)新活力和創(chuàng)新潛力。