光學球罩拋光運動軌跡均勻性模擬分析

王偉明 李震 李慶忠

摘要 為提高球罩表面的加工質量、加工效率，減少成本浪費，研究磨粒拋光過程中各運動參數對光學球罩表面材料去除均勻性的影響。以離散系數為評價指標，依據相對運動與向量法建立單顆磨粒運動軌跡模型。采用三角形網格對正二十面體表面進行迭代劃分，統計各三角網格中的軌跡點數，用軌跡點數來表征拋光次數。結果表明：轉速比對磨粒軌跡的分布與材料去除影響顯著；相同轉速比下，增大拋光頭半徑，離散系數逐漸降低，球罩表面材料去除均勻性由差變好；增大擺速，軌跡的長度與密度逐漸減小，離散系數隨之變大，球罩表面非均勻性增強；磨粒初始相位改變對軌跡均勻性基本無影響。

關鍵詞 光學球罩；磨粒軌跡；網格劃分；離散系數；均勻性

中圖分類號 TG73；TH161 文獻標志碼 A文章編號 1006-852X（2023）03-0386-06

DOI 碼 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0120

收稿日期 2022-08-05 修回日期 2022-10-06