CPC

王平 鞏瑜

一、引言

由于全球?qū)＠墨I(xiàn)分類體系眾多，單獨(dú)使用其中任何一種進(jìn)行檢索都有其局限性，為此，歐洲專利局（EPO）和美國(guó)專利商標(biāo)局（USPTO）于2010年開始共同著手創(chuàng)建聯(lián)合專利分類（CPC）。本文從CPC產(chǎn)生的原因出發(fā)，從CPC的架構(gòu)和定義兩方面對(duì)CPC分類體系進(jìn)行了詳細(xì)介紹，其中包括：分析CPC的編碼規(guī)則，介紹現(xiàn)有的國(guó)際專利分類體系IPC、歐洲專利分類體系ECLA、ICO至CPC的映射規(guī)則，并對(duì)CPC與現(xiàn)有的各種分類體系進(jìn)行了比較與分析。CPC中包含了歐洲專利局和美國(guó)專利商標(biāo)局最好的分類實(shí)踐做法，有助于實(shí)現(xiàn)專利分類體系在國(guó)際范圍內(nèi)的協(xié)調(diào)統(tǒng)一。

目前全球主要的分類體系包括國(guó)際專利分類（IPC），歐洲專利分類（ECLA、ICO），日本專利分類（FI、F-Term），美國(guó)專利分類（USPC），然而單獨(dú)使用其中任何一種分類體系進(jìn)行檢索都有其局限性。

國(guó)際專利分類（IPC）是國(guó)際專利組織（WIPO）管理的分類體系，是目前許多國(guó)家普遍采用的分類法，在世界范圍內(nèi)公開的所有專利文獻(xiàn)基本都采用IPC分類法進(jìn)行了分類，IPC是其它分類體系細(xì)分的基礎(chǔ)，但是IPC分類有的分類不夠細(xì)，分類條目較寬，出現(xiàn)了IPC有些分類號(hào)下的文獻(xiàn)量過大，不利于檢索的情形。

歐洲專利分類（ECLA、ICO），其中ECLA是歐洲專利局在IPC基礎(chǔ)上的進(jìn)一步細(xì)分得到的分類體系，ICO是針對(duì)ECLA的標(biāo)引系統(tǒng)，是用以標(biāo)引附加信息的分類體系，由于歐洲專利局并未對(duì)所有國(guó)家的文獻(xiàn)進(jìn)行EC分類，當(dāng)專利文獻(xiàn)屬于不進(jìn)行EC分類的國(guó)家的文獻(xiàn)時(shí)，采用EC分類號(hào)進(jìn)行檢索會(huì)出現(xiàn)漏檢的情況。

日本專利分類（FI、F-Term），其中FI分類是基于IPC分類的細(xì)分類，F(xiàn)-Term 是專門用于計(jì)算機(jī)檢索的分類體系，同樣的，由于FI和F-Term只對(duì)日本專利局的文獻(xiàn)進(jìn)行分類，所以采用日本專利分類只能檢索到日本文獻(xiàn)或具有日本同族的專利文獻(xiàn)。

美國(guó)專利商標(biāo)局采用USPC分類體系，其只對(duì)美國(guó)專利文獻(xiàn)進(jìn)行分類，該分類體系不以IPC為基礎(chǔ)，其分類體系比較獨(dú)特，掌握起來比較困難，且檢索的文獻(xiàn)也限于美國(guó)專利文獻(xiàn)。

由于上述多個(gè)分類體系的存在引起了對(duì)專利文獻(xiàn)的分類標(biāo)準(zhǔn)的不統(tǒng)一，只有熟悉各個(gè)分類體系，才能對(duì)專利文獻(xiàn)進(jìn)行有效的檢索，這增加了檢索的成本，為了在世界范圍內(nèi)建立一個(gè)統(tǒng)一的分類體系，并繼承已有的分類體系的優(yōu)點(diǎn)，歐洲專利局和美國(guó)專利商標(biāo)局在2010年10月25日，簽署了合作文件，同意在IPC分類基礎(chǔ)上共同合作，創(chuàng)建并實(shí)施CPC（Cooperative Patent Classification），并于2012年10月1日發(fā)布了CPC架構(gòu)。

二、CPC架構(gòu)與定義

1、CPC 的架構(gòu)（Schema）

CPC的架構(gòu)源于ECLA分類系統(tǒng)，其保留了ECLA的所有特性，如基于IPC性，層次性，標(biāo)題性，可擴(kuò)展性。除了之前的ECLA組，CPC 架構(gòu)還包括：EPO之前的所有ICO索引碼；EPO之前的大多數(shù)關(guān)鍵詞，這些關(guān)鍵詞在成為CPC分類號(hào)之前被轉(zhuǎn)化為有效的ELCA/ICO分類號(hào)；一些源于USPC分類的更多入口，如：商業(yè)方法的進(jìn)一步細(xì)分和USPC分類里獨(dú)有的類別和點(diǎn)組。

CPC的編碼與IPC類似，其保留原IPC分類號(hào)，并將原ECLA、ICO中“/”之后的字母數(shù)字部分全部編碼為數(shù)字形式，且必須滿足“/”之后的數(shù)字長(zhǎng)度不超過6的規(guī)則，以便于與IPC分類號(hào)使用的WIPO ST·8一致，如下圖1所示，ECLA中的H01L21/027B2在CPC中以H01L21/02718表示。

CPC在編碼時(shí)還保留了原ECLA的層次結(jié)構(gòu)，并將IPC、ECLA和ICO三種架構(gòu)匯總，且為日本專利局的FI分類預(yù)留了空間，其編碼規(guī)則如下：

（1）IPC至CPC的編碼：直接映射

（2）ECLA至CPC的編碼：其規(guī)則如圖1所示，是將ECLA分類號(hào)中的“/”之后的字母數(shù)字組合全部改為數(shù)字組合。

（3）ICO至CPC的編碼：ICO包括了三種類型：鏡像ICO、細(xì)分ICO和不相關(guān)的ICO，對(duì)于鏡像和細(xì)分ICO的編碼：其經(jīng)過了如圖3所示的中間狀態(tài)：將鏡像和細(xì)分ICO分類號(hào)中的ICO部“T”符號(hào)轉(zhuǎn)換為與之對(duì)應(yīng)的ECLA部符號(hào)“H”；再將中間狀態(tài)依據(jù)圖1所示的編碼規(guī)則映射最終的CPC編碼。

對(duì)于不相關(guān)的ICO分類號(hào)，其被映射為CPC2000系列，規(guī)則如圖4所示：首先將ICO的大組號(hào)碼+2000，“/”之后的字母數(shù)字部分修改為數(shù)字組合，得到中間編碼值；其次，對(duì)中間編碼值按照ICO與ECLA的映射規(guī)則對(duì)部名進(jìn)行修改，如將“T”修改為“H”；最終形成不相關(guān)的ICO對(duì)應(yīng)的CPC編碼。

這些2000系列的符號(hào)是CPC的索引碼，與IPC的索引碼相似，其也是被用來對(duì)附加信息進(jìn)行分類。

ICO的Y部是后來新增的，主要用來標(biāo)注新技術(shù)的發(fā)展，如Y02表示氣候變化減緩技術(shù)，該部在IPC分類體系中是不存在的，CPC在該Y部中新增了一個(gè)新的子類Y10S，其用來整合之前被US分類覆蓋的交叉參照技術(shù)文獻(xiàn)副分類（cross-reference art collections，XRACs）和暫時(shí)性的分類標(biāo)記（digests）的技術(shù)主題。

CPC架構(gòu)使用大括弧{文本}來標(biāo)識(shí)在IPC中不存在的組的標(biāo)題，或者增加到原IPC組，且之前在ECLA中以[N：文本]備注的標(biāo)題的CPC專用文本，如圖圖5所示，G06F1/00和G06F1/0255的標(biāo)題中均包含了“{}”，即意味著{}內(nèi)的內(nèi)容是CPC新增的。

2、CPC的定義（Definition）

CPC的定義伴隨著CPC 架構(gòu)（Schema），其遵循IPC定義的普遍原則，幫助將主題分類到各個(gè)分類點(diǎn)，在各個(gè)分類入口提供附加信息，不改變?cè)趕chema中定義的標(biāo)題和限制參考的范圍，CPC定義包括8個(gè)子部分：標(biāo)題、定義語句、大技術(shù)主題區(qū)域之間的關(guān)系、分類相關(guān)的參考信息、信息性參見、分類的特殊規(guī)則、術(shù)語、同義詞和關(guān)鍵詞，其基于IPC定義的模板，對(duì)分類培訓(xùn)和分類質(zhì)量的控制很有幫助。

3、CPC與當(dāng)前其他分類體系的比較

根據(jù)CPC架構(gòu)和CPC定義內(nèi)容，我們可以分析得到其與其他分類體系的區(qū)別與聯(lián)系如下表1所示。

CPC分類體系是IPC的細(xì)分和擴(kuò)展，綜合了ECLA和IPC的分類優(yōu)點(diǎn)，使全球的審查員和專利用戶在進(jìn)行專利檢索時(shí)訪問同一個(gè)類別的專利文檔集合，以實(shí)現(xiàn)分類資源共享，避免重復(fù)繁多的維護(hù)工作。

三、CPC的未來展望

CPC中包含了歐洲專利局和美國(guó)專利商標(biāo)局最好的分類實(shí)踐做法，有助于實(shí)現(xiàn)專利分類體系在國(guó)際范圍內(nèi)的協(xié)調(diào)統(tǒng)一。采用CPC不僅可以實(shí)現(xiàn)更有效的現(xiàn)有技術(shù)檢索，也將通過共享減少不必要的重復(fù)工作，從而提高工作效率。2013年1月以后，CPC將全面取代現(xiàn)有的美國(guó)專利分類系統(tǒng)（USPC）和歐洲專利分類系統(tǒng)（ECLA），并對(duì)其他專利局和公眾開放CPC檢索入口。可以預(yù)見，具有IPC與ECLA雙重優(yōu)點(diǎn)的CPC將得到越來越多的使用，從而有望將CPC打造成一個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，并為未來五專利局（IP5）十項(xiàng)基礎(chǔ)工程中的全球通用的通用混合分類（Common Hybrid Classification， CHC）打下堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

（劉長(zhǎng)勇、魏峰、武文琛對(duì)本文寫作亦有重要貢獻(xiàn)）

筆者認(rèn)為現(xiàn)在采用的專利評(píng)估方法并不能合理評(píng)估一件專利的價(jià)值，因?yàn)椋瑳Q定一件專利價(jià)值的主要因素不僅僅與該專利相關(guān)，還應(yīng)當(dāng)與該專利持有人的市場(chǎng)影響力，該專利產(chǎn)品的市場(chǎng)總值，該專利產(chǎn)品上附加的有效專利數(shù)量，以及該產(chǎn)品所屬產(chǎn)業(yè)的專利敏感度和評(píng)估時(shí)期的專利價(jià)值回報(bào)期望值，也就是專利保護(hù)狀況等重要因素相關(guān)，據(jù)此，筆者研究出一種新的專利估值數(shù)學(xué)模型及算法。