摘 要:CdTe薄膜太陽能電池是一種高效、穩定且相對低成本的薄膜太陽能電池。電池的p-n結由p-CdTe與n-CdS形成,電池結構有substrate及superstrate兩種,文章分析結構中透明導電層、窗口層、吸收層、背電極的材料和特性。
關鍵詞:CdTe;薄膜太陽能電池;電池結構
CdTe是Ⅱ-Ⅵ族的化合物半導體材料,具有直接帶隙結構,其禁帶寬度為1.45eV,正好位于理想太陽能電池的禁帶寬度范圍之間。此外,CdTe也具有很高的光吸收系數(>5×105/cm),因此僅僅2μm厚的CdTe薄膜,就足夠吸收AM1.5條件下99%的太陽光。CdTe薄膜太陽能電池結構可分為substrate及superstrate兩種。superstrate結構是在玻璃襯底上依次長上透明氧化層(TCO)、CdS、CdTe薄膜,而太陽光是由玻璃襯底上方照射進入,先透過TCO層,再進入CdS /CdTe結。而在substrate結構,是先在適當的襯底上長上CdTe薄膜,再接著長CdS及TCO薄膜。但是由于substrate結構的太陽能電池的品質較差(例如:CdS/CdTe的界面品質不佳、歐姆接觸性差等),所以效率遠比不上superstrate結構的太陽能電池,因此幾乎所有的高效率CdTe薄膜太陽能電池都是采用superstrate結構[1]。
1 透明導電層
在CdTe太陽能電池中所使用的透明導電層,既要滿足為形成低串聯電阻而需的高電導率,又要為獲得高入射以保證高光生電流而具有高透射率。目前,已在使用并作產業化努力的透明導電層有:SnO2、ITO、CdSnO4和AZO。AZO通常用作CIGS薄膜太陽能電池的透明導電層。它可以用不同種類的含有ZnO和Al靶濺射而成, Al在ZnO中作為施主。不過,這種薄膜在CdTe沉積過程中(大于550℃)會由于熱應力而喪失摻雜性。但是由于這種材料成本比較低,人們還是希望最終能在CdTe薄膜太陽能電池得到更穩定的AZO薄膜。
2 n-CdS窗口層
CdS的禁帶寬度在室溫下約為2.4eV,它不會吸收波長大于515nm的太陽光,所以在整個結構上它被視為窗口層。為了讓整個太陽能電池獲得最高的電流密度,CdS必須相當地?。s0.5μm)。然而因為CdS是多晶結構,容易造成局部分流或過量的正向電流。有人發現在TCO與CdS之間插入一層高電阻的透明氧化層(HRT層),可以有效改善這個問題,并且還能改善結的品質。可以作為高電阻氧化層的材料有SnO2、In2O3、Ga2O3、CdSnO4等。
3 CdTe吸收層和CdCl2處理
關于CdTe太陽能電池的薄膜制造,目前已有多種可行的技術可被采用[2]。
物理氣相沉積法(Physical Vapor Deposition,PVD),是以物理機制來進行薄膜沉積的制造技術,所謂物理機制是指物質的相變化現象,例如進行沉積時,源材料由固態轉化為氣態再進行沉積。利用PVD法制備CdTe或CdS薄膜時,沉積反應是發生在一真空爐內,所使用的源材料可直接為CdTe或CdS化合物,或各自的元素物質。將源材料加熱到800℃,使之揮發為氣相分子,而以約1μm/min的速率沉積在距離約20cm遠的襯底上。通常襯底的溫度要保持在相對比較低的溫度(~100℃),這樣Cd及Te的黏附系數才會接近于1。襯底溫度越高,黏附系數越低,因此沉積速率也變慢。但是,溫度越低得到的多晶薄膜晶粒越小。所以一般應用上,襯底的溫度都不會超過400℃。沉積出來的薄膜的化學計量比控制起來比較難,這與每個元素的平衡蒸汽壓及源材料的化學計量有相當大的關系。
近空間升華法是目前被用來生產高效率CdTe薄膜電池最主要的方法。在這種方法中,蒸發源是被置于一容器內,襯底與源材料要盡量靠近放置,使得兩者之間的溫度差盡量小,從而使薄膜的生長接近理想平衡狀態。使用化學計量準確的源材料,也可以得到化學計量準確的CdTe薄膜。因此,一般襯底的溫度可以控制在450~600℃之間,而高品質的薄膜可以在大約1μm/min的速率沉積下得到。
氣相傳輸沉積法制造CdTe薄膜時,固態的CdTe原料放在容器內,因受熱而揮發出CdTe蒸汽,然后這些Cd/Te蒸汽會隨著傳輸氣體(N2、Ar、He、O2等)而傳送到襯底表面,過飽和的Cd與Te會凝固而沉積在襯底表面形成CdTe薄膜。利用氣相傳輸沉積法可以得到約與薄膜厚度相當的晶粒大小,而且沉積速率相當快。
所謂的濺射法,是指利用等離子體中的高能離子(通常是由電場加速的正離子,例如Ar+),在磁鐵產生的磁力線作用下,加速撞擊CdTe靶材表面,將CdTe表面物質濺出,而后在襯底上沉積而形成薄膜。而等離子體的產生方法有多種,包括直流、射頻、微波等。通常沉積反應是發生在低于300℃的襯底上,而爐內壓力約為10mtorr左右。如果在200℃沉積2μm的CdTe薄膜,所得到的晶粒大小約在300nm左右。
電解沉積法是將含有Cd2+及HTeO2+的電解液進行電化學還原反應,而得到Cd及Te并沉積而成CdTe薄膜。通過控制電解液內部的Cd與Te含量,可以控制所生長出來的薄膜的化學計量組成。
噴涂沉積法,是先在室溫下將含有CdTe、CdCl2及丙二醇的化學漿料噴涂在襯底上,然后再經過幾道高溫熱處理及致密化機械過程,而得到具有多孔性結構的CdTe薄膜。
金屬有機化學氣相沉積法,是在低壓下使含有Cd及Te的有機金屬,例如二甲基鎘及二異丙碲,在反應爐中進行分解,并沉積在襯底上得到CdTe薄膜。沉積速率與襯底的溫度有關。
絲網印刷法算是生產CdTe及CdS薄膜最簡單的方法,它是將含有Cd、Te、CdCl2及含有有機結合劑的金屬膠,通過一印刷板而印制到襯底上,再經過干燥過程去除有機溶劑后,接著加溫到700℃左右做燒結反應,最后得到約10~20μm的再結晶化的CdTe薄膜。
幾乎所有沉積技術所得到的CdTe薄膜,都必須再經過CdCl2處理[3]。CdCl2處理能夠進一步提高CdTe/CdS異質結太陽能電池的短路電流,進而提高光電轉換效率,原因是:(1)能夠在CdTe和CdS之間形成CdS1-xTex界面層,降低界面缺陷態濃度;(2)導致CdTe膜的再次結晶化和晶粒的長大,減少晶界缺陷;(3)熱處理能夠鈍化缺陷、提高吸收層的載流子壽命。將CdTe薄膜置于約400℃的CdCl2環境之下,CdCl2的存在促進了CdTe的再結晶過程。不僅比較小的晶粒消失了,連帶著CdTe與CdS的界面結構也變得比較有序。
4 背電極
背電極通常是使用Ag或Al,它提供CdTe太陽能電池的一個低阻接觸。但由于在p-CdTe上要形成良好的歐姆接觸比較困難,所以在界面處不可避免地會出現肖特基接觸的整流效應。而背電極又要求高導電性,所以它的厚度要做得很薄。
形成背電極的大部分技術,都包括以下幾個步驟:(1)刻蝕CdTe表面,以產生富Te的表面狀態,因此在CdTe與金屬層之間產生p型重摻雜區域,這層p型重摻雜區域可降低金屬與CdTe之間的勢壘;(2)鍍上Ag或Al等金屬層;(3)在150℃以上熱處理。
CdTe薄膜太陽能電池的轉換效率并不會受溫度太大的影響,輸出功率相對穩定。在陰雨天或清晨黃昏,入射太陽光以散射光為主,在這樣的弱光條件下,相同額定功率的CdTe薄膜太陽能電池的輸出功率高于晶體硅太陽能電池。除此之外,CdTe可利用多種快速成膜技術制作,容易實現規?;L,因此近年來對CdTe薄膜太陽能電池商業化的努力有增無減。
參考文獻
[1]K Omura et al,Recent technical advances in thin-film CdS/CdTe solar cells[J].Renewable Energy ,1996,8(1):405-409.
[2]N Romeo et al,Recent progress on CdTe/CdS thin film solar cells[J].Solar Energy,2004,77(6):795-801.
[3]Lukas Kran zet al,Technological status of CdTe photovoltaics[J].Solar Energy Materials and Solar Cells, 2013(119):278-280.
作者簡介:肖友鵬,工作單位:江西科技學院機械工程學院,研究方向:新能源材料與新能源發電。