精密附著體義齒修復下頜末端游離缺失的應力探析

陳文諾　付 赟　李紅麗

（1 漯河醫學高等專科學校第三附屬醫院，河南 漯河 462000；2 漯河醫學高等專科學校，河南 漯河 462000）

精密附著體義齒修復下頜末端游離缺失的應力探析

陳文諾1付 赟2李紅麗1

（1 漯河醫學高等專科學校第三附屬醫院，河南 漯河 462000；2 漯河醫學高等專科學校，河南 漯河 462000）

目的 下頜末端游離缺失采用精密附著體義齒修復的應用特點。方法 針對下頜末端游離缺失修復體，應用模塊法建立三維有限元模型，含精密附著體義齒模型和RPI卡環組修復體模型，分析不同固位類型應力分布情況。結果 黏膜在雙基牙精密附著體義齒垂直載荷下產生最小應力，且較均勻分布，在修復單基牙精密附著體中，有明顯的應力集中出現在4/4基牙的遠中頸部，且在三種修復設計模型中，應力值最大。斜向載荷下，基牙應力在基牙精密附著體義齒有所降低，其他均有程度不等增大。結論 附著體義齒修復在針對下頜末端游離體缺失進行設計時，雙基牙附著體修復需優先選擇。

精密附著義齒；下頜末端游離缺失；應力

臨床口腔科牙列缺損常見類型中，末端游離缺失占較高的病發比例，應用活動-固定聯合方案修復附著體義齒，具活動和固定義齒優點，在此類缺失患者修復中已廣泛應用［1］。本次在固定義齒和可摘局部義齒模型庫基礎上，就三維有限元可摘局部義齒模型進行建立，其以RPI卡環組和精密附著體為固位形式，與臨床實際更為符合。分析精密附著體義齒修復下頜末端游離缺失時，斜向載荷及垂直載荷下各組織應力分布情況，報道如下。

1　材料與方法

1.1硬件及軟件：以Windows XP為操作系統；Intel四核處理器為圖形工作站；三維計算機輔助設計軟件UG 5.0為專業軟件。

1.2方法

1.2.1建立Kennedy Ⅰ類缺失幾何模型：以中國力學虛擬人模塊化下頜骨模型作為本次研究初始模型，在HyperMesh 7.0軟件中將部分初始模型牙槽骨以IGES格式導入，于骨表面垂直向內生長（參照牙槽骨外表面），目的在于促進骨皮質層形成（厚度2 mm），對牙槽骨剩余部分按骨松質定義，分別按零件保存二者，天然牙部分由4321/1234牙列及牙周膜組成，而人工牙部分則由765/567牙冠組成，頰舌向減徑765/567牙冠，經檢測牙槽黏膜厚度為均質2 mm。

1.2.2建立修復體模型。①傳統修復體：于UG5.0軟件中導入末端游離缺失模型，在其坐標紗下建模，輸入HyperMesh7.0軟件；②單基牙精密附著體義齒：應用HyperMesh 7.0軟件，以Mini S G F附著體為原型，將精密附著體模型準確繪制后，利用UG5.0軟件設計單基牙的雙側精密附著體（4/4）；③精密附著體雙基牙義齒設計：行雙側精密以43/34聯冠為基牙的義齒設計。

1.2.3建立有限元模型：兩種精密附著體修復方案及傳統修復方案均于HyperMesh 7.0軟件中劃分有限元網絡，依據零件單元賦予材料相應屬性，對所得模型各材料均設定為張彈性材料，特點包括均質、連續、各向同性等，小變形。

1.2.4加載方法及邊界條件：待模型完成網格劃分后將其于Abaqus6.5軟件中成功導入，完全固定約束定義模型底面，加載區為765/567中央窩，定義天然接觸部分與修復體支架按接觸關系。

1.2.5分析有限應力：待三種不同修復方案均完成有限元三維模型加載后，對各個方案基托下組織及基牙應力分布情況進行準確分析（斜向及垂直應力分布情況），記錄最大應力部位及相應應力值。

2　結 果

黏膜在雙基牙精密附著體義齒垂直載荷下產生最小應力，且較均勻分布，在修復單基牙精密附著體中，有明顯的應力集中出現在4/4基牙的遠中頸部，且在三種修復設計模型中，應力值最大。斜向載荷下，基牙應力在基牙精密附著體義齒有所降低，其他均有程度不等增大。

3　討 論

垂直加載下，RPI卡環組設計中，4/4基牙及牙周膜應力以根尖和舌側近中頸部為主要應力集中部位，因有鄰牙支持4/4基牙，牙力可被分擔，有效保障基牙健康。斜向加載下各區域應力（如4/4基牙、牙槽骨、牙周膜及缺失區黏膜等）顯著高于垂直載荷（約2～3倍）［2］。基牙牙周膜頸部頰側是應力主要的集中區域，基牙的低抗力在頰舌向力較差，受力過大時，易出現移位和松動［3］。故在設計RPI義齒時，斜向力盡量避免。治療時若患者基牙條件不理想，則應適當降低人工牙相關牙尖斜度，達到減小側向力、保護口腔剩余組織的目的。

斜向加載下應力分布特點如下：附著體設計的基牙上表現為增加的應力，特別是設計單基牙附著體時，雖本次精密附著體為緩沖型，但黏膜的可移動性與此緩沖間隙仍有差異存在，受力后二者并未產生一致的移動大小，其原因可能與基牙產生扭轉力、易造成基牙松動相關。提示應用附著體治療下頜末端游離缺失時應根據患者實際情況慎重選擇基牙，使用緩沖型附著體治療時產生的緩沖間隙可直接影響附著體義齒應力分布情況，需根據患者實際情況選擇緩沖間隙大小，如黏膜質地、厚度、基牙條件等［4-5］。此外，在設計雙基牙附著體時，明顯降低了黏膜受力，且呈較均勻分布，無RPI卡環組應力集中，需避免壓痛癥狀，本次研究結果與上述一致。綜上所述，附著體義齒修復在針對下頜末端游離體缺失進行設計時，雙基牙附著體修復需優先選擇。

［1］張超，任素峰，王宏偉.微螺釘種植支抗壓低伸長磨牙并種植義齒修復的臨床研究［J］.河北醫藥，2012，34（11）:1670-1671.

［2］Assuncao WG，Tabata LF，Barao VA，et al.Comparison of stress distribution between complete denture and implant-retained overdenture-2D FEA［J］.J Oral Rehabil，2008，35（10）:766-774.

［3］牟雁東，樊瑜波，劉展.基牙數目的游離端附著體義齒支持組織應力分布的影響［J］.醫用生物力學，2007，22（2）:141-145.

［4］Akaltan F，Kaynak D.An evaluation of the effects of two distal extension removable partial denture designs on tooth stabilization and periodontal teeth［J］.J Oral Rehabil，2005，32（11）:823-829.

［5］陳曄，韓棟偉，許琪華.天然牙一種植體聯合支持式義齒的應力分析［J］.上海口腔醫學，2006，15（2）:206-209.

R783.3

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1671-8194（2015）18-0169-01