錫烯二維晶體薄膜材料問世

近日，上海交通大學教授錢冬和賈金鋒團隊成功地利用分子束外延技術，在國際上首次制備出錫烯二維晶體薄膜材料。相關研究成果已在線發表于《自然·材料》。

在前期研究基礎上，研究人員精確控制生長條件，發現基底材料上錫原子的生長方式發生了變化，并逐漸形成了層狀的薄膜。為了證明所制備的薄膜是錫烯，研究人員通過大量的實驗比對，最終成功觀察到雙原子層內部結構，并精確測定了雙原子層的相對高度。