
摘 要:文章對涉及六方氮化硼納米材料的中國專利文獻進行了統(tǒng)計分析,從申請量、申請人結(jié)構(gòu)、涉及的技術領域等方面分析了該領域?qū)@夹g的現(xiàn)狀,并對我國六方氮化硼納米材料專利技術的進一步發(fā)展提供了針對性建議,旨在為科研機構(gòu)和企業(yè)了解本領域的專利技術現(xiàn)狀提供參考。
關鍵詞:六方氮化硼;納米材料;專利分析
引言
六方氮化硼是由B原子和N原子相互間隔排列成的六元環(huán)層狀結(jié)構(gòu),每層結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,但層與層之間易于剝離,這種結(jié)構(gòu)特點與石墨高度相似,六方氮化硼因此常被稱為白色石墨。由于六方氮化硼具備很多優(yōu)異的物理化學性能,例如耐高溫、摩擦系數(shù)低、導熱率高等[2],在信息、生物、能源、先進制造等領域具有廣泛的應用前景,因此近年來與六方氮化硼納米材料相關的專利申請開始增長,該領域的專利爭奪已經(jīng)拉開了帷幕。
為了便于科研機構(gòu)和企業(yè)更好的把握六方氮化硼納米材料在專利領域的現(xiàn)狀,文章將依托中國專利文摘數(shù)據(jù)庫CNABS,對六方氮化硼納米材料的專利技術現(xiàn)狀進行分析,為該領域的進一步發(fā)展提供參考。
1 六方氮化硼納米材料專利分析
文章采用CNABS數(shù)據(jù)庫作為數(shù)據(jù)來源,檢索時間為2015年6月20日,以關鍵詞為檢索入口,由于專利公開相對于專利申請有一定的滯后,因此目前從數(shù)據(jù)庫獲得的2014年的數(shù)據(jù)要低于實際情況。
1.1 專利申請的數(shù)量分析
如圖1所示,2012年之前該領域的申請量一直維持在很低的水平,年均申請量不到2件,該階段人們對六方氮化硼的認知還停留在傳統(tǒng)的層面上,并沒有普遍認識到六方氮化硼納米材料巨大的價值。隨著納米技術的迅速發(fā)展,加之石墨烯的發(fā)現(xiàn)者AK Geim和KS Novoselov于2010年獲得諾貝爾獎,碳納米材料的熱潮帶動了人們對六方氮化硼納米材料的研究,國內(nèi)的一些研究團隊開始將注意力集中到六方氮化硼上,關于六方氮化硼納米粉體、納米片、納米管等納米材料的專利申請逐漸增多,從2012年起,該領域的申請量迅速增長到每年10件以上,六方氮化硼納米材料的相關研究進入了上升階段。
圖1 六方氮化硼納米材料的中國專利申請量
1.2 國內(nèi)專利申請的申請人分析
經(jīng)統(tǒng)計,目前我國在該領域的申請人以高校/科研院所為主,申請量占到該領域申請總量的81.0%,而企業(yè)的申請量次之,占13.8%,個人申請僅占5.2%。由此可見,目前該領域的研發(fā)主要還是依靠高校/科研院所,企業(yè)尚未廣泛的參與到該領域的研究中。出現(xiàn)這種現(xiàn)象,一方面與我國整體的科研環(huán)境有關,高校和科研院所在研發(fā)能力和研發(fā)經(jīng)費方面的優(yōu)勢十分明顯,而企業(yè)的研發(fā)能力和研發(fā)投入普遍不高;另一方面也與該領域的特點有關,由于六方氮化硼納米材料近幾年才剛剛興起,該領域的研究目前還停留在實驗室階段,尚未進入工業(yè)應用,并未引起相關企業(yè)的普遍關注。
1.3 專利申請的技術領域分析
六方氮化硼納米材料主要包括零維的納米粉體、一維的納米管以及二維的納米片[3],該領域最早的中國專利申請就涉及納米粉體,發(fā)明名稱為“氮化硼及其制造方法”,申請日為1999年9月1日。六方氮化硼納米粉體由于出現(xiàn)時間較早,制備工藝相對簡單,因此申請量相對較多,企業(yè)申請也多涉及納米粉體在散熱、陶瓷材料等方面的應用,而納米管、納米片的出現(xiàn)時間較晚申請量也相對較少。經(jīng)統(tǒng)計,目前該領域58%的申請涉及納米粉體,35%的申請涉及納米片,而僅有7%的申請涉及納米管。
圖2是該領域涉及不同分類號的申請量,目前該領域的專利申請主要涉及以下幾方面:(1)氮化硼納米材料的制備,分類號為C01B21,包括氮化硼納米粉體的化學合成、氮化硼納米片的水熱合成、化學剝離或物理剝離等;(2)氮化硼納米材料(主要是氮化硼納米粉體)在陶瓷領域的應用,分類號為C04B35,用于制備復合陶瓷燒結(jié)體;(3)在高分子化合物中的應用,分類號為C08K,通過向高分子化合物、聚合物中添加六方氮化硼納米材料以改善導熱性和耐高溫性能;(4)在潤滑組合物中的應用,分類號為C10M,通過添加氮化硼納米顆粒改善潤滑油性能;(5)在涂料領域的應用,分類號為C09D,涉及添加氮化硼納米材料以獲得散熱涂料。除此之外,該領域也有申請涉及六方氮化硼納米材料在電容器、電池、水處理等領域的應用,但是申請量不高,只有1-2件。
圖2 六方氮化硼納米材料領域的分類號分布
2 六方氮化硼納米材料專利技術的發(fā)展建議
通過上述分析可以看出,六方氮化硼納米材料在整體上處于發(fā)展的初期,從2012年起申請量才開始上升,目前該領域存在大量的空白亟待填補。作者在此提出兩點建議,以期我國在該領域的專利技術能夠迅速發(fā)展。
一方面,相關的研究團隊應當充分認識到六方氮化硼納米材料的重要意義。六方氮化硼作為一種類石墨材料,其物理化學性質(zhì)十分優(yōu)異,應用價值并不亞于碳納米材料,目前碳納米材料的年申請量在數(shù)千件的量級,六方氮化硼納米材料專利技術的發(fā)展空間十分巨大。
另一方面,相關研究團隊應當加強在應用層面的研發(fā)投入。目前該領域在應用層面的專利申請比例并不高,并且大多只局限于六方氮化硼的摩擦性能和散熱性能,然而六方氮化硼還是一種性能優(yōu)異的寬禁帶半導體材料,在光電子器件、介電薄膜等方面有著巨大的應用前景,相關的團隊可以加大在應用層面,尤其是電子器件方面的研發(fā)力度。
參考文獻
[1]Brown F C, Bachrach R Z, et al. Effect of x-ray polarization at the boron K edge in hexagonal BN[J]. Phys Rev B,1976,13:2633.
[2]葛雷.六方氮化硼的制備方法研究進展[J].電子元件與材料,2008,27(6):22-29.
[3]Golberg D,Bando Y,et al. Boron nitride nanotubes and nanosheet
s[J].ACS Nano,2010,4(6):2979-2993.
作者簡介:姚星(1987-),男,碩士,審查員,主要從事無機非金屬領域的發(fā)明專利審查。