基于對發明的正確理解進行審查

張一文

摘 要：理解發明是審查的基礎，直接影響到后續的檢索和三性評判，本文結合具體案例，就如何基于對發明的正確理解進行審查，以提高審查效能進行探討。

關鍵詞：發明；檢索；三性評判；審查

一、引言

發明專利的審查中通常需要先進行檢索，然后在充分檢索的基礎上，給出審查意見。檢索的一個重要目就是確認是否存在影響發明新穎性和創造性的文件，但在具體實踐中，可能在理解發明[1]上出現偏差，無法準確把握權利要求的技術方案的實質的情形，從而影響后續的審查進程，導致審查周期延長。因此，有必要就如何基于對發明的正確理解進行檢索和審查，以提高審查效能進行探討，本文通過具體案例的方式加以說明。

二、案例分析

權利要求1的技術方案如下：

一種用于通信基站的防雷擊光電復合纜，包含有纜芯、內護套、鎧裝層、外護套、接地層、連接筋、吊線、吊線護層、光單元；纜芯是由多個電單元構成，每個電單元由導體及包覆住導體的絕緣層構成；光單元由松套管及位于松套管內的多根光導纖維構成；纜芯外包覆有第一保護層、內護套擠塑包覆在第一保護層之外，內護套外包覆有第二保護層，接地層位于第二保護層之外，鎧裝層包覆在接地層外，外護套擠塑包覆在鎧裝層之外；鎧裝層為單面覆膜鋼帶，鎧裝層與接地層接觸的面為非覆膜面；第一保護層、第二保護層都為云母帶；吊線護層包覆在吊線之外，連接筋一端連接吊線護層、另一端連接外護套；其特征在于吊線位于光單元之外，光單元、吊給都位于吊線護層中，吊線由多根加強件構成且所有加強件的外緣在同一圓柱面上；加強件圍繞光單元分布且相鄰的加強件是相切的或者加強件圍繞光單元且相鄰的加強件是不相切的，光單元的中心是與吊線護層的中心相重合。

第一次審查意見通知書中引用了兩篇對比文件：對比文件

1（CN103325489A）、對比文件2（“光纜架空方式及結構強度”，王則民，電信科學，第5期，第41-46頁，1991年5月）。第一次審查意見認為對比文件1公開了光纖和電纜均設置在纜芯中，對比文件2公開了光纖設置在吊線中，對比文件2給出了與對比文件1結合的啟示，從而權利要求1不具備專利法第22條第3款規定的創造性。申請人在答復第一次審查意見通知書時認為，對比文件2公開的實際上是一種中心束管式光纜，并未給出與對比文件1結合的啟示。

基于申請人的陳述，對發明進行分析發現，發明面對的技術問題是：一般地，光纖和電纜均設置在纜芯中構成通信基站光電復合纜，在遭受雷擊時，內護套可能被擊穿，纜芯內電單元由于過載或雷擊時，極易達到或超過光纖的儲存、工作環境溫度，導致光纖損壞。為此，如圖1所示，本發明將光纖與導體分開設置，即電單元設置在纜芯中，而光單元設置在吊線中。

基于以上分析可知，發明的整體構思是將電單元和光單元分開設置，因此，權利要求1中電單元設置在纜芯中，而光單元設置在吊線中共同構成了實現發明構思的關鍵技術手段，因此在考慮權利要求1的技術方案時，不能孤立地看待有關電單元和光單元位置的技術特征，將二者拆分。如果存在可用于否定發明新穎性和/或創造性的現有技術，必然需要滿足在一個技術方案中同時公開了電單元和光單元分開設置的技術方案。雖然權利要求1在撰寫形式上也是將電單元和光單元作為兩個部分分別進行限定，但其技術方案應從整體上考慮，不能忽略二者之間的內在聯系。從對比文件1公開的內容來看，其同時涉及光纖和電纜，但光纖和電纜設置在同一纜芯中，與發明的背景技術相同，以對比文件1為起點正向還原發明與從背景技術得到發明需要克服的技術障礙是相同的。

第一審查意見中認為對比文件1公開了光纖和電纜均設置在纜芯中，對比文件2公開了光纖設置在吊線中，從而認為可以由對比文件2得到啟示，將光纖設置在吊線中，得到權利要求1的技術方案，但將光纖設置在吊線中與將光纖和電纜分開設置有本質上的區別，對比文件2公開了光纖設置在吊線中，但并不能得到在纜芯中不設置光纖，即光纖和電纜分開設置的啟示，上述審查過程未正確理解發明上，繼而在檢索中孤立地考慮電單元和光單元，在創造性的判斷上也出現偏差，最終在第一次審查意見通知書中得出不恰當的結論，導致審查周期的延長。

在對發明進行深入理解之后，通過對檢索思路進行調整，重點關注現有技術中是否存在電單元設置在電纜中，而光單元設置在吊線中的技術方案，很快得到對比文件3（CN201247652Y），其公開了上述內容并給出了與對比文件1結合的技術啟示，由此發出第二次審查意見通知書。如果第一次審查意見通知書中就使用對比文件1與對比文件3結合給出審查意見，便能減少一次審查意見通知書，節約審查程序，縮短審查周期。

三、總結

在發明專利的審查中，不能僅僅從權利要求的撰寫形式機械地理解其技術方案，進而通過將現有技術的技術特征拼湊在一起來否定發明的創造性，而是應在正確理解發明基礎上，從整體上把握權利要求中各個技術特征之間的內在聯系，進而進行檢索和三性評判，由此提升審查效能。

參考文獻：

[1]中華人民共和國國家知識產權局.專利審查指南.北京：知識產權出版社，2010.endprint