王勇威,張偉鋒,劉盈楹,胡天水,王麗江
(中國電子科技集團公司第四十五研究所,北京 100176)
現代社會是一個信息爆炸的社會,信息的載體已經由傳統紙質媒介,轉變為光電等數字媒介。作為信息產業核心的半導體技術,迅猛發展,同時也對其中涉及到的關鍵工藝提出了更高要求。據統計,晶圓的清洗工藝在整個半導體制造工藝過程中所占比例達到20%~50%[1],在每道清洗工藝處理完畢后,都必須對晶圓進行干燥處理[2]。在噴吹熱氮氣的同時,通過高速旋轉去除晶圓表面水分,才能進行下一道處理工藝[3],而甩干機則是晶圓清洗去污干燥工藝中的關鍵設備。甩干機的性能直接關系到后續工藝能否有效展開,對半導體制造工藝有很大的影響,而其整機振動情況將直接制約機器的使用,發揮具體的效果[4]。
實際工程應用中,通常是用減振器將振源隔離開來,以最大降低振源對外圍設備及關鍵元器件的影響。本文將從甩干機的振源及傳遞情況,主動隔振原理和減振器選擇的實際案例展開。
甩干機是將盛有晶圓的片盒置入與之相匹配的轉子中,通過電機帶動轉子高速旋轉,完成晶圓的沖洗甩干等工藝,并保持晶圓表面的潔凈度在要求的范圍內。由于在生產制造及調試后,電機軸、轉子和片盒的質心與旋轉軸心不可避免的存在一定偏差,旋轉過程中便會產生離心力,其計算方程如下:

其中:M為旋轉系統質量,e為質心與旋轉軸心的距離,ω為轉子轉速。……