梁旭華,繆情俄,趙艷艷
(商洛學院生物醫藥與食品工程學院,陜西商洛 726000)
目前,抗生素的使用量不斷增長,由此引起的生態環境問題和細菌耐藥性問題受到越來越多的關注,抗生素環境殘留、遷移轉化行為已逐漸成為研究熱點。 頭孢曲松鈉(C18H16N8Na2O7S3·3.5H2O)作為一種β-內酰胺類抗生素,是臨床上常用的第三代頭孢菌素類廣譜抗生素,能有效抑制革蘭氏陽性菌及革蘭氏陰性菌的生長,因此被廣泛應用于人體疾病治療和養殖業。頭孢曲松鈉的分子量為661.59,易溶于水,常用劑型為粉針劑,使用后在生活污水、制藥工業廢水及家禽養殖污水中大量殘留,并隨之排放進入環境,引起一系列危害人類健康和環境破壞問題[1]。
目前,研發高效且環境友好的催化材料將頭孢曲松鈉降解為CO2、H2O及其他無毒無害的小分子顯得尤為重要。近年來,大量研究表明鎢酸鉍(Bi2WO6)具有高效光催化降解性能,目前已成為該領域研究熱點。涂亞鵬[2]總結了可見光催化劑Bi2WO6的制備方法及其光催化性能,并采用溶膠凝膠法制備了Bi2WO6,研究發現在氙燈模擬太陽光條件下,Bi2WO6對甲基橙的降解率可達92%,太陽光降解率達58%。然而,由于Bi2WO6光生電子-空穴對快速復合,其可見光響應范圍受到了極大限制[3]。研究發現材料的光催化活性與其結構密切相關,因此研究者主要關注改善Bi2WO6材料的結構,而構建復合材料被認為是增強其光催化活性的有效途徑。郭丹等[4]采用一步法制備石墨烯復合花狀鎢酸鉍,研究結果顯示其催化活性為純Bi2WO6的1.7倍。楊莉等[5]以酵母細胞為模板,采用生物模板法制備了Bi2WO6空心微球,增大了催化劑的比表面積,顯著提高了光催化降解效果。魏偉[6]通過摻雜稀土離子的方式對Bi2WO6進行改性,制備了光催化-熒光雙功能納米材料,在增強光催化效果的同時可以進行熒光標記。石墨相氮化碳(g-C3N4)作為典型的二維層狀材料,較窄的禁帶寬度和特殊的層狀結構有效改善了其可見光響應[7],已成為光催化降解領域的一顆新星。若能將g-C3N4和Bi2WO6復合,利用二者的協同作用制備高效光催化材料,將探索出一條治理抗生素殘留的新路徑。本文采用水熱合成法制備Bi2WO6/g-C3N4復合材料,重點對其結構、降解頭孢曲松鈉活性及降解機理進行深入研究,為治理抗生素殘留提供一條新的思路。
材料:三聚氰胺、硝酸鉍(Bi(NO3)3·5H2O)及鎢酸鈉(Na2WO4·2H2O)購自國藥集團;頭孢曲松鈉購自悅康藥業集團有限公司;去離子水為實驗室自制;其他試劑均為分析純級別,不經處理直接使用。
儀器:水熱釜(100 mL);電子分析天平;鼓風干燥箱;磁力攪拌器;高速離心機;X射線衍射儀;馬弗爐;傅里葉變換紅外光譜儀;超聲波清洗儀;掃描電子顯微鏡;紫外可見分光光度計;熒光分光光度計。
1.2.1 Bi2WO6/g-C3N4復合材料的制備
采用高溫煅燒法制備塊狀g-C3N4:稱取10 g三聚氰胺置于瓷坩堝中,在馬弗爐中600℃煅燒4 h,研磨即得塊狀g-C3N4材料。稱取一定量g-C3N4超聲分散于60 mL去離子水中,加入1 mmol Na2WO4·2H2O和2 mmol Bi(NO3)3·5H2O,用冰醋酸溶液調節pH至5,然后轉移至水熱反應釜中,180℃反應18 h。自然冷卻后,離心,干燥即得Bi2WO6/g-C3N4復合材料。
1.2.2 材料的結構表征
由于材料的光催化降解性能與結構密切相關,本研究通過XRD法考察Bi2WO6/g-C3N4復合材料的晶體結構,FTIR法測定其表面特征官能團,SEM法分析其微觀形貌,采用XPS分析其元素組成。
1.2.3 Bi2WO6/g-C3N4復合材料吸附頭孢曲松鈉
準確稱取0.1 g新制備的Bi2WO6/g-C3N4復合材料超聲分散于新配制的頭孢曲松鈉溶液中(100 mL,10 mg·mL-1)[8],室溫下避光攪拌 70 min,每10 min取樣一次,測定其在254 nm處的吸光度。采用式(1)計算Bi2WO6/g-C3N4復合材料對頭孢曲松鈉的吸附容量(Q),以評價其吸附性能[9]。

其中,C0和Ct分別為頭孢曲松鈉初始濃度和吸附t時刻的濃度,m為質量,V為溶液體積。
1.2.4 Bi2WO6/g-C3N4復合材料降解水中頭孢曲松鈉
準確稱取100 mg Bi2WO6/g-C3N4復合材料超聲分散于100 mL 10mg·mL-1的頭孢曲松鈉水溶液中,室溫下采用300 W的氙燈照射并攪拌使其達到吸附平衡。每20 min取樣一次,測定頭孢曲松鈉的吸光度,降解率[10]計算公式為:

式中,C0和Ct分別為頭孢曲松鈉初始濃度和吸附t時刻的濃度。
1.2.5 Bi2WO6/g-C3N4復合材料降解頭孢曲松鈉機理分別稱取三份100 mg Bi2WO6/g-C3N4復合材料,加入到三份100 mL頭孢曲松鈉水溶液(10 mg·mL-1)中,接著分別加入10 mg的活性成分捕獲劑,其中三乙醇胺(TEOA)作為空穴(h+)捕獲劑,對苯醌(BQ)作為超氧自由基捕獲劑,叔丁醇(t-BuOH)作羥基自由基(·OH)的捕獲劑。以300 W的氙燈模擬太陽光,每20 min取樣5 mL,離心,取上清液,采用紫外-可見分光光度法測定頭孢曲松鈉的降解率,研究分析Bi2WO6/g-C3N4復合材料降解頭孢曲松鈉的機理。
2.1.1 SEM分析材料的形貌
如圖1(a)所示,Bi2WO6是由許多有序的納米片組成的三維花狀結構,此種結構具有較大的比表面積,能夠增加與抗生素的接觸面積,增強光催化效果;圖1(b)顯示g-C3N4為二維層狀結構,具有較大的比表面積,可以高效吸附納米晶體;圖1(c)為Bi2WO6/g-C3N4復合材料的形貌,通過水熱法原位復合后,3D-花狀Bi2WO6和二維層狀g-C3N4材料緊密結合,Bi2WO6與g-C3N4的形貌均未發生改變。
2.1.2 FTIR分析
采用FTIR法分析所制備的Bi2WO6/g-C3N4復合材料的表面官能團,如圖2所示,g-C3N4的紅外光譜圖中,808 cm-1可歸屬于三嗪環特征峰,1000~1800 cm-1的一系列峰可歸屬于C-N和C=N的伸縮振動峰,3000~3300 cm-1處的寬峰可歸屬于N-H的伸縮振動[11]。Bi2WO6材料在702 cm-1和813 cm-1處具有兩個強的窄峰,可分別歸屬于W=O和Bi=O的伸縮振動峰[12-13]。Bi2WO6/g-C3N4復合材料中既有g-C3N4的特征峰,又有Bi2WO6的特征峰,證明成功制備得到了Bi2WO6/g-C3N4復合材料。

圖2 光催化降解材料的紅外光譜圖
2.1.3 XRD分析
為了了解Bi2WO6/g-C3N4的晶體結構,本研究采用XRD法分別對Bi2WO6、g-C3N4及Bi2WO6/g-C3N4復合材料進行了檢測,如圖3所示。純Bi2WO6材料在 28.2°、32.8°、47.1°、56.1°、58.8°和 68.9°的衍射峰分別對應其 (131)、(200)、(202)、(331)、(262)和(400)晶面,證明 Bi2WO6為純斜方相晶型[14]。g-C3N4在 13.1°和 27.5°的兩個衍射峰,分別與g-C3N4標準卡片的(100)晶面和(002)晶面吻合[15]。Bi2WO6與g-C3N4復合后,由于g-C3N4在13.1°的峰強度太弱而沒有出現,Bi2WO6與g-C3N4的特征峰28.2°與27.5°相距較近,在復合材料上表現為一個較寬的峰,證明成功制備得到Bi2WO6/g-C3N4復合材料。

圖3 光催化材料的X射線衍射圖譜(XRD)
2.1.4 XPS分析
XPS是分析元素組成的重要手段,其原理是樣品在X射線輻射下,原子或分子內層電子或價電子將被激發出來,通過測量逃逸的電子數,從而得到XPS譜圖。本研究采用XPS全譜分析Bi2WO6/g-C3N4復合材料的元素組成,如圖4所示。從Bi2WO6的XPS圖譜中可以發現Bi、W、O及C元素的特征峰,C的峰主要來源于CO2。與單純的Bi2WO6材料相比,Bi2WO6/g-C3N4復合材料的譜圖中出現了明顯增強的C和N的吸收峰,證實了復合材料中含有Bi、W、O、C和N元素組成,說明成功制備得到了Bi2WO6/g-C3N4復合材料。

圖4 Bi2WO6/g-C3N4復合材料的XPS圖譜
光催化材料的吸附性能對頭孢曲松鈉的降解率有顯著影響,吸附率越大,說明目標污染物與材料的活性位點接觸越密切,從而降解效率越高。本研究采用紫外分光光度法測定了Bi2WO6/g-C3N4復合材料對頭孢曲松鈉的吸附率,如圖5所示。實驗結果顯示,在暗吸附的前50 min,Bi2WO6/g-C3N4復合材料對頭孢曲松鈉的吸附能力迅速增加,隨后吸附率不再有明顯變化,Bi2WO6、g-C3N4和Bi2WO6/g-C3N4復合材料的吸附率分別為0.18、1.45、3.4 mg·g-1, 表明 Bi2WO6/g-C3N4復合材料具有優于單體材料的吸附性能,為其優良的光催化降解頭孢曲松鈉性能提供了佐證。
圖6為 Bi2WO6、g-C3N4和 Bi2WO6/g-C3N4復合材料對頭孢曲松鈉的降解率,從圖6中可以發現,不加入光催化材料僅僅用300 W氙燈模擬太陽光降解頭孢曲松鈉120 min,降解率為5.73%,大大低于實驗組的降解率,說明實驗中可以忽略光對降解率的影響[16-17]。在可見光輻射120 min后,單純采用Bi2WO6或g-C3N4作為光催化材料降解頭孢曲松鈉,降解率分別為 82.7%和60.4%,而Bi2WO6/g-C3N4對頭孢曲松鈉的降解率可達94.5%,說明在光催化過程中,Bi2WO6和C3N4發生了協同作用,從而極大的提高了頭孢曲松鈉的降解率。

圖5 光催化材料吸附頭孢曲松鈉

圖6 光催化材料降解頭孢曲松鈉
不同淬滅劑存在下Bi2WO6/g-C3N4復合材料對頭孢曲松鈉的降解率,如表1所示。
從表1中可發現,捕獲劑的存在對頭孢曲松鈉的降解率具有明顯的影響。當采用TEOA捕獲空穴(h+)后,頭孢曲松鈉的降解率僅有27.33%;采用t-BuOH及BQ分別捕獲羥基自由基(·OH)和超氧自由基后,頭孢曲松鈉的降解率均有不同程度下降。TEOA對降解率的影響最大,說明在光催化降解過程中,TEOA屏蔽的空穴(h+)起到了主要的催化作用。根據實驗結果可以推測出材料的光催化機理為:當Bi2WO6/g-C3N4復合材料受到高能入射光激發時,Bi2WO6和g-C3N4特殊的能帶結構使價帶產生的空穴(h+)在g-C3N4的價帶上積聚,導帶產生的電子(e-)在Bi2WO6的導帶上積聚,從而實現了光生電子和空穴的分離。當頭孢曲松鈉與強氧化性的空穴反應后能被氧化分解為H2O、CO2和其他小分子物質,從而達到治理水中殘留抗生素類有機污染物的目的。

表1 不同捕獲劑存在下Bi2WO6/g-C3N4復合材料降解頭孢曲松鈉的降解率
本研究通過水熱復合法制備Bi2WO6/g-C3N4復合材料,并研究其對水中頭孢曲松鈉的降解性能和機理,以尋找綠色高效的降解水中抗生素類有機污染物的方法。通過一系列表征手段對復合材料的結構進行了研究,成功制備了Bi2WO6/g-C3N4復合材料。由于Bi2WO6和g-C3N4的協同作用,Bi2WO6/g-C3N4復合材料具有優于單純Bi2WO6和g-C3N4的光催化活性,能夠有效降解水中殘留頭孢曲松鈉。因此,Bi2WO6/g-C3N4復合材料為治理水中抗生素類有機污染物提供了一種新方法,具有巨大的應用價值。