Plasma 3000型和Plasma 2000型電感耦合等離子體發射光譜儀測定工業硅中雜質元素含量

國家產品標準GB/T2881-2014《工業硅》中規定，檢測工業硅中雜質元素采用電感耦合等離子體發射光譜儀測定。本實驗參照標準GB/T14849.4-2014《工業硅化學分析方法第四部分：雜質元素含量測定電感耦合等離子體原子發射光譜法》測定工業硅中鋁、鉻、鈣、硼、銅、鐵、鎂、鎳、錳、磷、鈉、鈦的元素含量。對工業硅樣品進行對比測試，檢測結果與客戶化學法基本一致。

儀器特點

Plasma3000型和Plasma2000型電感耦合等離子體發射光譜儀（鋼研納克檢測技術股份有限公司）是使用方便、操作簡單、測試快速的全譜ICP-OES分析儀，具有良好的分析精度和穩定性。

Plasma3000

高效固態射頻發生器，超高穩定光源;

大面積背照式CCD芯片，寬動態范圍;

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，體積小巧;

多元素同時分析，全譜瞬態直讀。

多種進樣系統，可選擇性好;

垂直炬管，雙向觀測，檢出限更加理想;

Plasma2000

高效固態射頻發生器，超高穩定光源;

大面積背照式CCD芯片，寬動態范圍;

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，體積小巧;

多元素同時分析，全譜瞬態直讀;

多種進樣系統，可選擇性好;

垂直炬管水平觀測，耐鹽性更佳。

使用Plasma3000和Plasma2000能夠很好的解決工業硅中雜質元素分析問題，完全滿足國家標準GB/T2881-2014《工業硅》和GB/T14849.4-2014《工業硅化學分析方法第四部分：雜質元素含量測定電感耦合等離子體原子發射光譜法》要求。