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GaAs在高頻功率器件中的應(yīng)用研究與技術(shù)發(fā)展

2019-10-21 04:26:05劉潔
關(guān)鍵詞:工藝生長(zhǎng)

劉潔

摘要:在高科技產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域,核心基礎(chǔ)材料往往扮演者極為關(guān)鍵的角色,也是需要持續(xù)高投入、承受高風(fēng)險(xiǎn)、費(fèi)時(shí)費(fèi)力的一大領(lǐng)域,砷化鎵(GaAs)是一種很容易被提起的半導(dǎo)體材料,它與整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)密切相關(guān),這也是我國(guó)產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)中最為薄弱的環(huán)節(jié)。

砷化鎵(GaAs)是目前最重要、最成熟的化合物半導(dǎo)體材料之一,廣泛應(yīng)用于光電子和微電子領(lǐng)域。目前全球砷化鎵單晶的總年產(chǎn)量已超過 200噸,我國(guó)也是繼日本、德國(guó)之后第三個(gè)掌握砷化鎵晶體生長(zhǎng)技術(shù)的國(guó)家。

關(guān)鍵詞:砷化鎵(GaAs);功率器件;5G

1 概述

GaAs是Ⅲ-Ⅴ族元素的化合物,黑灰色固體,熔點(diǎn)1238℃。它在600℃以下,能在空氣中穩(wěn)定存在,并且不為非氧化性的酸侵蝕,其電子遷移率高、介電常數(shù)小,能引入深能級(jí)雜質(zhì)、電子有效質(zhì)量小。

在高頻功率器件中,GaAs(包括HBT,MESFET,HEMT等)技術(shù)是最成熟的。由于傳送訊號(hào)的射頻元件具有工作頻率高、低功耗、低雜散等特點(diǎn),而砷化鎵本身具有光電與高速的特性,因此多用于光電和高頻通訊用元件。

在微波大功率應(yīng)用上,一直就是GaAs的天下,它主要應(yīng)用于高頻通訊、無(wú)線網(wǎng)絡(luò)及光電子領(lǐng)域,隨著5G的逐步到來,整個(gè)社會(huì)將進(jìn)入萬(wàn)物互聯(lián)的新階段,半導(dǎo)體相關(guān)芯片、器材需求量將進(jìn)一步爆發(fā)。

2 GaAs發(fā)展現(xiàn)狀

2.1 GaAs應(yīng)用

砷化鎵(GaAs)是目前最重要、最成熟的化合物半導(dǎo)體材料之一,廣泛應(yīng)用于光電子和微電子領(lǐng)域。與傳統(tǒng)的硅半導(dǎo)體材料相比,它具電子遷移率高、禁帶寬度大、直接帶隙、消耗功率低等特性,電子遷移率約為硅材料的5.7倍。

砷化鎵是典型的直接躍遷型能帶結(jié)構(gòu),導(dǎo)帶極小值與價(jià)帶極大值均處于布里淵區(qū)中心,即K=0處,這使其具有較高的電光轉(zhuǎn)換效率,是制備光電器件的優(yōu)良材料。在300 K時(shí),砷化鎵材料禁帶寬度為1.42 eV,遠(yuǎn)大于鍺的0.67 eV和硅的1.12 eV,因此,砷化鎵器件可以工作在較高的溫度下和承受較大的功率,并廣泛應(yīng)用于高頻及無(wú)線通訊中制做IC器件。

2.2 制造工藝

從20世紀(jì)50年代開始,已經(jīng)開發(fā)出了多種砷化鎵單晶生長(zhǎng)方法。目前主流的工業(yè)化生長(zhǎng)工藝包括:液封直拉法(LEC)、水平布里其曼法(HB)、垂直布里其曼法(VB)以及垂直梯度凝固法(VGF)等。

2.2.1 液封直拉法(Liquid Encapsulated Czochralski,簡(jiǎn)稱LEC)

LEC法是生長(zhǎng)非摻半絕緣砷化鎵單晶(SI GaAs)的主要工藝,目前市場(chǎng)上80%以上的半絕緣砷化鎵單晶是采用LEC法生長(zhǎng)的。LEC法采用石墨加熱器和PBN坩堝,以B2O3作為液封劑,在2MPa的氬氣環(huán)境下進(jìn)行砷化鎵晶體生長(zhǎng)。

2.2.2 水平布里其曼法(Horizontal Bridgman,簡(jiǎn)稱HB)

HB法是曾經(jīng)是大量生產(chǎn)半導(dǎo)體(低阻)砷化鎵單晶(SC GaAs)的主要工藝,使用石英舟和石英管在常壓下生長(zhǎng),可靠性和穩(wěn)定性高。優(yōu)點(diǎn)是可利用砷蒸汽精確控制晶體的化學(xué)劑量比,溫度梯度小從而達(dá)到降低位錯(cuò)的目的。主要缺點(diǎn)是難以生長(zhǎng)非摻雜的半絕緣砷化鎵單晶,所生長(zhǎng)的晶體界面為D形,在加工成晶片過程中將造成較大的材料浪費(fèi),且難以生長(zhǎng)大直徑的晶體。

2.2.3 垂直布里其曼法(Vertical Bridgman,簡(jiǎn)稱VB)

VB法是上世紀(jì)80年代末開始發(fā)展起來的一種晶體生長(zhǎng)工藝,將合成好的砷化鎵多晶、B2O3以及籽晶裝入PBN坩堝并密封在抽真空的石英瓶中,爐體垂直放置,采用電阻絲加熱,石英瓶垂直放入爐體中間。高溫下將砷化鎵多晶熔化后與籽晶進(jìn)行熔接,然后通過機(jī)械傳動(dòng)機(jī)構(gòu)由支撐桿帶動(dòng)石英瓶與坩堝向下移動(dòng),在一定的溫度梯度下,單晶從籽晶端開始緩慢向上生長(zhǎng)。

2.2.4 垂直梯度凝固法(Vertical Gradient Freeze,簡(jiǎn)稱VGF)

VGF工藝與VB工藝的原理和應(yīng)用領(lǐng)域基本類似。其最大區(qū)別在于VGF法取消了晶體下降走車機(jī)構(gòu)和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),由計(jì)算機(jī)精確控制熱場(chǎng)進(jìn)行緩慢降溫,生長(zhǎng)界面由熔體下端逐漸向上移動(dòng),完成晶體生長(zhǎng)。

3 GaAs的產(chǎn)業(yè)發(fā)展

3.1 產(chǎn)業(yè)鏈及供需

GaAs 材料是繼硅單晶之后的第二代新型化合物半導(dǎo)體材料,在微電子和光電子領(lǐng)域有著廣泛的用途。GaAs材料在世界發(fā)達(dá)國(guó)家均被視為戰(zhàn)備儲(chǔ)備物資,如美國(guó)將砷化鎵材料的生產(chǎn)應(yīng)用技術(shù)列入國(guó)防白皮書,從而對(duì)美國(guó)國(guó)防技術(shù)起到了重要作用。在現(xiàn)代軍備技術(shù)中,幾項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)均與砷化鎵材料有直接關(guān)系。例如,機(jī)載相控雷達(dá)、戰(zhàn)術(shù)紅外線夜視鏡,抗輻射電子元件,紅外線激光導(dǎo)航、紅外線激光瞄準(zhǔn)儀等。近年來,發(fā)光二極管(LED)以及太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展更是給砷化鎵半導(dǎo)體材料帶來了廣闊的應(yīng)用空間,市場(chǎng)前景極其繁榮。

GaAs半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈包括GaAs單晶制備、晶片加工、外延芯片、IC集成電路設(shè)計(jì)以及器件應(yīng)用等,其中單晶制備處于整條產(chǎn)業(yè)鏈的上游。

3.2全球產(chǎn)能

半絕緣砷化鎵材料主要用于高頻通信器件,受到近年民用無(wú)線通信市場(chǎng)尤其是手機(jī)市場(chǎng)的拉動(dòng),半絕緣砷化鎵材料的市場(chǎng)規(guī)模也出現(xiàn)了快速增長(zhǎng)的局面。2003~2008年,半絕緣砷化鎵市場(chǎng)需求增長(zhǎng)了54%。目前微電子用砷化鎵晶片市場(chǎng)主要掌握在日本住友電工(Sumitomo Electric)、費(fèi)里伯格(Freiberger Compound Materials)、日立電線(Hitachi Cable)和美國(guó)AXT等四家大公司手中。主要以生產(chǎn)4、6英寸砷化鎵材料為主。

4 GaAs的發(fā)展趨勢(shì)

不同于傳統(tǒng)的硅半導(dǎo)體(Silicon Semiconductor),GaAs屬于化合物半導(dǎo)體(Compound Semiconductor),又稱III-V族半導(dǎo)體,進(jìn)入4G時(shí)代,手機(jī)的射頻前段變得更加復(fù)雜,手機(jī)射頻系統(tǒng)主要元件包括收發(fā)器Transceiver、功率放大器Power Amplifier、濾波器Filters和Antenna Switches。2011年此市場(chǎng)規(guī)模大約為38億美元,到2016年達(dá)到50億美元。

根據(jù)IMF測(cè)算,每1美元半導(dǎo)體芯片的產(chǎn)值可帶動(dòng)相關(guān)電子信息產(chǎn)業(yè)10美元產(chǎn)值,并帶來100美元GDP,這種價(jià)值鏈的放大效應(yīng)奠定了半導(dǎo)體行業(yè)在國(guó)民經(jīng)濟(jì)中的重要地位。從2013年到2018年,全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模從3056億美元迅速提升至4688億美元,年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)到8.93%。根據(jù)IC Insights統(tǒng)計(jì),從2013年到2018年僅中國(guó)半導(dǎo)體集成電路市場(chǎng)規(guī)模就從820億美元擴(kuò)大至1550億美元,年均復(fù)合增長(zhǎng)率約為13.58%。

未來隨著5G市場(chǎng)的發(fā)展,中國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)也將進(jìn)入加速發(fā)展的階段,伴隨著越來越多領(lǐng)域的需求,在射頻前端等高頻領(lǐng)域占有重要作用的GaAs器件也將得到更多更廣泛的應(yīng)用。

(作者單位:中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第29研究所)

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