魏國良,尹邦躍,屈哲昊,鄭新海
(中國原子能科學研究院 反應堆工程技術研究部, 北京 102413)
X射線計算機斷層掃描影像術( X-ray computed tomography, X-ray CT ) 是一種非常重要的醫療診斷技術。X射線探測器的性能很大程度上影響著CT機的性能。X射線探測器閃爍體要求具有X 射線轉化效率高、余輝短、輻照穩定性好,光譜與光電轉換耦合好等特點[1]。Gd2O2S的高密度(7.34 g/cm3)和Gd的高原子數(Z=64)使其具有非常高的X射線阻斷能力[2],當Gd2O2S中摻雜Pr3+表現出高達50 000 photons/MeV的光產率和相對較低的余輝[3]。Ce3+也常作為一種共同摻雜元素用來進一步降低Gd2O2S:Pr的余輝[4],并且Ce3+的摻雜能夠增強Gd2O2S:Pr陶瓷閃爍體的抗輻照損傷能力[5]。因此,Gd2O2S:Pr,Ce在X-ray CT中常作為高效閃爍體應用[6]。
目前合成Gd2O2S粉體的方法很多, 如固相反應法[7-9]、還原法[10-12]、燃燒合成法[13]、微波合成法[14]、氣體硫化法[15]等。其中固相反應工藝簡單, 省時且成本較低, 相較于其他方法更適于大規模生產[6],并且固相反應制備的粉末粒度分布適合下一步Gd2O2S:Pr,Ce陶瓷閃爍體的無壓和熱壓燒結[16-17]。研究表明,固相反應選用合適的助熔劑,在加熱過程中形成液相,促進顆粒間的接觸,可以顯著降低固相反應溫度[18]。Gd2O2S固相合成中,硫粉用作S的提供者,Na2CO3是最常用的助熔劑[18,19-21]。
雖然Gd2O2S的合成方法研究較多,但是,其最核心技術-Pr3+和Ce3+的添加量對熒光質量的影響報道較少,探索Pr3+和Ce3+的含量對Gd2O2S:Pr閃爍體熒光性能的影響至關重要。
原料:Gd(NO3)3·6H2O(99.99%,山東德盛新材料有限公司),Pr(NO3)3·6H2O(99.9%,山東德盛新材料有限公司), Ce(NO3)3·6H2O(99.99%,山東德盛新材料有限公司),Gd2O3(99.99%,山東德盛新材料有限公司),(NH4)2C2O4·H2O(99.5%,國藥試劑有限公司),無水Na2CO3(AR,麥克林試劑),硫粉(99.9%,麥克林試劑),鹽酸(AR,國藥試劑有限公司)。
將Gd(NO3)3·6H2O溶于去離子水中,加入一定量的0.10 mol/L Pr(NO3)3溶液和0.010 mol/LCe(NO3)3溶液,攪拌中加入草酸銨溶液,并持續攪拌10 min,用去離子水洗滌白色沉淀,過濾,120 ℃干燥12 h,1 000 ℃馬弗爐煅燒3h,得到黃褐色粉末(Gd1-x-yPrxCey)2O3,隨著Pr3+和Ce3+含量的增加,顏色逐漸變深。
(Gd1-x-yPrxCey)2O3與S粉、無水Na2CO3球磨混合12 h,裝入剛玉燒舟,然后置于管式爐中,抽真空后充入0.10 MPa Ar氣再次抽真空,1 000 ℃燒制3 h。隨爐冷卻后取出固相反應產物,去離子水洗滌3次后,加入0.60 mol/L的鹽酸攪拌30 min除去未完全反應的(Gd1-x-yPrxCey)2O3,去離子水繼續洗滌至pH=7.0,過濾,110 ℃真空干燥,得到(Gd1-x-yPrx-Cey)2O2S粉末。
用X射線衍射(XRD,Empyrean,PANalytical)儀表征Gd2O2S:Pr,Ce晶體結構,激光粒度儀(Mastersizer 2000, Malvern Instruments)測量其粒徑分布,掃描電子顯微鏡(SEM, JSM-7610F,JEOL)觀察粉末微觀形貌,熒光分光光度計(Fluorolog-3,HORIBA)研究其發光性能和壽命。
為確定Gd2O2S粉末的固相合成的溫度,將球磨混合均勻的Gd2O3、S粉、無水Na2CO3在熱分析儀(STA449F3,NETZSH)中做TG-DSC,得到圖 1 所示曲線。階段Ⅰ中DSC第一個吸熱峰對應的是物理吸附水和化學吸附水損失,第二個吸熱峰對應的是S的熔化(熔點119 ℃)過程。階段Ⅱ對應的是單質S與Na2CO3反應生成Na2Sx的過程(1)[18],隨著CO2的放出TG有明顯的下降。階段Ⅲ對應的是Na2Sx與Gd2O3的反應過程,此過程涉及多個反應,在400~700 ℃區間DSC中表現出明顯的曲折,有研究表明反應(2-5)均會在硫化過程中發生[20-21]。800~1 000 ℃反應趨于穩定,在高于1 100 ℃時TG線有明顯的下降,這可能與硫酸鹽的分解或者Gd2O2S中S的揮發有關。
S+Na2CO3→Na2Sx+Na2SO4+CO2
(1)
Gd2O3+Na2Sx→Gd2O2S+Na2Sx-1+1/2O2
(2)
S+O2+Na2CO3→Na2SO3+CO2
(3)
Na2SO3+S→Na2S2O3
(4)
Gd2O3+Na2S2O3→Gd2O2S+Na2SO4
(5)
因此參照TG-DSC的數據,在真空管式爐中固相合成(Gd1-x-yPrxCey)2O2S選取1 000 ℃作為最終反應溫度是合適的。以金屬元素計算,平均產率為98.4%,考慮到操作過程中的損耗,可以認為反應溫度1 000 ℃,Gd2O3可以完全硫化為Gd2O2S。

圖1 S,Na2CO3和Gd2O3反應的TG-DSC曲線Fig 1 TG-DSC curves for the reaction of S, Na2CO3 and Gd2O3
反應物在真空管式爐中隨爐冷卻后,洗滌,干燥,經X射線衍射(XRD)分析,與標準圖譜(03-065-3449)匹配,如圖 2 所示,產物為單一相六方晶系(P-3m1)。表1中根據XRD圖譜計算了晶格常數,與文獻報道接近[22-23]。隨著Pr3+的加入,晶體結構沒有變化,由于Pr3+離子半徑較Gd3+大,但晶胞的體積有增大的趨勢[22]。

圖2 (Gd1-xPrx)2O2S粉末的XRD圖譜Fig 2 XRD patterns of the (Gd1-xPrx)2O2S powders
SEM觀察Gd2O2S:Pr粉體的微觀形貌,如圖3 (a) 所示,粉末晶體表現出的多面體形態,并且可以觀察到部分晶粒呈現為明顯的六棱柱,這與其六方晶系相對應。進一步測其粒度分布,結果在圖3(b) 顯示,主要粒徑分布在1~10 μm,d(0.5)=4.776 μm。雖然粒度要比還原法制備的納米級粉末大,但是還原法制備的粉末的微觀形態呈現海綿狀[11]或鱗片狀[24],固相反應制備的Gd2O2S:Pr粉末相對更有利于下一步無壓[25]和熱壓[17]燒結制備陶瓷閃爍體。
圖4 為Gd2O2S:Pr粉體的激發和發射光譜。其激發光譜主要位于313 nm的寬帶激發峰, 與Pr3+離子4f→5d 能級的躍遷有關; 而位于450~500 nm的激發峰對應于Pr3+離子的3HJ→3PJ,1J6的躍遷[26]。在313 nm 激發光激發下, Gd2O2S:Pr閃爍陶瓷粉體的發射光譜由于Pr3+離子的4f2內部躍遷(3PJ和1D2→3HJ) 呈現一組不同強度的Pr3+的熒光發射。其中發射主峰位于511 nm, 歸屬于Pr3+離子的3P0→3H4躍遷[11]。位于501 nm的發射峰歸屬于Pr3+離子的3P1→3H4,位于545、553 nm的弱發射峰歸屬于Pr3+離子的3P1→3H5和3P0→3H5,而位于637 nm 的弱發射峰歸屬于Pr3+離子的1D2→3H4[22,26],667 nm,670 nm發射峰歸屬于Pr3+離子的3P1→3F2和3P0→3F2[26]。

圖3 Gd2O2S:Pr粉體的SEM照片和粒度分布Fig 3 SEM image and grain size distribution of Gd2O2S:Pr powders

圖4 Gd2O2S:Pr粉體的激發光譜(a)和發射光譜(b)Fig 4 Excitation and emission spectra of Gd2O2S:Pr powders

圖5 Pr3+ 含量與(Gd1-xPrx)2O2S發射光(511 nm)強度的關系(a);不同Pr3+ 含量的Gd2O2S:Pr粉在254nm紫外光照射下的熒光(b)Fig 5 Relationship between Pr3+ concentration and (Gd1-xPrx)2O2S emission light (511 nm) intensity and image of fluorescence (excited by 254 nm UV) of Gd2O2S:Pr powder with different Pr3+ concentration
圖4可以看出不同Pr3+含量的Gd2O2S:Pr發射光強度是不同的,為探索Pr3+含量與Gd2O2S:Pr主發射波長強度的關系,制備了不同Pr3+含量的(Gd1-xPrx)2O2S,測其511 nm發射主峰光強度,如圖 5 所示,發射主峰光強度隨著Pr3+含量的增加先增強后減弱,當x=0.008時發射主峰光強度最大。此外,Gd2O2S:Pr發光強度與Pr的添加方式有關,Gd2O3與Pr6O11按照x=0.010的比例球磨混合后真空固相合成Gd2O2S:Pr,測發光強度僅為共沉淀法添加相同量Pr制備的Gd2O2S:Pr發光強度的7.2%。這與Pr3+離子未完全固溶到Gd2O2S中有關。
Gd2O2S:Pr中添加Ce3+主要有兩方面的作用:(1)降低Gd2O2S:Pr閃爍體的余輝[4];(2)抵抗X射線對Gd2O2S:Pr閃爍體輻照損傷,延長其使用壽命[5]。
為研究Ce3+對Gd2O2S:Pr的發光性能的影響,不同量Ce3+添加到的(Gd0.990Pr0.010)2O2S中,采用熒光分光光度計測量發射光強度,并利用脈沖光源(340 SpectrelLED)測量熒光壽命。熒光的單壽命和雙壽命可以用公式(6)或公式(7)表示[27],式中τ,τ1,τ2即是熒光的壽命。利用圖 6 中測得的余輝特性曲線按照公式(6)或(7)擬合得到熒光壽命,見表2。
I(t)=Ae-t/τ
(6)
I(t)=Ae-t/τ1+Be-t/τ2
(7)
由圖6(a)和表 2,可以看出Gd2O2S:Pr的熒光是雙壽命熒光,其中2.84 μs的主壽命屬為511 nm的發射光,77.05 μs 的次壽命屬于637 nm 的弱發射光[27]。測得的壽命與文獻報道相符[25]。一般CT感光屏要求1 ms后余輝降低到0.05%,不摻雜Ce3+即可滿足要求,但是需要快速感應的CT感光屏要求熒光壽命極短,需要添加Ce3+作為猝滅劑。圖6(b)可以看出,隨著Ce3+添加量的增加,壽命有了明顯的降低,并且,Ce3+對熒光強度的影響非常大,當Ce3+濃度在20×10-6時,相對熒光強度已經小于50% 。研究表明Ce3+添加量在2×10-6~10×10-6(a.t.)是合適的[4,25]。

圖6 不同Ce的含量的Gd2O2S:Pr的余輝特性曲線(a);Ce的含量對熒光壽命和強度的影響(b)Fig 6 Afterglow characteristic curve of Gd2O2S:Pr with different Ce concentration and effect of Ce concentration on fluorescence lifetime and intensity

表2 由余輝特性曲線擬合的熒光壽命參數Table 2 Fluorescence lifetime parameters fitted by afterglow characteristic curve
(1)Na2CO3作為助熔劑,1 000 ℃真空固相反應,Gd2O3可以完全硫化為Gd2O2S。制備粉末的粒徑分布在1~10 μm,呈現多面體狀。
(2)Pr3+的添加對 Gd2O2S的晶格常數有影響,隨著Pr3+的含量的增高,晶胞體積有增大趨勢。
(3)Pr3+是Gd2O2S:Pr的發光中心,最強激發為313 nm ,主發射峰位于511 nm。Pr3+的濃度對Gd2O2S:Pr的熒光強度直接相關,Pr3+的濃度在0.80%時,熒光強度最大。
(4)隨著Ce3+的含量的增高,熒光壽命明顯縮短,但熒光強度急劇下降。因此,Ce3+的含量要在余輝控制,熒光光強和閃爍體使用壽命三者間平衡選擇。
致謝:感謝HORIBA(中國)貿易有限公司的蔡偉亭女士和遇聰先生在熒光測試實驗中給與的幫助。