陳俊學(xué),張斗國(guó)
(1.西南科技大學(xué)理學(xué)院,四川綿陽(yáng)621010)
(2.中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)光學(xué)與光學(xué)工程系,安徽合肥230026)
表面等離激元(Surface Plasmon Polaritons,SPP)是電磁波與金屬表面自由電子耦合而形成的一種沿金屬表面?zhèn)鞑サ慕鼒?chǎng)電磁波。在過(guò)去20 年,SPP 以及相關(guān)功能器件的研究引起了人們的廣泛關(guān)注[1-7]。SPP能作為信息載體,可以實(shí)現(xiàn)突破衍射極限的光傳輸。同時(shí),由于SPP高度的空間局域特性,SPP的激發(fā)能極大地增強(qiáng)局域電場(chǎng)強(qiáng)度。此外,SPP還對(duì)結(jié)構(gòu)表面形貌非常敏感,通過(guò)調(diào)節(jié)表面結(jié)構(gòu)形貌可以控制SPP傳播的路徑[8-12]。在以前的研究中,通過(guò)在金屬膜上或者里面制作表面缺陷結(jié)構(gòu),已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了很多SPP的功能器件,如SPP 波導(dǎo)[13-14]、反射鏡、棱鏡和分束器[15]、SPP光子帶隙晶體[16-19]和產(chǎn)生非衍射的SPP光束[20-24]。在這些結(jié)構(gòu)中,金屬膜體系中只存在一個(gè)表面電磁模式(即SPP 模式)。然而,由于SPP模式具有高的傳輸損耗和低的共振Q值,這阻礙了SPP在很多方面的實(shí)際應(yīng)用。而波導(dǎo)模式具有低的傳輸損耗,如果能將SPP和波導(dǎo)模式耦合,就能與其他器件(如源和探測(cè)器等)集成。在金屬薄膜(如金或銀膜)上覆蓋一層電介質(zhì)層,如PMMA或SiO2層,可以構(gòu)造電介質(zhì)覆蓋的金屬波導(dǎo)(Dielectric-coated Metal Waveguide,DMW)。除了SPP模式外,該波導(dǎo)體系還支持波導(dǎo)模式傳播。在這個(gè)體系中,由于波導(dǎo)模式具有低的傳輸損耗和對(duì)電介質(zhì)層厚度敏感等特性,波導(dǎo)模式已經(jīng)被用來(lái)實(shí)現(xiàn)高效的熒光輻射[25-26]和偏振編碼控制的量子非門(mén)[27]、引力透鏡效應(yīng)[28]、構(gòu)造窄的非衍射光束[29]和沿任意路徑加速光束傳播[29-30]。同時(shí),體系中波導(dǎo)模式也被用來(lái)同時(shí)實(shí)現(xiàn)幾何光學(xué)的自聚焦效應(yīng)和波動(dòng)光學(xué)的Talbot 效應(yīng)[31]。在這些應(yīng)用中,人們的關(guān)注重點(diǎn)是波導(dǎo)模式,而SPP模式被忽略掉了,很少有文獻(xiàn)報(bào)道在這種介質(zhì)覆蓋金屬膜體系中,SPP和波導(dǎo)模式間的相互作用以及結(jié)構(gòu)表面缺陷如何同時(shí)影響SPP和波導(dǎo)模式的傳播。
在本文中,我們通過(guò)在電介質(zhì)覆蓋金屬波導(dǎo)的頂層,引入一維亞波長(zhǎng)凹槽結(jié)構(gòu)來(lái)研究SPP和波導(dǎo)模式間的相互作用。相對(duì)于在金屬膜上制作凹槽結(jié)構(gòu)(只存在SPP模式),在電介質(zhì)覆蓋金屬波導(dǎo)上由于共存有兩個(gè)電磁模式,凹槽結(jié)構(gòu)將帶來(lái)更加復(fù)雜的光子能帶結(jié)構(gòu)。這將為發(fā)展二維光子學(xué)器件,如光子芯片、耦合器和方向性激發(fā)SPP和波導(dǎo)模式提供有效的方案。
圖1(a)中給出了電介質(zhì)覆蓋金屬波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)示意圖。該波導(dǎo)由一厚度為h的SiO2層覆蓋在厚度為300 nm 的銀膜上組成,整個(gè)結(jié)構(gòu)放置在玻璃基底上。在數(shù)值模擬中,結(jié)構(gòu)的工作波長(zhǎng)為785 nm,材料SiO2、玻璃和銀的折射率分別為1.46、1.515和0.033+i5.44[32]。圖1(b)給出了模式有效折射率(包括SPP,TM和TE偏振導(dǎo)波模式)隨SiO2層厚度的變化關(guān)系。從圖中可以看出,隨著厚度h的減小,導(dǎo)波模式的有效折射率也會(huì)隨之減小。TM1和TE0模式的截止厚度分別為320 nm 和170 nm。那么通過(guò)改變SiO2層的厚度,可以調(diào)節(jié)導(dǎo)波模式的傳播。在本文中,為了比較模式轉(zhuǎn)換效應(yīng)對(duì)SPP和波導(dǎo)模式光子能帶的影響,SiO2層的厚度分別固定在160 nm(只支持SPP 模式)和250 nm(同時(shí)支持SPP和TE0模式)。在厚度h=250 nm時(shí),SPP和TE0模式的電場(chǎng)分布分別在圖1(c)和1(d)中給出。為了簡(jiǎn)化描述,我們將SPP和TE0模式都命名為結(jié)構(gòu)的導(dǎo)波模式。

圖1 (a)電介質(zhì)覆蓋金屬波導(dǎo)結(jié)構(gòu)示意圖;(b)SPP和波導(dǎo)模式有效折射率隨SiO2層厚度h的變化關(guān)系;(c)SPP模式對(duì)應(yīng)的歸一化的電場(chǎng)分布(Ex和Ez分量);(d)TE0模式對(duì)應(yīng)的歸一化電場(chǎng)分布(Ey分量)
圖2(a)給出了電介質(zhì)覆蓋金屬波導(dǎo)中模式轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)的示意圖。在SiO2層的表面制作了7個(gè)橫截面為矩形的凹槽。凹槽的寬度和深度分別表示為wg和hg,相鄰凹槽的間距表示為L(zhǎng)d。符號(hào)θi、θr和θt分別表示導(dǎo)波模式的入射、反射和透射角度。當(dāng)導(dǎo)波模式斜入射到凹槽上,該模式除了發(fā)生部分反射和透射外,由于凹槽界面的不連續(xù)性,導(dǎo)波模式間(SPP模式和TE0模式)的模式轉(zhuǎn)換也會(huì)隨之發(fā)生[33]。通過(guò)模式轉(zhuǎn)換,SPP模式可以被TE0模式激發(fā),反之亦然。本文中,導(dǎo)波模式的傳輸性質(zhì)通過(guò)非周期的嚴(yán)格耦合波分析方法進(jìn)行研究(Aperiodic Rigorous Coupled-Wave Analysis,ARCWA)[18,34-36]。為了確保結(jié)果的收斂性,ARCWA中傅立葉展開(kāi)階數(shù)取140。當(dāng)入射波是SPP模式時(shí),Rpp和Tpp分別表示SPP模式的反射率和透射率,Rps和Tps分別表示TE0模式在結(jié)構(gòu)反射端和透射端的產(chǎn)生效率。同樣,當(dāng)入射波是TE0模式時(shí),Rss和Tss分別表示TE0模式的反射率和透射率,Rsp和Tsp分別表示SPP模式在結(jié)構(gòu)反射端和透射端的產(chǎn)生效率。一般來(lái)說(shuō),模式的轉(zhuǎn)換效率正比于凹槽的深度。然而凹槽越深,導(dǎo)波模式穿過(guò)凹槽時(shí),模式的散射損耗也就越大[38]。為了平衡模式的散射損耗與轉(zhuǎn)換效率,本文中,凹槽的寬度和深度分別固定在250 nm和120 nm。如圖1(b)所示,當(dāng)SiO2層的厚度減小為160 nm時(shí),波導(dǎo)結(jié)構(gòu)只支持SPP模式,這種結(jié)構(gòu)是被廣泛研究的波導(dǎo)結(jié)構(gòu),在波導(dǎo)表面制作凹槽結(jié)構(gòu),可以實(shí)現(xiàn)SPP布拉格反射鏡。這里,我們先描述凹槽結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)的SPP光子能帶結(jié)構(gòu)。當(dāng)SPP模式入射到7個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)時(shí),圖2(b)和2(c)分別給出了結(jié)構(gòu)反射率(Rpp)和透射率(Tpp)隨入射角和間距Ld的變化關(guān)系。由于在凹槽內(nèi)部和外部,SPP模式具有不同模式的有效折射率,當(dāng)SPP入射到凹槽上時(shí),與平面波在高低折射率組成的多層膜體系中的傳播情況類似,在二維平面上SPP將經(jīng)歷部分反射和透射。當(dāng)SPP穿過(guò)多個(gè)凹槽時(shí),由于反射和透射SPP模式間的干涉效應(yīng),將形成SPP模式的導(dǎo)帶和禁帶。
為了比較導(dǎo)波模式和平面波光子能帶結(jié)構(gòu),我們首先了解導(dǎo)波模式和平面波斜入射時(shí)偏振行為的差異。圖3(a)和3(b)分別給出了導(dǎo)波模式穿過(guò)多個(gè)凹槽和平面波穿過(guò)電介質(zhì)多層膜時(shí)的偏振行為示意圖。如圖3(a)所示,當(dāng)TE0模式以角度θi入射到凹槽上時(shí),TE0模式的電場(chǎng)(沿ey′方向)在光波入射面(由入射波矢和界面法線方向決定)內(nèi)。因此,對(duì)比圖3(b)可知,當(dāng)TE0以角度θi入射到凹槽上時(shí),TE0模式將表現(xiàn)出類似于TM偏振平面波的電磁行為。對(duì)于SPP模式入射時(shí),SPP模式的電場(chǎng)不僅有垂直于入射面的分量(沿ez′方向),還含有入射面內(nèi)的分量(沿ex′方向)。由于入射面內(nèi)重疊的電場(chǎng)分量,當(dāng)TE0模式和SPP模式斜入射到凹槽時(shí),TE0模式和SPP模式間會(huì)發(fā)生模式耦合效應(yīng),而這個(gè)效應(yīng)在平面波入射到各向同性的電介質(zhì)多層膜體系中是沒(méi)有的。從圖1(c)中可以看出,SPP模式沿ez′方向的電場(chǎng)分量幅度遠(yuǎn)大于沿ex′方向的分量。那么,當(dāng)SPP模式斜入射到凹槽上時(shí),SPP模式將展示類似于TE偏振平面波的電磁行為。對(duì)于電介質(zhì)多層膜體系,TE偏振平面波光子帶隙邊界在圖2(b)和2(c)中以虛線形式表示。電介質(zhì)多層膜結(jié)構(gòu)中光子能帶結(jié)構(gòu)通過(guò)以下的布洛赫方程得到[37]:


圖2 (a)電介質(zhì)覆蓋金屬波導(dǎo)中模式轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)示意圖;(b)SPP模式的反射譜;(c)SPP模式的透射譜

圖3 導(dǎo)波模式和平面波斜入射時(shí)偏振行為的比較。(a)導(dǎo)波模式穿過(guò)凹槽結(jié)構(gòu)的示意圖;(b)TE和TM偏振平面波斜入射到多層膜結(jié)構(gòu)的示意圖
注 多層膜由折射率為n1和n2,厚度為h1和h2的介質(zhì)層交替組成。TE0模式(電場(chǎng)沿ey′方向)和SPP模式(電場(chǎng)沿ex′和ez′方向)以角度θi入射到凹槽上,neff,1和neff,2分別表示導(dǎo)波模式在凹槽內(nèi)部和外部的模式有效折射率這里Λ=h1+h2是介質(zhì)多層膜的周期,h1和h2分別是低折射率(n1)和高折射率(n2)介質(zhì)層的厚度。γα=,α=1,2,是平面波沿X軸方向的縱向波數(shù);β是平行于Y軸的橫向波數(shù);K是多層膜的布洛赫波數(shù)。當(dāng)?shù)仁剑?)和(2)左邊的余弦項(xiàng)的值為1或-1時(shí),可以得到多層膜結(jié)構(gòu)光子帶隙的邊界[37]。在數(shù)值模擬中,為了比較導(dǎo)波模式和平面波的光子能帶結(jié)構(gòu),折射率n1和n2分別取導(dǎo)波模式在凹槽內(nèi)部和外部的模式有效折射率值。類似的,厚度h1和h2分別等于凹槽寬度wg和間隔距離Ld。如圖2(b)和2(c)中所示,在虛線表示的區(qū)域內(nèi),SPP模式表現(xiàn)出強(qiáng)的反射和低的透射率。這表明,SPP模式在穿過(guò)多個(gè)凹槽后表現(xiàn)出類似于TE偏振平面波在多層膜中的光子能帶結(jié)構(gòu)。
當(dāng)SiO2層的厚度增加到250 nm時(shí),結(jié)構(gòu)支持SPP和TE0模式。當(dāng)入射波是SPP模式時(shí),圖4(a)、(b)分別表示SPP模式的反射率(Rpp)和透射率(Tpp)隨入射角度和間隔距離Ld的變化情況,其中的虛線表示TE偏振平面波在多層膜中的光子帶隙邊界。當(dāng)入射波是TE0模式時(shí),圖4(c)和圖4(d)分別表示TE0模式的反射率(Rpp)和透射率(Tpp)隨入射角度和間隔距離Ld的變化關(guān)系,其中的虛線表示TM偏振平面波在多層膜中的光子帶隙邊界。結(jié)構(gòu)中凹槽的寬度和深度分別為250 nm和120 nm。在圖4(a)和(c)中的紅色區(qū)域表示高反射率;在4(a)和(d)中紅色區(qū)域表示高透射率。
圖5(a)和5(b)分別表示,當(dāng)SPP模式入射到7個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)時(shí),在凹槽反射端模式轉(zhuǎn)換效率Rps和凹槽透射端模式轉(zhuǎn)換效率Tps隨入射角度和間隔距離Ld的變化關(guān)系。由等式(13)和(15)得到的結(jié)果在圖5中分別以圓形和三角形符號(hào)表示。圖5(c)、(d)分別表示當(dāng)入射波為T(mén)E0波導(dǎo)模式時(shí),在凹槽反射端模式轉(zhuǎn)換效率Rsp和在凹槽透射端模式轉(zhuǎn)換效率Tsp隨入射角度和間隔距離Ld的變化關(guān)系。圖中紅色區(qū)域表示強(qiáng)的模式轉(zhuǎn)換效率。
下面將討論圖4(b)和4(d)中低透射帶(標(biāo)記為A和B)的物理起源。當(dāng)SPP模式入射到凹槽上時(shí),圖5(a)和5(b)分別給出了從SPP到TE0模式的模式轉(zhuǎn)換效率隨入射角度和間隔距離Ld的變化關(guān)系。其中,Rps和Tps分別表示在結(jié)構(gòu)反射端和透射端從SPP模式到TE0模式轉(zhuǎn)換效率。通過(guò)比較圖4(b)、5(a)和5(b)給出光子能帶結(jié)構(gòu),我們發(fā)現(xiàn),SPP模式透射譜中出現(xiàn)的低透射帶A和B(如圖4(b)所示)分別歸因于TE0模式在結(jié)構(gòu)反射端(Rps,如圖5(a)所示)和透射端的激發(fā)(Tps,如圖5(b)所示)。從圖5(a)和5(b)中可以看出,受SPP模式禁帶的影響,低透射帶A和B會(huì)出現(xiàn)不連續(xù)的分布。低透射帶A和B的位置可以通過(guò)反射波和透射波的干涉相長(zhǎng)條件獲得。在數(shù)學(xué)上,可以通過(guò)廣義Fresnel公式來(lái)描述導(dǎo)波模式在凹槽間的反射、透射和模式轉(zhuǎn)換[38]。廣義Fresnel公式可以通過(guò)導(dǎo)波模式在兩個(gè)凹槽間的反射和透射來(lái)得出。

圖4 SPP模式的(a)反射率(Rpp)和(b)透射率(Tpp);TE0模式的(c)反射率(Rss)和(d)透射率(Tss)

圖5 SPP模式入射時(shí),(a)凹槽反射端模式轉(zhuǎn)換效率Rps;(b)凹槽透射端模式轉(zhuǎn)換效率Tps;當(dāng)入射波為T(mén)E0波導(dǎo)模式時(shí),(c)凹槽反射端模式轉(zhuǎn)換效率Rsp;(d)凹槽透射端模式轉(zhuǎn)換效率Tsp
當(dāng)SiO2層的厚度增加到250 nm 時(shí),結(jié)構(gòu)同時(shí)支持SPP 和TE0模式的傳播。當(dāng)SPP 模式入射到凹槽上時(shí),除了部分反射和透射SPP模式外,也會(huì)激發(fā)起TE0模式。圖4(a)和4(b)分別給出了SPP模式反射率和透射率隨入射角度和間隔距離Ld的變化關(guān)系。類似于圖2(b)和2(c)的結(jié)果,在虛線表示的范圍內(nèi),SPP表現(xiàn)出高反射和低透射特性。模擬中,多層膜中折射率n1=1.311 和n2=1.458 分別對(duì)應(yīng)于在凹槽內(nèi)部和外部SPP模式的有效折射率。此外,在圖4(b)中可以看到在SPP的導(dǎo)帶中,出現(xiàn)了兩個(gè)標(biāo)記為A和B的低透射帶。這兩個(gè)透射帶在僅含有SPP模式的結(jié)構(gòu)中沒(méi)有出現(xiàn)(如圖2(c)所示)。這新出現(xiàn)的低透射帶來(lái)自于SPP和TE0模式間的模式轉(zhuǎn)換。當(dāng)入射波為T(mén)E0模式時(shí),圖4(c)和4(d)分別給出了TE0模式的反射率和透射率隨入射角度和間隔距離Ld的變化關(guān)系。由于斜入射到凹槽上的TE0模式,在偏振特性上表現(xiàn)出類似于TM偏振平面波的特性,在反射譜上可以觀察到TE0模式的布儒斯特角效應(yīng)(如圖4(c)所示)。在這個(gè)入射角度下,結(jié)構(gòu)的光子禁帶寬度為零。從圖中可以看出,該結(jié)構(gòu)的布儒斯特角約為38°。與SPP模式的情況類似,在圖4(d)中可以看到在TE0模式的導(dǎo)帶中,也出現(xiàn)了兩個(gè)標(biāo)記為A和B的低透射帶。這兩個(gè)透射帶歸因于TE0模式到SPP模式間的轉(zhuǎn)換。
下面我們引出描述導(dǎo)波模式傳輸?shù)膹V義Fresnel公式。在SPP模式入射到兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)上時(shí),圖6(a)給出了SPP模式的反射率(Rpp)、透射率(Tpp)和模式轉(zhuǎn)換效率(Rps和Tps)隨入射角度的變化關(guān)系。結(jié)構(gòu)中凹槽間距Ld=400 nm,凹槽的寬度和深度分別為250 nm 和120 nm。為了方便顯示,Tps的幅度被放大了5倍。由于凹槽內(nèi)部和外部SPP模式具有不同的模式有效折射率,當(dāng)SPP模式穿過(guò)凹槽時(shí)將經(jīng)歷來(lái)回多次反射。反射波間的干涉效應(yīng)將導(dǎo)致SPP的反射譜和透射譜中出現(xiàn)峰值和低谷。而且,干涉效應(yīng)也會(huì)增強(qiáng)SPP模式的轉(zhuǎn)換效率(Rps和Tps)。圖6(b)給出了SPP模式在兩個(gè)凹槽間的反射、透射和模式轉(zhuǎn)換的簡(jiǎn)化模型。這里凹槽被認(rèn)為是一個(gè)等價(jià)界面。這樣含有兩個(gè)凹槽的結(jié)構(gòu)通過(guò)兩個(gè)等價(jià)界面分為3個(gè)部分。這3個(gè)部分分別標(biāo)記為0、1和2區(qū)域。SPP模式在0區(qū)域入射。當(dāng)SPP模式從i區(qū)域到j(luò)區(qū)域傳播時(shí),和分別表示SPP模式的反射和透射系數(shù)和分別表示SPP到TE0模式的轉(zhuǎn)換系數(shù)。同樣的,當(dāng)TE0模從i區(qū)域到j(luò)區(qū)域傳播時(shí),和分別用來(lái)表示TE0模式的反射、透射和模式轉(zhuǎn)換系數(shù)。對(duì)于簡(jiǎn)化的模型和定義的系數(shù),廣義Fresnel 公式可以被用來(lái)描述SPP和TE0模式間的模式轉(zhuǎn)換。
當(dāng)SPP(TE0)模式以幅度()入射時(shí),SPP和TE0模式在凹槽反射端(和)和透射端(和)的幅度滿足如下關(guān)系:

圖6 SPP模式入射到兩個(gè)凹槽的結(jié)構(gòu)上時(shí),(a)SPP的反射率(Rpp)、透射率(Tpp)以及模式轉(zhuǎn)換效率(Rps和Tps)隨入射角度的變化關(guān)系;(b)SPP模式穿過(guò)兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)時(shí),相應(yīng)的反射、透射和模式轉(zhuǎn)換的簡(jiǎn)化模型



等式(10)的結(jié)果在圖6(a)中以圓形和三角形符號(hào)顯示,可以看出Fresnel 公式的結(jié)果和通過(guò)ARCWA得到的結(jié)果符合得很好,說(shuō)明了Fresnel公式的有效性。此外,當(dāng)入射波是SPP模式時(shí),從等式(3)和等式(10)中,模式轉(zhuǎn)換系數(shù)可以進(jìn)一步表示為



系數(shù)ST,ij是矩陣S~T(等式(9))的矩陣元素。等式(14)中同樣可以展開(kāi)為兩項(xiàng)。由于兩個(gè)凹槽間的TE0和SPP模式都能被入射的SPP模式激發(fā),第一項(xiàng)表示凹槽間激發(fā)的TE0模式將穿過(guò)第二個(gè)凹槽在凹槽出射端產(chǎn)生TE0模式的輸出。第二項(xiàng)表示激發(fā)的SPP模式通過(guò)第二個(gè)凹槽時(shí),通過(guò)模式轉(zhuǎn)換導(dǎo)致的TE0模式輸出。這兩項(xiàng)的位相分別表示為φs和φp。當(dāng)這兩個(gè)位相滿足干涉相長(zhǎng)時(shí)能獲得極大值。干涉相長(zhǎng)條件表示為

等式(13)和(15)的結(jié)果分別在圖5(a)和5(b)中以圓形和三角形符號(hào)表示,從圖中可以看出,F(xiàn)resnel公式的結(jié)果與低透射帶(A和B)的變化趨勢(shì)符合得很好。這意味著,如果我們知道導(dǎo)波模式穿過(guò)兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)的Fresnel 公式,就能準(zhǔn)確預(yù)測(cè)低透射帶A和B的位置。同樣,當(dāng)入射波是TE0模式時(shí),模式轉(zhuǎn)換效率Rsp和Tsp隨入射角度和間隔距離Ld的變化關(guān)系在圖5(c)和5(d)中給出。Fresnel公式?jīng)Q定的干涉相長(zhǎng)條件也在圖5(c)和5(d)中以圓形和三角形符號(hào)給出。
接下來(lái),我們將利用這些新的低透射帶A和B來(lái)操控二維導(dǎo)波,尤其是通過(guò)SPP 和TE0模式間的模式轉(zhuǎn)換實(shí)現(xiàn)方向性地二維導(dǎo)波激發(fā)。考慮到A和B帶(圖5中給出)來(lái)自于不同的干涉條件,通過(guò)改變凹槽間距Ld,SPP模式能被入射的TE0模式高效和方向性地激發(fā),反之亦然。圖7(a)和7(b)分別給出了在間距Ld=340 nm 和Ld=1 010 nm時(shí),SPP模式的轉(zhuǎn)換效率Rps和Tps隨入射角度的變化關(guān)系。當(dāng)SPP模式的入射角度固定在42.2o時(shí),通過(guò)改變間距Ld,TE0模式能在凹槽的反射端或透射端被高效激發(fā)。當(dāng)Ld=340 nm 時(shí),由于干涉相長(zhǎng)Rps能獲得極大值,而Tps被急劇減小。這意味著,在凹槽結(jié)構(gòu)的反射端TE0模式能被入射的SPP模式高效激發(fā),而在凹槽的透射端,TE0模式的激發(fā)是被抑制掉的。在此情況下,圖7(c)給出了間距Ld=340 nm 時(shí)結(jié)構(gòu)的電場(chǎng)分布。這里,入射的SPP光束被模擬成高斯形狀,高斯光束的半高全寬為6λ,λ=785 nm,是入射光的波長(zhǎng)。高斯光束的傳播是通過(guò)角譜分解,然后將每個(gè)角譜帶入到ARCWA求得。從圖7(c)中可以看出,入射的SPP能量在反射端被有效地轉(zhuǎn)換為T(mén)E0模式。通過(guò)橫向動(dòng)量匹配,可以確定TE0模式的反射和透射角度:


圖7 SPP的模式轉(zhuǎn)換效率Rps和Tps隨入射角度的變化關(guān)系:(a)間距Ld=340 nm,(b)Ld=1 010 nm;SPP模式的入射角固定在42.2o((a)和(b)中點(diǎn)豎線表示的角度)時(shí),結(jié)構(gòu)在不同間距Ld情況下的電場(chǎng)分布:(c)間距Ld=340 nm,(d)間距Ld=1 010 nm
類似的,當(dāng)入射波是TE0模式時(shí),圖8(a)和8(b)分別給出了在間隔距離Ld=340 nm和Ld=1010 nm時(shí),模式轉(zhuǎn)換效率Rsp和Tsp隨入射角度的變化關(guān)系。根據(jù)光學(xué)互易性定理,當(dāng)TE0模式的入射角度為61.5o,間隔距離Ld=340 nm時(shí),入射的TE0模式能在凹槽的反射端高效地激發(fā)SPP模式。當(dāng)間隔距離Ld增加到1 010 nm時(shí),入射角61.5o附近處的模式轉(zhuǎn)換效率Tsp和Rsp分別被提高和降低。這表明入射的TE0模式在凹槽的透射端有效地激發(fā)了SPP模式。在間隔距離Ld=340 nm和Ld=1 010 nm時(shí),結(jié)構(gòu)的電場(chǎng)分布分別在圖8(c)和8(d)中給出。從圖中可以看出,當(dāng)間隔距離Ld=340 nm和Ld=1 010 nm時(shí),入射的TE0模式分別在凹槽的反射端和透射端有效激發(fā)了SPP模式。根據(jù)橫向動(dòng)量匹配,激發(fā)的SPP模式的出射角度為42.2o。因此,通過(guò)調(diào)節(jié)凹槽的間隔距離Ld,可以實(shí)現(xiàn)SPP和TE0模式的方向性激發(fā)。

圖8 TE0模式入射時(shí),模式轉(zhuǎn)換效率Rsp和Tsp隨入射角度的變化關(guān)系:(a)間隔Ld=340 nm,(d)間隔Ld=1 010 nm;TE0模式的入射角固定在61.5°時(shí)((a)和(b)中豎直點(diǎn)線表示的角度),結(jié)構(gòu)在不同間距Ld情況下的電場(chǎng)分布:(c)間距Ld=340 nm,(d)間距Ld=1 010 nm
本文通過(guò)在電介質(zhì)覆蓋金屬波導(dǎo)中引入一維凹槽結(jié)構(gòu),理論研究了結(jié)構(gòu)的光子能帶特性。由于結(jié)構(gòu)同時(shí)支持SPP和TE0模式傳播,凹槽結(jié)構(gòu)的引入可以促使兩個(gè)模式進(jìn)行耦合轉(zhuǎn)換。模式間的轉(zhuǎn)換導(dǎo)致導(dǎo)波模式的透射譜上出現(xiàn)附加的光子能帶。利用這些附加的光子能帶,我們實(shí)現(xiàn)了通過(guò)入射TE0模式高效和方向性地激發(fā)SPP模式。同樣地,入射的SPP模式也能高效和方向性地激發(fā)TE0模式。通過(guò)這兩個(gè)模式的轉(zhuǎn)換可以對(duì)二維光波的偏振和場(chǎng)局域特性進(jìn)行調(diào)制,這在分子傳感和成像,以及探索二維光波與二維材料作用方面有著潛在的應(yīng)用。