吳寶建,呂昕峰,張清杰,易美桂,向 蘭
(1.四川大學化學工程學院,四川成都610065;2.清華大學化學工程系)
磷石膏是濕法磷酸的副產物,中國2018年磷石膏產生量已達7800萬t, 但是磷石膏共存雜質多,工業應用受限,綜合利用量約為3100萬t,利用率僅為39.7%[1]。 如何實現磷石膏的除雜增白是亟待解決的技術問題[2-3]。
磷石膏共存雜質主要來自天然磷礦和浮選工藝,常見雜質包括硅、鐵、磷、氟等無機雜質和腐殖質、浮選藥劑(乙二醇甲醚乙酸酯以及氨基羧酸型、酰胺基羧基型藥劑等)等有機雜質,常呈灰白或灰黑色[4-5]。 一般通過浮選[6]、水洗[7]、酸溶[8]、焙燒[9]等方法除雜,存在工藝復雜、殘余雜質較多等問題。為此,筆者探討了硅烷偶聯劑對磷石膏中的硅和有機雜質的脫除規律,為磷石膏除雜增白提供了一條新途徑。
實驗所用磷石膏來自中國某廠,石膏(以CaSO4·0.5H2O 計)質量分數為82.5%,同時含有Si、Fe、P、Al等雜質, 質量分數分別為4.3%、0.55%、1.2%、0.53%,白度為45.0%。圖1為磷石膏掃描電鏡照片(SEM)和X 射線衍射(XRD)譜圖。由圖1可以看出,磷石膏主要由CaSO4·2H2O、SiO2和Fe2(SO4)3組成,大多呈直徑為1~30μm 的不規則片狀。 硅烷偶聯劑由鼎海塑膠化工有限公司提供,純度為97%。
將200.0g 磷石膏與800.0g 質量分數為5.0%的H2SO4溶液混合,在室溫下攪拌(500r/min)6h,過濾、洗滌、干燥(105℃,12h),得到預處理石膏。 取100.0g 預處理石膏與400.0g 質量分數為1.0%的硅烷偶聯劑溶液混合,置于恒溫水浴(20~80℃)中攪拌(500r/min)反應6h,刮除分離懸浮物(105℃、12h 干燥后備用),過濾、洗滌、干燥(105℃,12h),得到純化石膏。
采用D8-Advance 型X 射線粉末衍射儀分析樣品的物相組成;采用Nexus670型傅里葉變換紅外光譜儀分析樣品的表面組成;采用JSM 7401F 型掃描電鏡觀察樣品的形貌;采用STA 449F3型同步熱分析儀測試樣品的失重曲線;采用WSB-Ⅳ型白度儀測試樣品的白度;采用GB/T 5484—2012《石膏化學分析方法》測定石膏樣品中的鈣、硅、鐵、磷和鋁含量。

圖1 磷石膏的SEM 照片(a)和XRD 譜圖(b)
化學分析表明,采用稀硫酸預處理后磷石膏中的Si、Fe、P、Al 質 量 分 數 分 別 降 至1.7%、0.22%、0.25%、0.26%,純度(以CaSO4·0.5H2O 計)提高至91.3%。 預處理前后磷石膏的紅外光譜及熱重分析結果見圖2。 由圖2a 可知,在3406、3554、3608cm-1處的峰為—OH 的伸縮振動峰,1686cm-1處的峰為C=O 的伸縮振動峰,預處理后C=O 的伸縮振動峰減弱,可能與部分羧基類有機物脫除有關;797cm-1處 的 峰 為Si—O 的 伸 縮 振 動 峰[10-11],酸 化預處理前后變化不大,說明預處理對硅的影響較小。 圖2b 表明,預處理可脫除一部分雜質,80~240℃質量損失由18.5%降至12.4%, 可能與磷石膏干燥相變(CaSO4·2H2O→CaSO4·0.5H2O)導致的結晶水減少有關;240~900℃質量損失由3.87%降至0.92%,應與磷石膏中部分有機雜質隨溶液脫除有關。

圖2 預處理前(Ⅰ)后(Ⅱ)磷石膏的紅外光譜圖(a)及熱重分析曲線(b)
預處理后的磷石膏與硅烷偶聯劑分別在20、50、80℃進行混合處理,其雜質含量進一步降低,且溫度越高除雜效果越好。 在80℃條件下,磷石膏中的Si、Fe、P、Al 質量分數分別降至0.01%、0.02%、0.03%、0.14%,其中脫Si 率高達99.4%,石膏(CaSO4·0.5H2O)純度提高至96.2%,白度提高至92.2%。 純化石膏的熱重分析曲線及紅外光譜圖見圖3。 由圖3a 看出, 偶聯除雜溫度由20℃上升至80℃時,質量損失由1.4%降至0.39%。 由圖3b~c 看出,隨著偶聯除雜溫度由20℃升高到80℃,在3406cm-1處的峰(—OH 伸縮振動峰)及1686cm-1處的峰(C=O 伸縮振動峰)逐漸消失,推測與羧基類有機雜質脫除有關。 由圖3d 看出,隨著偶聯除雜溫度由20℃升高到80℃,在797cm-1處的峰(Si—O 鍵對稱伸縮振動峰)逐漸消失,應與石膏中的SiO2減少有關。
預處理后的石膏與硅烷偶聯劑混合后有黑色懸浮物形成,其XRD 譜圖、熱重分析曲線及紅外光譜圖見圖4。由圖4a 看出,懸浮物主要成分為SiO2。由圖4b 看出,偶聯除雜溫度由20℃升至80℃時,懸浮物中SiO2質量分數由65.6%升至89.1%, 質量損失由37.9%降至27.7%, 與懸浮物中有機物的相對含量減少有關。由圖4c 看出,波數為3410~3450cm-1處的峰為—OH 的伸縮振動峰,與形成氫鍵有關,溫度升高—OH 的伸縮振動峰減弱,與硅烷偶聯劑水解生成的Si—OH 同SiO2表面羥基和有機雜質中—COOH 脫水縮合有關;694、797、1112cm-1處的峰為Si—O 的伸縮振動峰, 與形成Si—O—Si 共價鍵有關;1738cm-1處出現C=O 伸縮振動峰及2960cm-1處出現—CH3振動峰, 說明懸浮物含羧基類有機雜質, 可能與硅烷偶聯劑與羧基類有機雜質的脫水縮合有關[10-16]。

圖3 石膏熱重分析曲線(a)和紅外光譜圖局部放大圖(b、c、d)
上述結果表明: 硅烷偶聯劑與磷石膏中的SiO2通過氫鍵及脫水縮合結合, 與羧基類有機雜質通過脫水縮合結合,使SiO2及羧基類有機雜質疏水性增強,進而上浮分離。 硅烷偶聯劑與SiO2及羧基類有機雜質的偶聯結合見圖5。

圖4 懸浮物XRD 譜圖(a)、熱重分析曲線(b)及紅外光譜圖(c)

圖5 硅烷偶聯劑與SiO2 及羧基類有機雜質的偶聯結合
磷石膏中的硅及有機雜質可經質量分數為5.0%的H2SO4和質量分數為1.0%的硅烷偶聯劑處理后脫除。 硅烷偶聯劑通過氫鍵及脫水縮合的方式與磷石膏中的SiO2及羧基類有機雜質結合,使相應雜質疏水性提高, 通過上浮刮除分離。 通過實驗得出,80℃時除雜效果最佳,制得的純化石膏(以CaSO4·0.5H2O 計)質量分數為96.2%,白度為92.2%。