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C5240銅合金加工過程的組織演變與力學(xué)性能*

2021-02-10 03:05:48胡斐斐孫佳明劉羽飛
銅業(yè)工程 2021年6期
關(guān)鍵詞:方向工藝

陳 巖,胡斐斐,劉 昆,林 毅,孫佳明,劉羽飛

(1.江西銅業(yè)集團有限公司,江西 南昌 330096;2. 江西銅業(yè)技術(shù)研究院有限公司,江西 南昌 330096;3.江西銅業(yè)集團銅板帶有限公司,江西 南昌 330096)

1 引言

錫磷青銅是常用的彈性銅合金,具有更高的耐蝕性、耐磨性和耐疲勞性等綜合性能,且其彈性性能較一般銅合金好,被廣泛用于電子連接器行業(yè)中,如彈性接插件、彈簧、開關(guān)等電連接器件,是目前銅基彈性合金材料用途最廣的彈性材料[1-2]。錫磷青銅接插件產(chǎn)品狀態(tài)集中在H、EH和SH,目前從低錫C5111(4%Sn)到高錫C5212(9%Sn)的錫磷青銅都被大量應(yīng)用,其中用量最大的錫磷青銅帶材主要包括C5210和C5191,其含錫量分別為7%和5%[3-4]。

水平連鑄是生產(chǎn)錫磷青銅板帶的重要生產(chǎn)工藝,具有工序短、生產(chǎn)成本低、設(shè)備占地面積小等優(yōu)點。但在水平連鑄過程中,鑄坯的溫度梯度大,冷卻速度快,在凝固過程中易產(chǎn)生偏析、疏松、氣孔等缺陷,影響后續(xù)加工帶材的質(zhì)量[5-6]。工業(yè)上常采用添加稀土和施加電磁攪拌方法,使錫磷青銅鑄造組織細化,從而減輕偏析和疏松缺陷[7-9]。錫磷青銅帶材一般采用冷軋開坯,鑄錠經(jīng)均勻化退火、多次冷軋和中間退火,軋制成不同厚度的帶材。工藝上國內(nèi)與國外的差別在于均勻化退火與銑面的先后順序。錫磷青銅加工硬化率非常高,在冷加工生產(chǎn)過程中中間退火次數(shù)多,生產(chǎn)周期較長。

隨著各種電子連接器件向小型化、長壽命方向迅猛發(fā)展,對錫磷青銅帶材的表面質(zhì)量、材料性能提出了更高的要求,如更高的機械性能和彈性、足夠的導(dǎo)電性、良好的成型性能以及適宜的可焊性。C5240銅合金可大量用于生產(chǎn)此類要求的彈性接插件,而目前國內(nèi)該類產(chǎn)品主要依靠進口[10]。本文通過摸索配料和鑄造工藝,制備高強高彈C5240鑄坯,并進一步通過金相組織觀察和能譜分析研究電磁攪拌對C5240合金及Sn元素分布的影響規(guī)律。

2 試驗部分

2.1 原材料

采用0#電解銅板、純錫錠、15%的磷銅中間合金,通過精密定量儀器,控制Sn和磷銅中間合金的添加量,最終獲得的C5240錫磷青銅其Sn含量為9%,P含量為0.16%,其余含量為Cu。

2.2 熔煉工藝

熔化爐選用耐燒不易破碎的硬質(zhì)雜木炭為覆蓋劑,經(jīng)過充分煅燒后再投爐覆蓋,熔化爐木炭覆蓋厚度控制在150mm;流槽和保溫爐也選用木炭進行覆蓋,木炭的含炭量不得低于99.95%,覆蓋前放置在爐旁烘烤2h,石墨鱗片覆蓋層的厚度控制在200 mm。熔煉溫度控制在1250~1280℃。

2.3 鑄造工藝

采用合理的生產(chǎn)工藝,鑄造出內(nèi)部品質(zhì)和表面質(zhì)量俱佳的帶坯,是生產(chǎn)高性能彈性接插件的重要前提條件。本文經(jīng)過三種不同拉鑄工藝對比實驗如表1,確定了最佳的拉鑄工藝。同時,為了降低偏析程度和細化晶粒,并加入了電磁攪拌,電磁攪拌的功率為30W,電壓為40V。采用優(yōu)化后的工藝3制備了C5240合金16mm帶坯,其表面質(zhì)量良好,幾乎無裂紋(圖1)。

表1 不同拉鑄工藝參數(shù)對比

圖1 C5240合金16mm鑄坯

2.4 軋制工藝

采用粗軋與精軋,將16mm鑄坯軋制到0.5mm帶材。粗軋采用國產(chǎn)4輥可逆軋機,往復(fù)經(jīng)過10個道次從16mm軋制到5mm,累計變形量達到68.75%;精軋采用國產(chǎn)6輥可逆軋機,往復(fù)經(jīng)過9個道次從5mm軋制到0.5mm,累計變形量達到90%。為了提高帶材的可加工性能,在粗軋與精軋之間采用了中間退火工藝,中間退火主要采用氣墊爐。

3 結(jié)果與討論

3.1 電磁攪拌對鑄造組織及Sn元素分布的影響

對鑄坯的橫截面進行低倍金相組織觀察,所得結(jié)果如圖2所示。可見,未電磁攪拌和電磁攪拌的C5240鑄坯的橫截面都呈現(xiàn)典型的柱狀晶區(qū),但是,加入電磁鑄造的鑄坯其柱狀晶得到明顯的細化。

圖2 低倍鑄態(tài)金相組織

對根據(jù)Cu-Sn二元合金相圖[11]可知,含Sn大約為10%的無P錫青銅的凝固溫度范圍為270℃,而加入了0.15%的P之后,凝固溫度范圍擴大至390℃,故會產(chǎn)生強烈的偏析現(xiàn)象,為此,項目組首先采用直讀光譜儀對比分析了電磁攪拌對Sn元素偏析的影響,其結(jié)果如圖3所示。deepth=0意味著鑄坯上表面,deepth增加指的是沿著鑄坯的厚度方向增加深度。結(jié)果發(fā)現(xiàn),未電磁攪拌和電磁攪拌的鑄坯沿著厚度方向Sn元素含量沒有明顯的變化。為了驗證該結(jié)果,項目組利用江銅研究院的能譜儀進一步深入分析了Sn元素的分布,結(jié)果如圖4所示。結(jié)果表明,經(jīng)過電磁攪拌的鑄坯沿著厚度方向Sn含量分布較均勻,而未加入電磁攪拌的樣品,其Sn元素分布不均勻,發(fā)生明顯的偏析現(xiàn)象。值得注意的是,能譜儀分析能夠更加準確的分析合金中Sn元素含量的分布。

圖3 電磁攪拌對反偏析的影響(直讀光譜儀),wt.%,注:deepth=0意味著鑄坯上表面,deepth增加指的是沿著鑄坯的厚度方向增加

圖4 電磁攪拌對反偏析的影響(能譜結(jié)果),wt.%,(a)未電磁攪拌和(b)電磁攪拌,注:deepth=0意味著鑄坯上表面,deepth增加指的是沿著鑄坯的厚度方向增加

3.2 粗軋后的組織與力學(xué)性能

對粗軋至5mm厚的帶材沿著軋制方向取樣,對試樣進行了取樣分析,其結(jié)果如圖5所示,可見,粗大的均勻化組織經(jīng)過了大加工率粗軋以后,晶粒沿著軋制方向拉長,有大量的位錯和空位等缺陷。

圖5 粗軋到5mm的C5240帶材金相組織

對粗軋至5mm厚的帶材沿著軋制方向取樣,做了拉伸實驗,也測試了相應(yīng)的導(dǎo)電性和硬度,其結(jié)果如圖6和表2所示,可見,進行過加工率68.75%的粗軋的C5240帶材的屈服強度和抗拉強度達到了746和892MPa,保持了比較高的斷裂延伸率,導(dǎo)電性也達到了10.97% IACS。

表2 粗軋至2.5mm厚硬態(tài)C5240帶材的相關(guān)性能

圖6 粗軋至5mm厚硬態(tài)C5240帶材拉伸工程應(yīng)力應(yīng)變

3.3 中間退火后力學(xué)性能

為了提高可加工性能有助于下一步精軋,需要對5mm厚的C5240帶材進行一定溫度和時間的中間退火,本文選擇了550℃+5h的中間退火工藝。對粗軋至5mm厚的550℃+5h退火態(tài)的帶材沿著軋制方向取樣,做了拉伸實驗,也測試了相應(yīng)的導(dǎo)電性和硬度,其結(jié)果如圖7和表3所示,可見,進行550℃+5h退火的C5240帶材的屈服強度和抗拉強度分別降低至191和388MPa,斷裂延伸率大大提高至38.9%,導(dǎo)電性也達到了10.2% IACS。

圖7 粗軋至5mm厚550℃+5h退火的C5240帶材拉伸工程應(yīng)力應(yīng)變

表3 粗軋至5mm厚500℃+6h退火的C5240帶材的相關(guān)性能

3.4 精軋過程中的組織演變與力學(xué)性能

對中軋過程不同道次的金相組織進行觀察,觀察的面是沿著軋制方向的側(cè)面,其結(jié)果如圖8和圖9所示,從圖中可見,隨著軋制變形量的增加(厚度的降低),晶粒越來越細化,越來越纖維化,而且所有道次的晶粒都比較小,切有一定量的孿晶。

圖8 中軋過程中C5240帶材金相組織:(a)軋至1.9mm,(b)軋至1.4mm,(c)軋至1.08mm厚,(d)軋至0.95mm,(e)軋至0.85mm和(f)軋至0.8mm

圖9 中軋過程中C5240帶材SEM組織:(a)軋至1.9mm,(b)軋至1.4mm,(c)軋至1.08mm厚,(d)軋至0.95mm,(e)軋至0.85mm和(f)軋至0.8mm

對中軋從5mm至0.5mm過程中部分道次的帶材沿著軋制方向取樣,測試了相應(yīng)的導(dǎo)電性和硬度,其結(jié)果如圖10所示,可見,隨著中軋過程中帶材厚度的減薄(加工率的增加),帶坯的硬度增加,而導(dǎo)電率緩慢降低,中軋過程中各個道次的帶材導(dǎo)電率也在10% IACS以上。可知,軋制過程中的電導(dǎo)率隨著位錯密度的增加,并沒有顯著降低,換句話說,位錯對電導(dǎo)率 的降低作用沒有固溶原子大。

圖10 從5mm軋制到0.5mm過程C5240帶材部分道次的(a)硬度和(b)電導(dǎo)率隨帶材厚度的變化

4 結(jié)論

(1)對16mm的 C5240鑄坯進行電磁攪拌后,鑄坯沿著厚度方向Sn含量分布較均勻,而未加入電磁攪拌的樣品,其Sn元素分布不均勻,發(fā)生明顯的偏析現(xiàn)象。

(2)對5mm的C5240帶材進行550℃+5h的中間退火,其屈服強度和抗拉強度分別降低至191和388MPa,斷裂延伸率大大提高至38.9%,導(dǎo)電性達到10.2% IACS。

(3)從5mm軋制至0.5mm過程中,電導(dǎo)率隨著位錯密度的增加并沒有顯著降低,因此,位錯對電導(dǎo)率的降低作用沒有固溶原子大。

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