吳興勝,郭 恬,石連水
(南昌大學附屬口腔醫院口腔科 江西 南昌 330000)
上頜竇位于上頜骨內,剛出生時,它是一狹長裂隙,隨著顱面部的發育和恒牙列的萌出向鄰近的解剖結構進行延伸,這一生理過程被稱之為上頜竇氣化[1]。有研究表明上頜竇向牙槽突的延伸最為常見[2],因此這里以上頜竇底部為觀察界面評估上頜竇氣化程度。當上頜竇向牙槽突過度延伸——竇底與牙根直接接觸或者牙根突入竇腔之內時,口腔臨床診療將變得更加棘手。上頜竇口是竇腔與鼻腔進行直接溝通交流的結構區域,而上頜竇副口是一解剖變異,位于鉤突和下甲骨之間。竇口直徑的差異、上頜竇副口的存在是否對上頜竇的氣化產生一定影響是本文需探討的問題。現報道如下。
隨機選取100例于2020年1月—6月在南昌大學附屬口腔醫院并拍攝CBCT影像者為研究對象。納入標準:(1)年齡≥18歲;(2)無頭顱及鼻竇外傷史;無鼻腔鼻竇手術史;(3)上頜竇內無明顯炎性病變、腫瘤;(5)雙側第二前磨牙、第一磨牙、第二磨牙無缺失,牙周情況良好;(6)CBCT影像學圖像清晰、雙側上頜竇竇口可視化。
掃描設備和參數:KaVo 3D eXam CBCT,管電壓120 kV,管電流5 mA,持續時間14.7 s,直徑16 cm,高度13 cm,分辨率(體素)0.25 mm。影像資料采用錐形束CT適配的PacsView 7.0軟件圖重建。
參考Pei等[3]提出的上頜竇底與上頜后牙的位置關系分型,將上頜竇氣化程度分為:Ⅰ型正常氣化——上頜后牙根尖與竇底有一定的距離(竇底位于根尖的根方,圖2a);Ⅱ型過度氣化——上頜后牙根尖與竇底緊密接觸(圖2b),根尖位于竇底的內外側或突入竇腔內(竇底位于根尖的冠方,圖2c)。將腭平面與眶耳平面平行,CBCT掃描位置為:上頜第二前磨牙、第一磨牙、第二磨牙中心區域,冠狀位確定上頜竇底最深的位置,以其對應的上頜后牙計之。

圖1 上頜竇各氣化分型示意圖
上頜竇口大小:冠狀位定位上頜竇口的位置并測量其最大直徑,記錄為上頜竇口的大小(圖2a)。
上頜竇副口:冠狀位觀察是否存在上頜竇副口,以有和無分類(圖2b)。

圖2 觀察的解剖學結構
利用SPSS 23.0統計軟件對實驗數據進行分析,計量資料以(±s),采用t檢驗、計數資料以(%)表示,采用χ2檢驗,P<0.05表示差異具有統計學意義。
在本文中,對53名男性和47名女性的194個上頜竇進行了評估,這群受試者的平均年齡為(32.33±12.00)歲。上頜竇過度氣化109側,上頜竇正常氣化85側。統計上頜竇副口變量時納入了194側上頜竇進行分析;5例上頜竇口阻塞,因此測量了189側上頜竇的竇口直徑。上頜竇過度氣化組的上頜竇副口發生率為19.27%(21),而正常氣化組中存在的概率為2.35%(2),差異在統計上具有顯著性(P<0.05)。在過度氣化組中竇口直徑為(1.95±0.52)mm,正常氣化組中此值為(1.90±0.46)mm,兩組比較,差異無統計學意義(P=0.46,>0.05)。
上頜竇氣化是成骨和破骨雙向的生理過程,目前對上頜竇氣化的原因尚不清楚。
在以往的研究中,Kalavagunta等[4]根據上頜竇大小相對于眼眶水平/垂直直徑的關系將上頜竇氣化進行分類,但這種分類與牙根、根尖位置無關;本文中,我們將上頜竇氣化和竇底與牙齒的位置關系聯系起來,對上頜竇氣化程度提出了一個新分類,便于臨床醫生的溝通與交流。
上頜竇口在竇腔通氣引流中發揮重要作用,可以將竇腔內的分泌物經篩漏斗、半月裂引流至中鼻道,維持上頜竇內環境的穩態[5]。本文中發現上頜竇口直徑在過度氣化組和正常氣化兩組的差異無統計學意義(P<0.05),Zang等[6]對上頜竇與鼻腔之間氣流場數值模擬表明,竇腔內和竇口-鼻腔間氣體以自由擴散方式為主,速度近乎為0 m/s,間接證實上述研究的結果的可靠性。由此可以說明竇口的大小并不能通過影響上頜竇內的通氣效率從而對上頜竇氣化程度起到一定作用。
上頜竇副口起源于上頜竇內側壁的膜區,位于鉤突和下甲骨之間,僅被粘骨膜覆蓋。這種解剖變異是先天性的還是在急性上頜竇炎后產生的在文獻報道中仍然存在爭議,但它的存在會增加竇腔氣流,改變上頜竇的解剖和功能[7],在我們的研究中,過度氣化組上頜竇副口的患病率較高(P<0.05),這提示其解剖變異可能干擾了竇腔內正常的通氣引流,引發IL-6、TNF-α、C反應蛋白等多種炎性因子的釋放[8]。誘導破骨細胞產生和破骨細胞活化,可直接加強破骨細胞活性,打破了成骨和破骨的相對平衡狀態,促進上頜竇的過度氣化。
存在上頜竇副口的患者更易發生上頜竇氣化。推測上頜竇副口可能干擾了上頜竇內的通氣引流,對上頜竇氣化產生影響。