Pt 摻雜Ni/NiAlOx 催化菲加氫飽和反應性能研究

劉道誠 ，荊潔穎 ，王九占 ，馮 杰 ，李文英

（太原理工大學 省部共建煤基能源清潔高效利用國家重點實驗室，山西 太原 030024）

煤焦油中稠環芳烴含量豐富，將這部分芳烴加氫飽和轉化為環烷烴，可顯著提升其燃燒性能，用于制備高性能噴氣燃料[1?5]，這既有利于環境保護又能促進煤焦油的高質化利用[5,6]。然而，隨著稠環芳烴中不飽和環數量的增加，實現其深度加氫飽和變得越發困難[7]。菲作為典型的稠環芳烴化合物，具有三個不飽和環，在本研究中被選為模型化合物。動力學研究表明，受空間位阻以及各產物間競爭吸附的影響，對稱八氫菲（s-OHP）轉化為全氫菲（PHP）的過程是菲加氫飽和反應的速控步驟[7]。因此，高效加氫飽和催化劑的開發與制備成為了解決該問題的關鍵。

Qian 等[8]研究發現，在高負載量的貴金屬催化劑（2.0%Pt 和5.4%Pd）上，全氫菲選擇性可超過80%。而在硫化物催化劑上，全氫菲較難獲得。近年來，學者對硫化物催化劑的孔道結構[9]、活性相堆砌層數[10,11]、金屬助劑的添加[12]等方面進行了深入研究，但該催化劑在菲加氫體系中仍顯得活性不足。而金屬Ni 與Pt、Pd 同主族，具有相似的電子結構和性質，在加氫反應方面有良好的應用前景。然而研究表明，稠環芳烴在Ni(111)面上的吸附能壘高于Pt(111)面[13]。通過分析芳烴在金屬表面的吸附過程，形成金屬Ni 的缺電子結構有利于芳烴中的π 電子向金屬d軌道的轉移，形成σ 鍵[14]。課題組前期通過引入鎳鋁尖晶石結構，成功制備得到了具有金屬Ni 缺電子結構的Ni/NiAlOx催化劑[15]，然而反應過程中金屬Ni 的缺電子程度逐漸增加，不利于π 反饋鍵的形成，使得反應8 h 后全氫菲選擇性由98%降低至40%。

為此，考慮到PtNi 合金中晶格畸變對金屬電子結構的修飾作用[16?18]，本研究利用Pt-Ni 雙金屬間的相互作用，提高Ni/NiAlOx催化劑在菲加氫反應過程中金屬Ni 缺電子結構的穩定性。通過制備不同Pt 摻雜量的Pt-Ni/NiAlOx催化劑，考察了Pt 摻雜量對催化劑結構及菲加氫飽和性能的影響。

1 實驗部分

1.1 Pt-Ni/NiAlOx 催化劑的制備

Pt-Ni/NiAlOx催化劑在Ni/NiAlOx催化劑的基礎上采用浸漬法制得。Ni/NiAlOx催化劑采用溶膠凝膠法制備，過程如下：稱取計算量的Ni(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O 與檸檬酸溶解于去離子水中，其中，Ni/Al 物質的量比為1.45∶2，檸檬酸、金屬離子與水的物質的量比為1∶1∶40。室溫下密閉攪拌3 h后，于80 ℃恒溫攪拌8 h 緩慢蒸干溶劑，得到凝膠。靜置1 h 后在烘箱中分步干燥，于100 和120 ℃分別干燥12 h，得到干凝膠。然后將得到的干凝膠研磨粉碎后在馬弗爐中程序升溫焙燒，1 ℃/min升溫至650 ℃焙燒2 h，得到焙燒后的Ni/NiAlOx催化劑。在此基礎上，采用等體積浸漬法制備Pt-Ni/NiAlOx催化劑。取1 g 焙燒后Ni/NiAlOx催化劑，選用H2PtCl6·6H2O 水溶液為Pt 鹽，調控Pt 負載量分別為0.25%、0.5%、0.75%，在空氣氣氛下120 ℃干燥12 h，400 ℃焙燒2 h，得到系列焙燒后Pt-Ni/NiAlOx催化劑。根據Pt 負載量的不同分別命名為0.25Pt-Ni/NiAlOx、0.5Pt-Ni/NiAlOx以及0.75Pt-Ni/NiAlOx催化劑。將焙燒后Ni/NiAlOx、Pt-Ni/NiAlOx催化劑在H2氣氛下還原后得到相應的活性催化劑。此外，采用溶膠凝膠法制備得到NiO 和Al2O3，按相同的Ni/Al 物質的量比機械混合后得到NiO + Al2O3-mixed 催化劑作為參比。采用等體積浸漬法制備0.5%Pt/Al2O3催化劑作為對比。

1.2 Pt-Ni/NiAlOx 催化劑的表征

催化劑的晶相結構采用X 射線衍射儀（Rigaku D/Max-3B 型）進行分析。使用Cu 靶為輻射源，管電壓及管電流分別為40 kV 和40 mA。10°?90°掃描，掃描速率4 (°)/min。對選定的晶面采用謝勒公式計算粒徑：DL=Kλ/(βcosθ)，其中，K為Scherrer 常數（0.89），λ= 0.15406 nm，β為衍射峰的半峰寬（rad），θ為衍射角（°）。

催化劑的比表面積和孔結構采用物理吸附儀（Quantachrome iQ Autosorb-1）進行分析。樣品測試前在180 ℃真空狀態下預處理5 h。選用BET方法計算樣品的總比表面積，t-plot 方法計算樣品的微孔和介孔比表面積。

催化劑的還原性能在化學吸附儀（Micromeritics Autochem II 2920）采用氫氣程序升溫還原進行分析。取100 mg 樣品在Ar 氣氛下進行熱預處理（溫度300 ℃，恒溫2 h）。冷卻至室溫后切換10%H2/Ar（25 mL/min），以10 ℃/min 升溫至900 ℃，記錄熱導檢測器（TCD）信號值。

催化劑的形貌及金屬Ni 顆粒的粒徑分布是在透射電子顯微鏡（FEITecnai G2 F30）上測試得到的。加速電壓為200 kV。

金屬的分散度采用CO 脈沖吸附在化學吸附儀（Micromeritics AutoChem II 2920）上測得。取20 mg催化劑，通入純H2原位還原（H2流量50 mL/min，520 ℃恒溫5 h）。降溫至40 ℃，脈沖5% CO/He 混合氣40 次保證吸附飽和（定量環100 μL）。

催化劑表面金屬元素的電子性質通過X 射線光電子能譜（島津Kratos Analytical AXIS Supra）獲得。以Al 靶為X 射線源，步長0.025 eV。所測元素的結合能使用污染碳的標準結合能284.8 eV 進行校正。

1.3 催化劑的活性評價

催化劑的活性評價在固定床反應器上進行（反應器內徑10 mm，長度500 mm）。稱取0.1 g 催化劑（粒徑0.18?0.25 mm）用石英砂稀釋至2 mL，床層上下另裝填2 mL 的石英砂。加氫反應前，催化劑于固定床上原位還原，還原條件為：H2流量50 mL/min，還原溫度520 ℃，恒溫5 h。菲加氫反應條件：溫度300 ℃，氫壓5.0 MPa，1%菲/十氫萘以6 mL/h 速率進料，氫氣流量60 mL/min，氫油比600，重時空速（WHSV）52 h?1。通過調節質量流率和顆粒粒徑排除內外擴散的影響。

產物組成采用GC-2010 型氣相色譜（日本島津）進行分析。檢測器為氫火焰離子檢測器（FID）。以正十四烷為內標物，采用內標標準曲線法對產物進行定量分析。采用GC-MS 對產物進行定性分析。在每次菲加氫反應中，反應時間為8 h；間隔1 h 取得加氫產物與內標物混合后進行分析，每次實驗重復三次，每次反應計算結果相對偏差在5%以內，則認為實驗數據可靠，取三次數據平均值。

為探究和比較催化劑的本征活性，在溫度300 ℃，壓力5.0 MPa 的反應條件下，通過改變重時空速（WHSV）將菲或者對稱八氫菲的加氫轉化率降低至20%以下，以計算表觀反應速率（robs）和轉化頻率（TOF）。其中，表觀反應速率（robs）的計算公式如下：

2 結果與討論

2.1 不同Pt 負載量的催化劑結構表征

2.1.1 晶相結構

通過XRD 對催化劑的晶相結構進行表征，以考察Pt 摻雜對Ni/NiAlOx催化劑組成結構及變化的影響，結果如圖1 所示。在圖1（a）中，焙燒后Ni/NiAlOx催化劑37.0°、43.7°和63.7°處的衍射峰分別對應NiAl2O4(311)、(330)和(440)（PDF#78-1601）。而31.4°處未觀察到衍射峰，該處衍射峰對應NiAl2O4(220)，歸屬于四面體位點的Ni2+的衍射。研究表明，(220)與(400)衍射峰強度比（I220/I440）可體現Ni2+在四面體位點和八面體位點分布比例[19]。而Ni/NiAlOx催化劑上I220/I440較小，表明焙燒后Ni2+主要占據鎳鋁尖晶石八面體位點。浸漬Pt 焙燒后，系列Pt-Ni/NiAlOx催化劑焙燒后的XRD 衍射峰與Ni/NiAlOx催化劑相似，表明焙燒后Pt-Ni/NiAlOx催化劑中Ni2+分布仍以八面體位點為主。這主要歸因于Pt-Ni/NiAlOx催化劑的焙燒溫度（400 ℃）低于Ni/NiAlOx催化劑的焙燒溫度（650 ℃）。此外，系列Pt-Ni/NiAlOx催化劑未觀察到PtO 的衍射峰，這可能是因為PtO 含量較小且分散度較高。

圖1 不同Pt 負載量的催化劑（a）焙燒后與（b）還原后XRD 譜圖Figure 1 XRD patterns of catalysts after calcination (a) and reduction (b) with different Pt loadings

還原后催化劑的XRD 譜圖如圖1（b）所示，對比Ni（PDF#65-2865）標準卡片，在51.8 °和76.4 °處觀察到明顯的衍射峰，分別對應Ni(200)和(220)，而44.5°處Ni(111)的衍射峰和NiAl2O4(220)衍射峰重合，增加了該處衍射峰強度。然而還原后的催化劑XRD 譜圖中并沒有觀察到Pt 的衍射，可能歸因于Pt 含量較小且分散度較高。選取Ni(200)，采用謝勒公式計算催化劑中Ni 粒徑，系列催化劑粒徑相似為3.4?4.1 nm。

2.1.2 孔道結構

為了考察Pt 的摻雜對催化劑孔道結構的影響，對Pt/Ni-NiAlOx催化劑進行N2吸附-脫附等溫表征，結果如表1 所示。還原后系列Pt-Ni/NiAlOx催化劑的比表面積在162?178 m2/g，且為介孔比表面積，與Ni/NiAlOx催化劑相比，比表面積差值 < 9%。此外，浸漬Pt 后催化劑的平均孔徑在4.4?5.2 nm，可知Pt 摻雜未顯著改變催化劑的介孔孔道結構，這為大分子的菲進行加氫反應提供了有利環境。

表1 不同Pt 負載量Pt-Ni/NiAlOx 催化劑的比表面積和平均孔徑Table 1 Surface area and average pore size of Pt-Ni/NiAlOx catalysts with different Pt loadings

2.1.3 還原性能

采用H2程序升溫還原（H2-TPR）對系列Pt-Ni/NiAlOx和Ni/NiAlOx催化劑的還原性能進行表征，考察Pt 的摻雜對催化劑還原性能的影響，結果如圖2 所示。在Ni/NiAlOx催化劑中，653 ℃的還原峰對稱性較好，結合XRD 的定性分析，這主要歸屬于鎳鋁尖晶石八面體位點Ni2+的還原。相比之下，Pt 的摻雜使得還原峰向低溫段移動，在400 ℃左右出現還原峰，且隨著Pt 的負載量從0.25%增加至0.75%，300?500 ℃的還原峰面積逐漸增加。由于Pt 的負載量遠低于Ni 含量，低溫處的還原峰仍主要歸屬于Ni2+的還原。表明，Pt 的摻雜促進了Ni 的還原[20]。該促進效果可歸因于金屬Pt 先還原出來并產生溢流氫，促進了鎳鋁尖晶石表面Ni2+的還原，使得在300?500 ℃出現了Ni2+的還原峰。而峰頂溫度640 ℃處的還原峰仍歸屬于鎳鋁尖晶石體相中八面體位點Ni2+的還原。

圖2 不同Pt 負載量的Pt-Ni/NiAlOx 催化劑H2-TPR 譜圖Figure 2 H2-TPR profiles of Pt-Ni/NiAlOx catalysts with different Pt loadings

2.1.4 金屬Ni 電子結構

對芳烴吸附機理的分析表明，催化劑中活性金屬Ni 的電子結構對加氫活性的影響至關重要，金屬Ni 適宜的缺電子結構能提升其加氫活性[14]。為探究催化劑中活性金屬的電子狀態，對還原后的催化劑進行XPS 表征（結果如圖3 所示）。圖中，結合能852.5、856 和862 eV 處的譜峰分別歸屬于Ni02p3/2-Ni2+2p3/2以及Ni2+的衛星峰[21]。實驗測得機械混合的NiO + Al2O3催化劑還原后金屬Ni02p3/2結合能為852.32 eV。Ni/NiAlOx催化劑中Ni02p3/2的結合能對比機械混合的NiO + Al2O3催化劑增加了0.16 eV，表明其中金屬Ni 處于缺電子狀態，這主要歸因于金屬載體間強相互作用促進了電子轉移[22]。而摻雜Pt 后0.25Pt-Ni/NiAlOx、0.5Pt-Ni/NiAlOx、0.75Pt-Ni/NiAlOx中金屬Ni 的結合能只略有增加，未發生明顯變化，這表明Pt 的摻雜對還原后金屬Ni 的缺電子結構無顯著影響。該缺電子結構有利于芳烴與金屬間σ 鍵的形成，促進芳烴分子的吸附活化。

圖3 不同Pt 負載量的Pt-Ni/NiAlOx 催化劑Ni 2p 軌道XPS 譜圖Figure 3 XPS profiles in the Ni 2p region of the Pt-Ni/NiAlOx catalysts with different Pt loadings

2.2 菲加氫性能

當反應溫度300 ℃，氫壓5.0 MPa，原料1%菲/十氫萘，氫油比600，重時空速（WHSV）52 h?1時，菲加氫性能評價結果如圖4 所示。圖中系列催化劑的菲轉化率皆大于96%，而摻雜0.5% Pt 的0.5Pt-Ni/NiAlOx催化劑較Ni/NiAlOx催化劑有明顯的活性提升效果，菲加氫反應8 h 后全氫菲選擇性為67%，高于Ni/NiAlOx催化劑上的40%，副產物主要為對稱八氫菲，且沒有觀測到開環裂化產物的生成，碳平衡大于95%。當摻雜0.25%的Pt 時，催化劑的加氫活性未得到提升，反應2 h 后迅速下降。當摻雜0.75%的Pt 時，0.75Pt-Ni/NiAlOx催化劑反應前5 h 內加氫活性高于Ni/NiAlOx催化劑，之后下降較快，8 h 后全氫菲選擇性為25%。以上結果表明，適量Pt 的摻雜能夠提高加氫活性，0.5%為最佳負載量。系列Pt-Ni/NiAlOx催化劑XRD（圖1）和H2-TPR（圖2）表征結果表明，Pt 的摻雜并未顯著改變Ni2+的賦存形態，催化劑中的活性金屬Ni 仍由鎳鋁尖晶石八面體位點的Ni2+還原而來。系列Pt-Ni/NiAlOx催化劑XPS（圖3）結果表明，金屬載體強相互作用促進電子轉移，形成具有缺電子狀態的Ni。各Pt-Ni/NiAlOx催化劑中Ni02p3/2結合能偏移程度與Ni/NiAlOx催化劑接近，缺電子程度接近。依據芳烴分子在金屬表面的π 絡合吸附機理，適宜的缺電子結構促進了芳烴在金屬Ni 表面的吸附，使得系列Pt 摻雜后的Pt-Ni/NiAlOx催化劑仍具有高初始活性。而實驗測得機械混合的NiO + Al2O3-mixed 催化劑還原后在相同反應條件（溫度300 ℃、氫壓5 MPa、重時空速52 h?1）下，菲轉化率較低（?15%）且加氫產物中沒有全氫菲生成，這主要歸因于該催化劑不具有金屬Ni 適宜的缺電子結構（圖3）。

圖4 不同Pt 負載量Pt-Ni/NiAlOx 催化劑的活性Figure 4 Selectivity of perhydrophenanthrene over Pt-Ni/NiAlOx catalysts with different Pt loadings

2.3 反應前后催化劑的結構變化

從上述結果可知，0.5Pt-Ni/NiAlOx催化劑的穩定性較其他催化劑有明顯提升，為進一步探究其原因，對反應后各催化劑的晶相結構、電子結構及金屬Ni 顆粒形貌進行表征分析。首先采用XRD對反應后各催化劑晶相結構進行分析，結果如圖5所示。圖中反應后0.25Pt-Ni/NiAlOx、0.5Pt-Ni/NiAlOx和0.75Pt-Ni/NiAlOx催化劑中出現了鎳鋁尖晶石載體和金屬Ni 的衍射峰，與反應前催化劑XRD 結果（圖1（b））相似，沒有其他物質的衍射峰出現。這表明在反應過程中，催化劑的晶相結構未發生明顯改變，且沒有其他相生成。選取Ni(200)，利用謝勒公式計算粒徑可知，反應后催化劑的粒徑與反應前相似，在3.2?3.9 nm。表明反應過程中未發生明顯的顆粒團聚現象。

圖5 不同Pt 負載量催化劑反應后的XRD 譜圖Figure 5 XRD patterns of catalysts after reaction with different Pt loadings

眾所周知，金屬Ni 電子結構細微的變化會極大地影響其加氫活性。Lee 等研究認為，金屬Ni 過高的缺電子程度不利于π 反饋鍵的形成[23]。為了對金屬Ni 的電子結構變化進行研究，對反應后的催化劑進行XPS 表征。其中，Ni 2p的擬合結果如圖6 所示。

圖6 不同負載量Pt-Ni/NiAlOx 催化劑菲加氫反應后的Ni 2p 軌道XPS 譜圖Figure 6 XPS spectra in the Ni 2p region of the Pt-Ni/NiAlOx catalysts with different Pt loadings after PHE hydrogenation

對比圖3 中反應前系列Pt-Ni/NiAlOx催化劑的Ni02p3/2的結合能，反應后0.25Pt-Ni/NiAlOx和0.75Pt-Ni/NiAlOx催化劑的Ni02p3/2的結合能都有不同程度的增加。其中，0.25Pt-Ni/NiAlOx催化劑的Ni02p3/2的結合能由852.49 eV 增加至852.73 eV，增幅0.24 eV，對應菲加氫反應8 h 后全氫菲選擇性接近0。而0.5Pt-Ni/NiAlOx催化劑Ni02p3/2結合能（852.52?852.55 eV）增幅較小，表明其中金屬Ni 缺電子程度未顯著增加，使得該催化劑菲加氫反應8 h 后仍具有高全氫菲選擇性。該結果表明，金屬Ni 適宜的缺電子程度能促進加氫反應的進行，以更好地實現分子軌道與原子軌道能級的匹配。而0.5%的Pt 負載量能較好地穩定反應過程中金屬Ni 的電子結構。這可能歸因于催化劑表面形成NiPt 合金，又由于Pt（0.139 nm）、Ni（0.125 nm）原子尺寸不同，使得合金中發生晶格畸變并產生內應力，能夠修飾表面金屬的電子結構，在反應過程中提高金屬Ni 電子結構的穩定性[16?18]。

采用TEM 對反應前后催化劑形貌進行表征，結果如圖7 所示。圖7（a）、（b）、（c）中可以看出，還原后系列Pt-Ni/NiAlOx催化劑上金屬Ni 顆粒分散均勻，這主要歸因于焙燒后催化劑中鎳鋁尖晶石結構促進了金屬Ni 的分散[24]。在系列Pt 摻雜的催化劑中可以觀察到晶格間距為0.204、0.176、0.195 nm 的晶格條紋，分別對應于Ni(111)、Ni(200)以及Pt(200)面。以0.5Pt-Ni/NiAlOx催化劑為例，對反應后催化劑的形貌進行TEM 表征。從圖7（d）可知，反應后的催化劑中金屬Ni 顆粒仍分散均勻。通過反應前后催化劑粒徑分布對比可知，金屬Ni 顆粒在反應過程中未發生明顯的顆粒團聚現象，與XRD 結果相一致。這表明，鎳鋁尖晶石結構的引入增強了金屬載體間相互作用，抑制了金屬Ni 顆粒在反應過程中的團聚。進一步說明反應過程中催化劑活性下降的主要原因并非金屬Ni 顆粒團聚，而在于缺電子程度的增加，不利于金屬與芳烴不飽和碳之間的π 電子反饋鍵的形成[15,25]。維持金屬Ni 缺電子結構的穩定有利于提高催化劑的穩定性。

圖7 （a）還原后0.25Pt-Ni/NiAlOx、（b）還原后0.5Pt-Ni/NiAlOx、（c）還原后0.75Pt-Ni/NiAlOx 催化劑以及（d）反應后0.5Pt-Ni/NiAlOx 催化劑TEM 照片Figure 7 TEM images of (a) fresh 0.25Pt-Ni/NiAlOx, (b) fresh 0.5Pt-Ni/NiAlOx, (c) fresh 0.75Pt-Ni/NiAlOx catalysts and(d) spent 0.5Pt-Ni/NiAlOx catalysts

2.4 催化劑本征活性

通過改變質量流率和顆粒粒徑消除內外擴散的影響，并調節重時空速（WHSV）將菲轉化率降至20%以下，對催化劑的本征加氫活性進行評價。表2 給出了0.25Pt-Ni/NiAlOx、0.5Pt-Ni/NiAlOx和0.75Pt-Ni/NiAlOx催化劑上菲加氫反應速率。對比發現，系列Pt-Ni/NiAlOx催化劑中，0.5Pt-Ni/NiAlOx催化劑的表觀反應速率（robs）和轉化頻率（TOF）值最高，分別為1.81 × 10?3mol·kg?1·s?1和22.16 × 10?3s?1。此外催化劑表觀反應速率（robs）排序為0.5Pt-Ni/NiAlOx> 0.75Pt-Ni/NiAlOx> 0.25Pt-Ni/NiAlOx。在重時空速（WHSV）為720 h?1時，0.5Pt-Ni/NiAlOx催化劑上菲加氫轉化率最高，與菲加氫活性評價結果相一致。然而各催化劑上CO 脈沖測得的分散度各不相同，分散度隨Pt 負載量增加而增加，這主要歸因于CO 吸附量隨Pt 負載量的增加而增加，但實際上各催化劑中金屬Ni 粒徑相差并不大。由于Pt 本身具有加氫活性，為排除Pt 的影響，實驗測得0.5%的Pt/Al2O3上菲加氫表觀反應速率（robs）和轉化頻率（TOF）分別為0.05 × 10?3mol·kg?1·s?1和0.58 × 10?3s?1。Ni/NiAlOx催化劑的菲加氫表觀反應速率（robs）和轉化頻率（TOF）分別為1.53 ×10?3mol·kg?1·s?1和14.64 × 10?3s?1。而0.5Pt-Ni/NiAlOx催化劑的robs（1.81 × 10?3mol·kg?1·s?1）和TOF 值（22.16 ×10?3s?1）高于0.5%Pt/Al2O3和Ni/NiAlOx催化劑兩者之和。且與文獻中報道的催化劑相比，處于較高水平（表2）。可知，摻雜0.5%的Pt 時，Pt-Ni 雙金屬間相互作用能夠進一步提升了催化劑的加氫飽和性能。該作用可能主要歸因于PtNi 合金對表面活性金屬電子結構的優化[16?18]，有利于芳烴與金屬間σ 鍵和π 反饋鍵的形成，促進了芳烴的吸附，提高了加氫活性。

3 結 論

通過負載微量的金屬Pt，利用雙金屬間相互作用可提高Ni/NiAlOx催化劑的加氫活性。結果表明，金屬Pt 的摻雜并沒有改變Ni/NiAlOx催化劑中Ni2+的賦存形態，焙燒后催化劑中Ni2+仍占據鎳鋁尖晶石八面體位點，該結構促進了鎳物種的分散并保留了金屬載體間強相互作用，使得還原后催化劑中粒徑較小（3?6 nm 為主），同時避免了反應過程中Ni 顆粒的團聚。金屬Pt 的摻雜能夠促進金屬Ni 的還原，隨著Pt 負載量的增加，H2-TPR中300?500 ℃處Ni 還原峰面積逐漸增加。其中，0.5%為Pt 的最佳負載量。在反應溫度300 ℃，氫壓5 MPa，重時空速52 h?1時，菲加氫反應8 h 后，0.5Pt-Ni/NiAlOx催化劑上全氫菲選擇性最高（67%），接近初始活性的69%。XPS 分析表明，0.5%Pt 的摻雜提升了金屬Ni 缺電子結構的穩定性，減緩了金屬Ni 缺電子程度的增加。此外，0.5Pt-Ni/NiAlOx催化劑的robs和TOF 值分別為1.81 × 10?3mol·kg?1·s?1和22.16 × 10?3s?1，高于0.5%Pt/Al2O3和Ni/NiAlOx催化劑兩者之和，這同樣歸因于Pt-Ni 雙金屬間相互作用對金屬Ni 電子結構的優化作用。