研發(fā)資本投入對技術進步影響機制研究

□文/張安忠

（鄭州航空工業(yè)管理學院經濟學院 河南·鄭州）

［提要］運用多重中介效應模型，從研發(fā)資本傳導機制視角實證研究三種類型專利授權量對技術進步可能產生的中介效應。結果發(fā)現：總體上專利發(fā)揮部分中介效應，其中發(fā)明專利的中介效應最大，而外觀設計專利則沒有發(fā)揮出中介效應。基于實證結論，政府應采取措施，建立傾向于技術創(chuàng)新的專利制度。

近年來，政府出臺多項專利資助政策，以促進科技創(chuàng)新發(fā)展。那么，在專利資助政策的支持和刺激下，研發(fā)投入和專利之間到底呈現何種關系？專利與科技進步又呈現何種關系？大量科技投入是否推動技術進步？通過何種機制推動技術進步？專利在其中又發(fā)揮何種作用？不同專利所起的作用是否存在差異？等等，這些問題都需要通過理論與實證研究予以解答。

一、文獻綜述與理論假設

（一）研發(fā)資本投入與技術進步。就研發(fā)資本投入對技術進步的影響機理來看，首先，研發(fā)投入能夠改善生產工藝水平；其次，研發(fā)投入能夠改進創(chuàng)新的組織方式；再次，研發(fā)投入有助于開發(fā)出更多新產品或更高質量的產品；最后，研發(fā)投入有助于知識資本和人力資本的積累。實證方面，國外學者Coe和Helpman（1993）以及國內學者吳延兵（2008）的研究支持了上述觀點。因此，本文提出如下假設：

H1：研發(fā)資本投入對技術進步具有顯著的促進作用

（二）研發(fā)資本投入與專利產出。理論上，研究部門是生產知識或技術的創(chuàng)新活動部門，同樣存在投入與產出的關系，即，投入研發(fā)資本，產出專利技術。實證方面，Pavitt（1985）對美國的研究結果表明R&D和專利之間存在顯著相關性，R2超過0.9，專利對R&D的彈性在0.3～0.6之間，即使考慮到滯后效應也是如此。國內學者古利平等（2006）實證分析了科研資金對專利具有正的、顯著的影響，說明增加科研投入確實可以極大地提高我國的創(chuàng)新能力，并發(fā)現我國的創(chuàng)新投入產出彈性很高，專利對科研資金的產出彈性為0.465。基于以上分析，本文提出以下假設：

H2：研發(fā)資本投入對專利產出具有顯著促進作用

（三）專利與技術進步。就專利對技術進步的作用機制來看，首先，專利為技術進步提供激勵機制；其次，專利為技術進步提供了技術交易機制；再次，專利為技術進步提供了融資機制；最后，專利制度為技術進步提供信息傳遞機制。基于上述分析，本文提出以下假設：

H3：專利對技術進步的影響起中介作用

（四）專利的中介作用存在差異性。不同專利技術含量不同，通常來說，發(fā)明專利技術含量最高，其次是實用新型專利，外觀設計專利則不要求技術含量。因此，本文提出如下假設：

H4：發(fā)明專利的中介作用要強于其他專利

二、研究設計

（一）指標變量選取及說明

1、被解釋變量。技術進步是被解釋變量，本文選擇了全要素生產率（TFP）作為評價技術進步的指標，并借鑒單豪杰（2008）的方法求得。

2、解釋變量。解釋變量為研發(fā)資本投入，本文選取R&D資本存量并采用永續(xù)盤存法進行計算。

3、中介變量。專利作為中介變量，與專利申請量相比，專利授權具備法律效用，更能對技術進步產生影響，因此本文的專利數據選取專利授權數量，并進一步細分為發(fā)明專利、實用新型專利和外觀設計專利授權量。

4、控制變量。本文借鑒潘紅玉等（2017）的模型，控制變量選取人力資本、產業(yè)結構、對外開放度和市場化指數四個關鍵變量。

（二）數據來源。本文選取2000～2017年我國31個省級區(qū)域的面板數據進行分析，相關數據主要來源于歷年《中國統(tǒng)計年鑒》《中國科技統(tǒng)計年鑒》、各省統(tǒng)計年鑒、各省國民經濟和社會發(fā)展統(tǒng)計公報，以及《中國國內生產總值核算歷史資料》（1952～1995）、《新中國60年統(tǒng)計資料匯編》等，個別缺失數據利用替代法補全。同時，為了減弱模型回歸中的異方差問題，對變量取對數處理。

（三）模型設計。參考柳士順等（2009）的模型設計思想，本文構建如下并行多重中介效應模型來研究研發(fā)資本投入對技術進步的影響機制中專利的中介效應。

式（1）描述了研發(fā)資本投入與技術進步之間的關系；式（2）～（4）描述了研發(fā)資本投入與各種專利之間的關系；式（5）描述了加入中介變量后研發(fā)資本投入、專利授權量與技術進步三者的關系。模型中，TFP表示技術進步，RDK表示研發(fā)資本存量，IPL表示發(fā)明專利授權量，UPL表示實用新型專利授權量，EPL表示外觀設計專利授權量，CV表示控制變量，ei為隨機誤差項，c表示研發(fā)投入對全要素生產率的總效應，c′表示研發(fā)投入對技術進步的直接效應，ai×bi表示通過專利傳導的中介效應，并且：

三、實證分析

為避免變量之間產生共線性問題，本文首先對數據進行標準化處理，然后打開SPSS的插件PROCESS，將因變量、自變量和控制變量一次輸入相應的選項框，設定“Bootstrap Samples”為5000，置信區(qū)間的置信度設置為95%，點擊“Option”選項框，勾選“Compare indirect effects”選項，即可得到的估計結果如表1所示。（表1）

表1 研發(fā)資本投入對全要素生產率影響的中介效應估計結果一覽表

表1中，模型（1）顯示研發(fā)資本存量在10%的水平下顯著影響全要素生產率，回歸系數為0.118，即研發(fā)資本存量每增加1個百分點，會引起全要素生產率增加0.118個百分點，假設1得到證實。模型（2）～（4）顯示回歸系數均為正值，分別為0.754、0.819和0.811，且均在1%的水平下通過了顯著性檢驗，說明研發(fā)資本投入每增加1個百分點，三種專利產出就相應增加0.754、0.819和0.811個百分點，說明研發(fā)資本投入確實能夠帶來專利產出的增加，假設2得到證實。模型（5）顯示在控制了中介變量之后，研發(fā)資本存量對全要素生產率的影響顯著，系數為-0.694，說明可能存在其他遺漏的中介變量，且與專利的中介效應相反。三種專利當中，外觀設計的系數沒有通過顯著性檢驗，將其剔除后再重新估計，模型（5）的結果顯示，在控制了中介變量之后，研發(fā)資本存量對全要素生產率的影響系數為-0.695，在1%的顯著水平下通過了顯著性檢驗，發(fā)明專利授權量和實用新型專利授權量對全要素生產率的影響系數分別為0.692和0.356，且均在1%的顯著水平下通過了顯著性檢驗。

將間接效應匯總后得到如表2所示結果，RDK→IPL→TFP路徑的回歸系數值為0.521，RDK→UPL→TFP路徑的回歸系數值為0.292，a·b檢驗系數值95%區(qū)間分別為（0.356，0.694）和（0.072，0.521），均不包括數字0，表明兩種專利發(fā)揮中介作用的效應顯著。中介效應的總值為0.813，其中，發(fā)明專利的中介效應值為0.521，占中介總效應的64.1%，實用新型專利的中介效應值為0.292，占中介總效應35.9%，發(fā)明專利的中介效應大于實用新型專利的中介效應，與假設4相符。（表2）

表2 效應過程分析及檢驗結果匯總表（不含EPL）

表2顯示在控制了中介變量專利后，自變量研發(fā)資本投入對因變量全要素生產率的影響依然顯著，區(qū)間（-0.869，-0.531）沒有包含0，說明直接效應存在，直接效應為-0.695，由于直接效應顯著，說明發(fā)明專利和實用新型專利共同發(fā)揮了部分中介效應，假設3部分得到驗證，也證實了還存在其他遺漏的中介變量，且與專利的中介效應作用方向相反，需要進一步去探尋遺漏中介變量，以便能夠設法消除其對技術進步的不利影響。

四、結論及政策建議

（一）結論。本文建立多重中介效應模型，利用31個省級2000～2017年數據進行實證分析，用以考察研發(fā)資本投入、專利與技術進步三者間的作用關系，得出以下結論：一是研發(fā)資本投入能夠為科技創(chuàng)新活動提供必要的資金支持，改善科技創(chuàng)新生產活動中的要素配置，從而對技術進步起到了顯著的促進作用。二是研發(fā)資本投入對各種專利產出均具有顯著的正向促進作用。三是研發(fā)資本投入對技術進步的貢獻有一部分是通過專利產生影響，揭示了研發(fā)資本投入在影響技術進步的傳導機制中專利發(fā)揮了部分中介作用，但是三種專利中只有發(fā)明專利和實用新型專利共同對技術進步發(fā)揮了部分中介作用，外觀設計專利對技術進步不存在中介作用，而相對于實用新型專利，發(fā)明專利的中介作用更大。

（二）政策建議。第一，本文證實了研發(fā)資本投入對技術進步存在顯著的正向影響，對科技創(chuàng)新的資金投入是有效的，政府應當繼續(xù)出臺各種激勵政策，進一步引導資金投入科技創(chuàng)新活動，提高研發(fā)資本在社會總資本中的比重，激發(fā)科研人員開展科技創(chuàng)新的熱情，增強科技創(chuàng)新的能力，提高技術進步的速度，推動經濟向高質量發(fā)展方向快速轉變。第二，本文實證分析表明了專利是研發(fā)資本作用于技術進步的有效傳導中介，因此政府應當繼續(xù)加強專利資助政策，提高專利資助在政府補貼中的比例。政府部門還應對專利資助的發(fā)放和使用進行追蹤與監(jiān)督，提高資助標準、效率以及專利的轉化率。同時，政府還應進一步加強知識產權保護力度，降低技術外溢和知識產權侵權給企業(yè)帶來的風險。企業(yè)自身也應重視專利開發(fā)的資源投入，增強高質量發(fā)明專利的開發(fā)能力，減少技術含量相對較低的實用新型和外觀設計的投入和開發(fā)，加快對核心技術的研發(fā)，打破國外高水平專利的限制，盡快構建具備國際競爭力的專利開發(fā)體系。