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氫等離子體制備Pd/GO-P催化材料及其催化還原對硝基苯酚性能

2023-09-19 05:14:00趙玲玉趙可鑫張秀玲底蘭波
石油學報(石油加工) 2023年5期

趙玲玉,趙可鑫,張秀玲,滑 躍,底蘭波

(1.大連大學 環境與化學工程學院,遼寧 大連 116622;2.大連大學 物理科學與技術學院,遼寧 大連 116622)

對硝基苯酚(4-NP)作為硝基酚污染物中的典型代表,是眾多工業產品(染料、炸藥、殺蟲劑、藥品和增塑劑)制造過程中典型的前驅體和中間體,且因其對水生生物和人類的急性毒性,被列為亟需治理的首要污染物[1]。與4-NP相比,其催化還原產物對氨基苯酚(4-AP)是商業上一種重要的中間體,可用于制造鎮痛藥和耐熱藥物,具有毒性小、易于降解的優點[2]。因此,采用高效、綠色且便捷的方法將低附加值的4-NP還原為高附加值的4-AP,是一種去除4-NP的有效方法,也成為當下研究的熱點。

碳負載鈀催化材料常用于催化還原4-NP制備4-AP,常用的碳載體有多孔碳、碳布、碳納米管和氧化石墨烯等。多孔碳是具有豐富孔結構和較大比表面積的碳材料。Veerakumar等[3]采用微波輻射法將Pd2+還原為Pd0,并負載于多孔碳上,制備的復合材料用于4-NP還原,表觀反應速率常數(k)高達4.122 min-1。碳布由碳纖維紡織而成,具有密度小、大小和形狀易于調節的優點。Jaleh等[4]采用液相激光燒灼法制備了碳布載鈀催化材料,其可在390 s內完成催化還原4-NP反應。碳納米管具有結構強度大、導電性良好的特點。He等[5]采用化學氣相沉積法制備氮摻雜碳納米管載鈀復合材料,并用于催化還原4-NP,其在4-NP溶液中表現出很強的吸附能力,從而明顯提高了催化活性。氧化石墨烯表面存在大量的含氧官能團(Oxygen-containing groups,OCGs)及晶格缺陷,可在水溶液以及極性溶劑中穩定存在。這不僅能夠有效地將金屬納米粒子錨定在氧化石墨(Graphite oxide,GO)表面,還能增加催化材料對反應物的吸附能力。Liu等[6]采用氮輝光放電等離子體制備了氮摻雜還原氧化石墨烯(NrGO)載鈀催化材料,其在室溫下對催化還原4-NP表現出優異活性,表觀速率常數為0.499 min-1。

常用的制備貴金屬催化材料的方法有化學還原法[7]、共沉積法[8]、等離子體法[6]等。其中,化學還原法需要使用過量的有毒化學試劑,在貴金屬離子還原過程中,試劑會破壞載體上的OCGs,導致載體對4-NP的吸附能力減弱,不利于4-NP的還原,從而使催化材料的性能降低。共沉積法避免了有毒化學試劑的使用,卻存在原子利用率低、制備時間長的缺點。相比之下,等離子體法作為一種高效、快速、新興的貴金屬催化材料制備方法,表現出極大的應用前景。

等離子體主要由氣體放電產生,放電形式包括電暈放電、輝光放電、射流放電和介質阻擋放電(Dielectric barrier discharge,DBD)。由于大氣壓條件下較難產生輝光放電,電暈放電多用于空氣凈化、靜電除塵等方面;射流放電工作氣體流速較高不適用于處理粉末材料[9];相比之下,DBD是大氣壓冷等離子體主要的產生方式,具有裝置操作簡單、易于放大等優點,常應用于催化材料的制備和處理[10-12]。DBD是一種典型的非平衡態氣體放電,又稱無聲放電,放電反應器常由2個導電電極和插入放電空間的1個或多個介質層構成。當有氣體充入放電空間且電極間的電場電壓足夠高時,電子從電場中獲得能量,并與周圍的原子分子碰撞并發生能量轉移,產生諸如自由電子、離子和自由基之類的活性物質。DBD的結構主要有同軸圓筒型和平行板型。同軸圓筒DBD裝置適用于處理粉末狀和顆粒狀催化材料。平行板型DBD裝置適于處理顆粒狀、液體狀和片狀材料。

筆者以廉價的氧化石墨為載體,采用DBD氫等離子體技術制備GO載鈀催化材料(Pd/GO-P),用于催化還原4-NP反應,并探究了放電電壓和放電時間對制備Pd/GO-P結構和性能的影響。采用各種表征手段對不同放電條件下Pd/GO-P催化材料的結構和性能進行分析,并探討了等離子體調控制備反應機理。

1 實驗部分

1.1 原料和試劑

氯化鈀(PdCl2)和硼氫化鈉(NaBH4),分析純,購自天津科密歐化學試劑有限公司;鹽酸,分析純,購自天津市化學試劑廠;氧化石墨粉末(GO),分析純,購自江蘇先豐納米材料科技有限公司;對硝基苯酚(4-NP),分析純,購自上海阿拉丁化學試劑有限公司;高純氬氣(體積分數>99.999%)和氫氣(體積分數>99.999%),由中昊光明化工研究設計院有限公司提供。

1.2 催化材料制備

以PdCl2為Pd源,氧化石墨為載體,采用過量浸漬法制備催化材料前驅體Pd/GO-As。首先,將PdCl2溶于稀鹽酸中,配制H2PdCl4(0.0554 g/mL)溶液。取0.184 mL H2PdCl4溶液、0.3 g氧化石墨和2 mL蒸餾水,進行充分混合并攪拌10 min,然后鼓風干燥2 h,獲得催化材料前驅體Pd/GO-As。

采用同軸圓筒型DBD反應器制備催化材料。DBD反應器由石英管(外徑10 mm、內徑7 mm)、高壓電極和接地鋁箔電極組成。高壓電極由銅制成(直徑2 mm),置于石英管中心,石英管由接地電極包裹(長度20 mm),放電間隙為2.5 mm,放電體積為706.5 mm3。以H2和Ar混合氣體(H2/Ar氣體流速比為1)為工作氣體,在放電頻率為11.8 kHz、放電電壓為13.0~19.0 kV、放電時間為2~8 min條件下,采用DBD等離子體對Pd/GO-As(w(Pd)=2%)進行處理,制得的催化材料樣品標記為Pd/GO-P。

1.3 催化材料表征

采用粉末X射線衍射儀(XRD,丹東浩元公司產品,型號DX-2700)測定Pd/GO-P催化材料的XRD譜圖,工作電壓40 kV,工作電流30 mA,靶材為CuKα。采用X射線光電子能譜儀(XPS,美國Thermo Scientific公司,型號K-Alpha)測定催化材料的XPS譜圖,使用AlKαX射線源對樣品的表面元素組成和化學狀態進行分析,所有測量元素的電子結合能基于C 1s的軌道結合能(284.6 eV)進行校正。采用透射電子顯微鏡(TEM,美國FEI公司,型號Tecnai G2 F20)在加速電壓120 kV下測定催化材料樣品的形貌和粒子尺寸及分布;通過從TEM圖像中選擇不少于100個鈀納米粒子,獲得鈀納米粒子的平均粒徑和分散程度。采用拉曼光譜(Raman,日本Horiba公司,型號LabRAM HR Evolution)記錄Pd/GO-P的D峰和G峰位置及強度,并評估Pd/GO-P中的缺陷程度。采用傅里葉紅外光譜儀(FT-IR,美國Thermo公司,型號Scientific Nicolet iS20)檢測載體表面官能團。采用紫外可見光譜儀(UV-Vis,日本UV-3900型)采集400 nm處吸光度隨反應時間的變化曲線,以監測Pd/GO-P催化材料還原4-NP的反應過程。

1.4 催化材料活性評價

25 ℃下,將Pd/GO-P催化材料樣品分散于40 mL對硝基苯酚(4-NP,3×10-4mol/L)水溶液中,磁力攪拌5 min[13],在攪拌過程中注入新配制的3 mL硼氫化鈉(NaBH4,0.1 mol/L)溶液。為了評估反應進程,從反應混合溶液中迅速取出3 mL溶液,放在石英比色皿中(光程10 mm),用紫外-可見分光光度計(UV-Vis)監測反應過程。

為了更直觀地反映催化反應過程的快慢,以ln(At/A0)為縱坐標對反應時間作圖,并對數據進行線性擬合。擬合曲線均呈現良好的線性關系,說明所有樣品催化還原4-NP均為類一級反應。根據式(1)計算催化還原4-NP反應的速率常數(k)。

ln(At/A0)=-kt

(1)

式中:At和A0分別為反應時間tr時刻和初始時刻4-NP離子在400 nm處的吸光度。

2 結果與討論

2.1 放電電壓對氫等離子體制備Pd/GO-P催化材料催化性能的影響

2.1.1 放電電壓對Pd/GO-P催化材料活性的影響

保持放電時間為6 min,探究放電電壓對制備的Pd/GO-P催化材料催化還原4-NP性能的影響,結果如圖1所示。由圖1可以看出,隨反應時間延長,4-NP離子吸光度迅速減小,表明不同放電電壓下制備Pd/GO-P均表現出較高的催化還原4-NP活性。與放電電壓分別為13、15、19 kV相比,放電電壓為17 kV條件下制備的Pd/GO-P的反應時間最短(僅為60 s),說明放電電壓為17 kV時制備的Pd/GO-P的催化活性最高。

圖1 不同放電電壓下制備Pd/GO-P催化材料催化還原4-NP在400 nm處吸光度隨反應時間(tr)的變化Fig.1 Variation of absorbance of Pd/GO-P catalysts prepared under different discharge voltages for catalytic reduction of 4-NP at 400 nm over reaction time (tr) Discharge voltage/kV:(a)13;(b)15;(c)17;(d)19Conditions:Discharge time (td)6 min

不同放電電壓下制備的Pd/GO-P催化材料催化還原4-NP的動力學曲線如圖2所示。由圖2可知,放電電壓為13、15、17和19 kV下制備的Pd/GO-P催化還原4-NP的反應速率常數k分別為1.74、1.71、1.93和1.45 min-1。隨著放電電壓升高,Pd/GO-P還原4-NP活性呈現先升高后降低的趨勢,在放電電壓17 kV下制備的Pd/GO-P表現出最高的催化活性。

圖2 不同放電電壓下制備的Pd/GO-P催化材料催化還原4-NP的動力學曲線Fig.2 Kinetic curves of Pd/GO-P catalysts prepared at different discharge voltages for 4-NP catalytic reductionConditions:Discharge time (td)6 min

2.1.2 放電電壓對Pd/GO-P催化材料結構的影響

圖3為不同放電電壓下制備的Pd/GO-P的XRD、Raman、FT-IR及XPS能譜圖。由圖3(a)可見,所有樣品在2θ=10.3°處均出現尖銳的衍射峰,歸因于GO(001)晶面的特征衍射峰。等離子體處理后,在2θ=40.1°處出現了較弱的衍射峰,對應于面心立方晶體結構的Pd(111)晶面,說明等離子體處理可以將鈀離子還原為鈀單質。不同放電電壓等離子體處理后,GO(001)晶面的特征衍射峰均從10.3°向右偏移至10.8°,偏移程度大致相同。但是,并沒有發現還原氧化石墨烯(rGO)的特征衍射峰,說明等離子體對氧化石墨的還原較弱。該現象還可能是由于等離子體中高能粒子轟擊GO載體產生較多缺陷,導致其晶格尺寸減小所致。這些缺陷在Raman光譜表征結果中得到進一步證實(見圖3(b)),較多的缺陷有利于催化材料活性的提升[6]。

ID/IG represents the intensity ratio of the D band to the G band,reflecting the degree of graphitization and the density of the carbon material.圖3 不同放電電壓下制備Pd/GO-P催化材料和GO的XRD譜圖、Raman光譜圖、FT-IR光譜圖以及Pd/GO-P的C 1s、O 1s和Pd 3d的XPS能譜圖Fig.3 XRD patterns,Raman spectra,FT-IR spectra of Pd/GO-P catalysts and GO prepared at different discharge voltages,and C 1s,O 1s,Pd 3d XPS energy spectra of Pd/GO-P catalysts(a)XRD patterns;(b)Raman spectra;(c)FT-IR spectra;(d)C 1s;(e)O 1s;(f)Pd 3d

為進一步探究放電電壓對制備Pd/GO-P表面結構和缺陷的影響,采用拉曼光譜對GO和Pd/GO-P進行分析,結果如圖3(b)所示。由圖3(b)可見,所有樣品均在1344和1577 cm-1處觀察到2個明顯的峰值,分別對應于GO的D峰和G峰。其中G峰強度體現的是石墨中sp2雜化鍵結構的完整性,而D峰是由于石墨晶體不完整,邊緣不飽和碳原子較多,結構缺陷較多而引起的。ID/IG通常用來反應碳材料中的石墨化缺陷程度和缺陷密度[14]。與GO相比,等離子體制備Pd/GO-P的D峰和G峰均有明顯增強,且Pd/GO-P的ID/IG都有所增加,說明等離子體處理可使GO表面產生更多的缺陷。這是因為等離子體中含有大量的高能粒子,與載體相互作用時容易在載體上形成更多的缺陷,這些缺陷有利于將Pd納米粒子錨定在GO上。隨著放電電壓的增加,Pd/GO-P樣品的ID/IG先增大后減小。這可能是因為隨著放電電壓增加,等離子體產生的絲狀放電增強,使GO載體表面缺陷密度增加。然而過高的放電電壓,將會使局部放電增強,對載體結構造成破壞,進而導致缺陷密度的下降。同時,等離子體處理結束,這些缺陷暴露于空氣,會和空氣中的氧氣發生反應,生成更多的OCGs,也會造成缺陷密度的下降[15-16]。此外,相比于GO,等離子體制備Pd/GO-P樣品的G帶峰值均向右發生偏移,說明Pd納米粒子和載體之間存在強烈的金屬-載體相互作用[12]。

圖3(c)為GO和不同放電電壓下制備Pd/GO-P的FT-IR譜圖。由圖3(c)可見,GO在1617和3405 cm-1處有明顯的吸收峰,對應于O—H的伸縮振動吸收峰。在1720、1051和1220 cm-1處的吸收峰分別對應于C=O、C—O及C—O—C的伸縮振動吸收峰[17-18]。與GO相比,放電電壓13、17和19 kV條件下制備Pd/GO-P中含氧官能團的吸收峰強度均出現一定程度的降低,這與XRD表征結果相一致,說明等離子體將GO部分還原為rGO。但放電電壓17 kV下制備Pd/GO-P樣品的峰強度仍然較強,說明該放電電壓保留了GO表面較多的OCGs;OCGs具有獨特的電負性,保留較多OCGs可以改善催化材料中活性組分的分布,并與活性組分發生協同作用,從而提高催化材料的活性。

采用XPS對Pd/GO-P的表面元素組成和價態進行了分析,結果如圖3(d)~(f)所示。圖3(d)為不同放電電壓下制備Pd/GO-P中C 1s的XPS能譜圖。對Pd/GO-P樣品的C 1s能譜峰進行分峰擬合得到4個解卷積能譜峰,為284.6、286.8、288.3和289.7 eV,分別對應C—C、C—O(C—O—C)、C=O和O—C=O官能團[7]。此外,還可以看出,不同放電電壓下制備Pd/GO-P樣品的C 1s能譜圖沒有明顯變化,說明等離子體處理未對GO造成明顯破壞。

為了對GO表面的OCGs深入分析,對不同放電電壓下制備Pd/GO-P樣品中O 1s的XPS能譜進行表征并分峰擬合,結果如圖3(e)所示。由圖3(e)可見,Pd/GO-P在以530.9、531.7、532.6和533.3 eV結合能為中心的解卷積峰分別對應O—C=O、C=O、C—OH和C—O—C官能團[19],這與C 1s的XPS能譜峰分析結果相一致。此外,隨著放電電壓升高,Pd/GO-P中C=O和O—C=O官能團的擬合峰面積明顯降低,C—OH官能團的擬合峰面積逐漸增加,而C—O—C官能團的擬合峰面積沒有明顯變化。C—OH與—OH的存在,有利于催化材料對4-NP吸附,從而提高反應速率[20]。

圖3(f)為不同放電電壓下制備Pd/GO-P樣品Pd3d軌道的XPS能譜圖。由圖3(f)可見,Pd/GO-P中的Pd3d能譜主要位于342.5和337.2 eV,分別對應于金屬態Pd0的3d3/2和3d5/2軌道[14]。這說明等離子體基本可以實現Pd前驅體的完全還原,放電電壓對等離子體還原沒有明顯的影響。

根據C 1s、O 1s和Pd 3d的XPS能譜圖得到Pd/GO-P催化材料中Pd/C和O/C原子比,如表1所示。從表1可以看出,隨著放電電壓的升高,Pd/GO-P中Pd/C原子比略有增大,這可能是由于介質阻擋放電是典型的絲狀放電,放電電壓升高造成單通道絲狀放電能量增加,更有利于Pd物種向載體外表面遷移,造成更多Pd活性物種沉積于GO表面,使催化材料具有更好的活性。此外,隨著放電電壓的增加,等離子體制備Pd/GO-P中O/C原子比先增大后減小。這是因為,等離子體處理Pd/GO會帶來兩方面的后果:一方面,等離子體處理破壞掉部分OCGs,使部分GO變為rGO;另一方面,等離子體處理使得GO產生較多缺陷,放電電壓升高更有利于缺陷的產生,當其暴露在空氣中時,很容易與O2發生反應,生成更多的OCGs[15-16]。

表1 不同放電電壓下制備的Pd/GO-P催化材料中Pd/C和O/C原子比以及鈀物種的平均粒徑(D′Pd)Table 1 Atomic ratios of Pd/C and O/C,as well as the mean particle diameter (D′Pd)of Pd species in Pd/GO-P catalysts prepared at different discharge voltages

采用TEM研究不同放電電壓制備的Pd/GO-P中Pd納米粒子的分散狀態和粒徑分布,如圖4所示。圖4(a)~(c)為不同放電電壓下制備Pd/GO-P的TEM照片,可以看出在GO表面均能夠觀察到均勻分布的Pd納米粒子,說明經等離子體處理后,Pd納米粒子可以被較好地錨定在載體表面。圖4(d)~(f)為不同放電電壓下制備Pd/GO-P的粒徑分布圖,可以看出放電電壓對粒徑大小影響較小,均可以使Pd納米粒子較好地分散于GO載體表面。

圖4 不同放電電壓下制備Pd/GO-P催化材料的TEM照片及粒徑分布Fig.4 TEM images and particle size distribution of Pd/GO-P catalysts prepared at different discharge voltages Discharge voltage/kV:(a)and (d)13;(b)and (e)17;(c)and (f)19Conditions:Discharge time (td)6 min

2.2 放電時間對氫等離子體制備Pd/GO-P催化材料催化性能的影響

2.2.1 放電時間對Pd/GO-P催化材料活性的影響

保持最佳放電電壓為17 kV,探究放電時間對制備Pd/GO-P催化材料的結構和催化還原4-NP活性的影響,結果如圖5所示。由圖5可以看出,當放電時間為6 min時,制備Pd/GO-P催化還原4-NP 的tr最短(僅為60 s),表明該條件下所制備Pd/GO-P催化材料的催化活性最高。

圖5 不同放電時間下制備Pd/GO-P催化材料催化還原4-NP在400 nm處吸光度隨反應時間(tr)的變化Fig.5 Variation of absorbance of Pd/GO-P catalysts prepared at different discharge time periods for catalytic reduction of 4-NP at 400 nm over reaction time (tr) Discharge time/min:(a)2;(b)4;(c)6;(d)8 conditions:Discharge voltage 17 kV

為定量評估催化反應過程的快慢,以ln(At/A0)為縱坐標對反應時間作圖,并對相關數據進行線性擬合,獲得不同放電時間下制備Pd/GO-P催化材料催化還原4-NP反應的速率常數k,如圖6所示。由圖6可以看出,擬合曲線均呈現良好的線性關系,說明所有Pd/GO-P樣品催化還原4-NP均為類一級反應。此外,與放電電壓的影響結果類似,隨著放電時間的增加,等離子體制備Pd/GO-P催化還原4-NP的活性先增強后減弱,當放電時間為6 min時,制備Pd/GO-P樣品的反應速率常數k最大。

圖6 不同放電時間(td)下制備Pd/GO-P催化材料催化還原4-NP的動力學曲線Fig.6 Kinetic curves of Pd/GO-P catalysts prepared at different discharge time periods (td)for 4-NP catalytic reductionConditions:Discharge voltage 17 kV

2.2.2 放電時間對Pd/GO-P催化材料結構的影響

為探究放電時間對制備Pd/GO-P構效關系的影響,對制備樣品進行了XRD、Raman、FT-IR及XPS表征。圖7(a)為不同放電時間下制備Pd/GO-P的XRD譜圖。由圖7(a)可見,所有樣品均在2θ為10.3°處出現尖銳的衍射峰,歸因于GO(001)晶面的特征衍射峰。等離子處理后GO(001)衍射峰右移至10.8°,沒有出現rGO的特征衍射峰,說明等離子體處理導致GO表面OCGs減少不明顯,同時有缺陷產生。此外,在2θ為40.1°處出現較弱的衍射峰,對應Pd(111)晶面的特征衍射峰,隨著放電時間從6 min增加到8 min,衍射峰強度沒有明顯變化,說明不同放電時間下制備Pd/GO-P的Pd活性組分粒徑均較小、分散性較好。

圖7 不同放電時間下制備Pd/GO-P催化材料和GO的XRD譜圖、Raman光譜圖、FT-IR光譜圖以及Pd/GO-P的C 1s、O 1s和Pd 3d的XPS能譜圖Fig.7 XRD patterns,Raman spectra,FT-IR spectra of Pd/GO-P catalysts and GO prepared at different discharge time periods,and C 1s,O 1s,Pd 3d XPS energy spectra of Pd/GO-P catalysts(a)XRD pattern;(b)Raman spectrum;(c)FT-IR spectrum;(d)C 1s;(e)O 1s;(f)Pd 3d

圖7(b)為不同放電時間下制備Pd/GO-P的Ramam光譜。由圖7(b)可以看出,在1350和1580 cm-1處觀察到清晰的特征能譜峰,對應于D峰和G峰。與GO相比,等離子體處理后Pd/GO-P的ID/IG都明顯增大,且隨著放電時間從2 min增加到8 min,ID/IG從0.91增大到0.97,這可能是由于隨著放電時間的增加,等離子體產生的高能離子轟擊載體表面的幾率增大,從而導致載體的缺陷密度增大。

圖7(c)為不同放電時間下制備Pd/GO-P的FT-IR譜圖。由圖7(c)可以看出,與GO相比,等離子體處理后Pd/GO-P中OCGs的吸收峰強度均降低,但在放電時間為6 min時Pd/GO-P的OCGs吸收峰強度最高。從放電電壓和放電時間對Pd/GO-P缺陷的影響可知,提高放電電壓和放電時間均可增加Pd/GO-P的缺陷密度。而缺陷暴露于空氣中,會和氧氣發生反應,從而增加OCGs的數量。同時,放電電壓的提高和放電時間的延長,會將GO部分還原為rGO,破壞GO表面的部分OCGs。因此,最佳放電電壓和放電時間,將使得GO表面有更多缺陷和OCGs。較多的缺陷和OCGs有助于4-NP的吸附,進而提高催化反應效率。

圖7(d)~(f)為不同放電時間下制備的Pd/GO-P中C 1s、O 1s和Pd 3d軌道的XPS能譜圖。由圖7(d)可見,對Pd/GO-P中C 1s能譜峰進行分峰擬合得到4個能譜峰,不同放電時間制備Pd/GO-P中C—O官能團的擬合峰面積明顯降低,其他官能團的擬合峰面積無明顯變化,說明等離子體處理對GO的官能團破壞程度較小。

由圖7(e)可見,隨著放電時間的增加,Pd/GO-P中C=O官能團的擬合峰面積明顯降低,C—O—C官能團的擬合峰面積略微降低,而C—OH和O—C=O官能團的擬合峰面積無明顯變化。有研究[20]表明,C—O—C的存在會降低載體電子轉移速率,而C—OH 與—OH的存在,有利于催化材料對4-NP吸附,從而可提高反應速率。

由圖7(f)可見,放電時間為2 min下制備Pd/GO-P中,Pd 3d的能譜峰由2組雙峰組成,分別對應于金屬態Pd0的3d3/2和3d5/2軌道(341.1和335.8 eV)和氧化態Pd2+的3d3/2和3 d5/2軌道(342.5和337.2 eV)[14]。當放電時間延長至6 min和8 min時,所制備Pd/GO-P樣品的Pd 3d能譜峰為2個單峰,說明6 min長的放電時間基本可以實現Pd前驅體的完全還原。從圖7(f)還可以看出,在放電時間為6 min和8 min時,Pd的結合能向高結合能方向遷移約1.4 eV,說明等離子體既可以實現Pd前驅體的還原,又可以使金屬-載體相互作用明顯增強。結合能偏移主要是由于兩方面原因造成:一方面,Pd上更多的電子可以遷移至富含缺陷的氧化石墨上,造成金屬-載體相互作用增強,這與文獻[21]報道結果相一致;另一方面,放電等離子體的產生需要高的放電電壓,產生強的電場,對表面帶有電子鞘層的Pd物種進行庫侖排斥作用,從而增強金屬-載體相互作用。這與Raman表征結果相一致。

根據不同放電時間制備的Pd/GO-P的XPS能譜圖,可以獲得Pd/C和O/C的原子比,如表2所示。放電時間為6 min條件下,制備Pd/GO-P的O/C原子比最高,這與圖7(c)中FT-IR分析結果相一致。OCGs的存在可以有效地改善載體表面金屬納米粒子活性組分的分布,并與其發生協同作用,促進4-NP的吸收以及Pd/GO-P在溶液中的分散,從而提高催化活性[22]。此外,隨著放電時間的延長,Pd/C原子比逐漸降低,這可能是由于完全還原后,等離子體對錨定好的金屬納米粒子造成破壞導致的。具有豐富含氧官能團載體負載的金屬催化材料,長時間等離子體處理會導致金屬納米粒子的團聚,造成催化活性變差[11]。

表2 不同放電時間(td)下制備的Pd/GO-P催化材料中Pd/C和O/C原子比以及Pd物種的平均粒徑(D′Pd)Table 2 Atomic ratios of Pd/C and O/C,as well as the mean particle diameter (D′Pd)of Pd species in Pd/GO-P catalysts prepared at different discharge time periods (td)

圖8為不同放電時間下制備Pd/GO-P的TEM照片及相應的粒徑分布。由圖8可知,隨著放電時間的增加,Pd納米粒子粒徑有增大趨勢,但總體變化不大,粒徑小且分布窄。這可能是由于:一方面,隨著放電時間的增加,放電溫度升高,導致GO載體表面Pd活性組分產生輕微團聚現象;另一方面,等離子體中的帶電粒子對富含官能團的Pd/GO長時間的轟擊作用,也會使Pd活性組分分散性變差。另外,金屬粒子尺寸太小,其結構和電子性能又容易受到干擾,導致催化性能的下降。與放電時間為2和8 min相比,在6 min時制備Pd/GO-P的粒徑大小分布合適,OCGs含量最高,分散性更好,表現出較高催化活性。

圖8 不同放電時間下制備Pd/GO-P催化材料的TEM照片及粒徑(DPd)分布Fig.8 TEM images and particle size distribution of Pd/GO-P catalysts prepared at different discharge time periods Discharge time/min:(a)and (d)2;(b)and (e)6;(c)and (f)8Conditions:Discharge voltage 17 kV

2.3 催化材料反應活性對比

為了對不同文獻報道的催化材料的活性進行對比,根據式(2)計算濃度歸一化反應速率常數(knor)。

(2)

式中:k為一級反應速率常數(min-1);knor為濃度歸一化反應速率常數(L/(min·g));ρmetal為活性金屬的質量濃度(g/L)。

文獻中不同催化材料還原4-NP的反應活性結果如表3所示。等離子體制備的Pd/GO-P的knor為1038 L/(min·g),明顯高于同類型的其他催化材料,說明等離子體制備的Pd/GO-P可明顯增強催化還原4-NP的反應性能。此外,等離子體制備Pd/GO-P 的knor約為傳統氫氣熱還原制備Pd/rGO-H的9.6倍[12]。

表3 不同碳載鈀基材料催化還原4-NP的反應活性Table 3 Reactivity of 4-NP catalytic reduction over different carbon-supported palladium-based materials

與氫氣熱還原相比,氫等離子體放電產生的強還原活性物種(如:H·、H*、H2*等)可以實現Pd金屬離子的還原。同時,合適的等離子體處理條件,可以使載體表面具有更多的OCGs和缺陷,以及較小且高分散的Pd物種。此外,等離子體中強的電場,還可以增強金屬-載體相互作用,從而提高催化活性。

3 結 論

(1)采用簡便、快捷、高效的大氣壓氫冷等離子體技術制備Pd/GO-P催化材料,并探究放電電壓和放電時間對Pd/GO-P結構和催化還原4-NP反應性能的影響。放電電壓和放電時間對Pd/GO-P中缺陷、OCGs、金屬納米粒子粒徑大小和分散性,以及金屬-載體相互作用的影響,是一個綜合相互作用的過程。

(2)在放電電壓為17 kV和放電時間為6 min條件下,所制備Pd/GO-P催化材料表面含有豐富的OCGs、較高的缺陷密度,金屬-載體相互作用強,有利于錨定Pd活性組分,使其粒徑小、分散性好,可促進Pd/GO-P吸附4-NP及在水中分散,表現出優異的催化還原4-NP活性,反應速率常數k高達1.93 min-1,濃度歸一化速率常數為1038 L/(min·g),是氫氣熱還原制備樣品活性的9.6倍。

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