[摘要]目的:研究安氏Ⅱ類錯頜患者中,采用微型種植體作支抗與鐘擺矯治器遠移上頜磨牙進行比較,以評價兩種方法的各自特點。方法:將28例成人患者隨機分成兩組.分別采用兩種方法遠移上頜磨牙。測量上頜第一磨牙在近遠中方向、頰舌向、垂直向的位置變化以及水平向的扭轉變化,以衡量磨牙的位置改變。并通過上中切牙的位置變化,評價支抗強弱。結果:種植體作支抗組上頜第一磨牙平均遠中移動5.2mm,療程4.4個月,平均移動速度1.2mm/月;磨牙長軸向遠中傾斜角度4.6°;磨牙頰向移住1.6mm;磨牙發生遠中舌向水平旋轉約4.9°;上頜中切牙位置基本無改變。鐘擺矯治器組上頜第一磨牙平均遠中移動3.5mm.療程4.2個月,平均移動速度0.8mm/月;磨牙長軸向遠中傾斜角度12.6°;磨牙頰向移位0.5mm;磨牙發生遠中舌向水平旋轉約2.8°;上頜中切牙切端向遠中移動0.5mm。結論:兩種方法比較,種植體的支抗更強,未見前牙支抗喪失,且二者磨牙的移動方式有所區別。
[關鍵詞]磨牙遠移;種植體支抗;鐘擺矯治器;安氏Ⅱ類錯頜
種植體支抗近年來在正畸學領域受到越來越多的重視,在臨床中的應用日益廣泛。推上頜磨牙遠移經常會遇到支抗不足的問題。本研究利用種植體作支抗推上頜磨牙遠移,并將其與臨床中常用的鐘擺矯治器推上頜磨牙遠移作比較。通過比較,既可以使我們對這種方法加深認識,了解它的臨床效果和作用特點;又有助于從中發現存在的問題,以便今后加以改進,更好地為臨床服務。
1 材料和方法
1.1 臨床資料:選擇28例成人患者(男性12例,女性16例),年齡16~20歲,平均18.5歲。雙側第一磨牙為遠中尖對尖關系;上頜牙列擁擠度小于5mm,下頜牙列基本正常;上下頜第二磨牙完全正位萌出;所有患者上頜第三磨牙先天缺失。
1.2 治療方法:將所有患者采用完全隨機化的分組方法分成兩組,分別采用微型種植體支抗與口內支抗(鐘擺矯治器)推上頜磨牙遠移。具體分組及臨床操作如下:①第一組(種植體支抗組):常規裝配上頷方絲弓矯治器,上頜第一前磨牙制作個別帶環,帶環頰側焊接托槽。上頜第二前磨牙暫不粘結托槽。將種植體植入預定部位(上頜第一磨牙和上頜第二前磨牙之間的頰側牙槽骨內)。上頜初始弓絲為0.45mm不銹鋼絲彎制的隨行弓。將螺旋推簧擠壓后置于上頜第一前磨牙與第一磨牙之間,推簧壓縮6mm,力量約250g。通過0.25mm不銹鋼絲將種植體與上頜第一前磨牙作“一”字形緊密結扎。②第二組(鐘擺矯治器組):常規裝配上頜方絲弓矯治器,上頜第一前磨牙制作個別帶環,帶環頰側焊接托槽。鐘擺矯治器的近中游離端焊接于上頜第一前磨牙舌側,遠中游離臂插入上頜第一磨牙帶環舌側焊接的扁管內,預先測得游離臂所產生力量為250g。上頜初始弓絲為0.45mm不銹鋼絲彎制的隨行弓。
1.3 測量方法:每一位患者治療前后均拍攝正中頜位頭顱定位側位片,取上下頜的研究模型。所有X線片均由同一名口腔正畸醫師在一段集中的時間內用硫酸紙描圖、定點、畫線、測量,每個項目測量3次,取平均值,輸入計算機進行計算。制作印模、灌注模型由一名操作熟練的護士完成,由同一名口腔正畸醫師在一段集中的時間內對所有模型定點、測量,每個項目測量3次,取平均值。測量工具為游標卡尺和量角儀。
1.3.1 X線片測量項目
1.3.1.1 測量基準平面(線):①PP(腭平面):通過前鼻棘(ANS)與后鼻棘(PNs)連線的水平面。②PFP(翼上頜裂平面):通過翼上頜裂點(Ptm點)且垂直于腭平面的平面。③SN(前顱底平面):通過蝶鞍點(s)與鼻根點(N)連線的平面。
1.3.1.2 測量項目:①6-SN角:上頜第一磨牙長軸與SN連線的夾角(前下角)。表示上頜第一磨牙的遠中傾斜程度。②6-PFP:測量上頜第一磨牙牙冠中點至翼上頜裂垂線的距離。以此表示上頜磨牙的矢狀位置。③6-PP(mm):測量上頜第一磨牙牙冠中點至PP平面的距離。以此表示上頜磨牙的垂直位置。④1-SN角:上頜中切牙長軸與SN連線的夾角(前下角),表示上頜中切牙長軸的改變。
1.3.2 研究模型測量項目
1.3.2.1 測量基準平面:①mp1:腭中縫平面;指通過上頜腭中縫且與上頜平面垂直的平面。②pf1:腭小凹平面(連線):通過上頜腭小凹的連線以及通過此線與上頜平面垂直的平面。③mpa:通過上頜第一磨牙近頰尖、遠舌尖的連線。
1.3.2.2 測量項目:①6-mp1:上頜第一磨牙中央窩至腭中縫線的垂直距離。表示上頜第一磨牙的頰舌向位置。②6-mpa:通過上頜第一磨牙近頰尖、遠舌尖的連線與腭中縫線的夾角。表示上頜第一磨牙的水平扭轉程度。③1-pf1:上頜中切牙切緣至腭小凹連線的垂直距離,表示上頜中切牙的矢狀方向位置。
2 分析方法和結果
各測量值均進行兩樣本t檢驗,以比較兩種治療方法的結果有無統計學差異。
3 討論
3.3.1 治療時間和移動速度:本研究中,種植體支抗遠移磨牙平均用時4.4個月,一個月移動1.2mm,而用鐘擺矯治器推磨牙,磨牙大約一個月移動0.8mm,利用種植體作支抗遠移磨牙速度更快。種植體支抗同鐘擺矯治器一樣,不依賴于患者的配合,力量可以持續作用于上頜磨牙。
3.3.2磨牙移動方式:種植體組用0.45mm的不銹鋼圓絲作為磨牙移動時的引導弓絲,第一磨牙不可避免地發生了遠中傾斜,但傾斜程度明顯小于鐘擺矯治器組。在臨床中,推磨牙遠移力量的作用點位于磨牙阻抗中心的合方,所以磨牙的牙冠遠移要大于牙根遠移,表現為牙冠往遠中的傾斜移動。方振輝在上頜第二磨牙未萌或初萌狀態下,用Ni-Ti推簧遠移磨牙,磨牙遠中傾斜了7.0°。種植體支抗所選用的推磨牙遠移方法都是只在頰側加力,磨牙受力不均衡,加之主弓絲較細,剛性較差,容易變形,發生了明顯的遠中舌向扭轉。可以將磨牙移動的主弓絲換為直徑較粗、剛性較大的方絲,但力量要輕柔,以防止種植體脫落。在今后的治療中,可以考慮在頰腭兩側同時用螺旋推磨牙。用鐘擺矯治器推磨牙,遠中傾斜更加明顯,但水平方向的旋轉輕微,因為鐘擺矯治器較特殊,不像種植體支抗那樣有引導弓絲,磨牙移動的方式基本取決于矯治器的游離臂。鐘擺矯治器組是在舌側加力的,使磨牙遠移的力量來自于鐘擺矯治器遠中游離臂,一般用0.8mm的鋼絲彎制。磨牙移動特點是水平方向旋轉少,但是遠中傾斜明顯,并且磨牙有壓低。原因可能在于矯治器遠中游離臂所處平面低于磨牙舌側管平面位置,磨牙受到游離臂向后向上的力量。為了減少傾斜移動,磨牙舌側管的位置應向齦端靠近,同時調整好游離臂,使其對磨牙施加水平力量,減小垂直方向的分力。這一點應在制作鐘擺矯治器時加以注意。游離臂的末端反折后插入磨牙帶環的頰面管中,與磨牙成為一個整體,對磨牙的水平向控制較好,所以發生水平扭轉少。種植體支抗推磨牙到位后,上頜牙弓后段有定程度的擴大,鐘擺矯治器組牙弓擴大的程度明顯小,這是由矯治器的結構決定的,從塑膠基托后部延伸出來的是一個類似于圈簧的結構,從磨牙到圓圈的游離臂長短是固定的,所以磨牙向遠中移動時,不會過于偏向頰側,可能是平移甚至偏向腭側。
3.3.3 支抗的強弱:上頜磨牙遠移時的反作用力直接作用于上頜第一前磨牙,間接作用于上頜中切牙,所以通過上頜中切牙矢狀方向的位置變化可以反映支抗的情況。在種植體支抗組中,支抗基本無喪失。在鐘擺矯治器組,上頜中切牙唇傾度和凸度均有明顯增加。相比較,統計學意義明顯,說明種植體支抗明顯強于口內支抗。種植體的“絕對強支抗”作用正體現于此。Ibrahim grhan用腭側種植體推磨牙,種植體同樣發揮了強支抗作用。治療后經過測量分析發現:上頜第一前磨牙牙冠向遠中傾斜2.8°,上頜中切牙唇傾度增加1.0°。
3.3.4 治療中的矯枉過正:從下一步的治療來考慮,推磨牙遠移只是完成了第一步。一般都要在后面的治療中順次遠移上頜前磨牙、尖牙和內收上頜切牙。而這些后續治療會不可避免地消耗支抗,所以只將上下磨牙關系恢復為中性是不夠的,最好能夠矯枉過正,即有意將上頜磨牙向后推得過一些,使磨牙關系偏近中,會更有利于下一步的治療。此外,由于磨牙的遠中傾斜移動,牙冠移動距離大于牙根移動距離,所以過枉矯正也有利于牙根到達正常的位置,以后只需將牙冠近移就可以。而牙冠的移動比牙根容易得多。磨牙的遠中傾斜是推磨牙遠移的一個副作用,許多研究已經證明了這一點,遠中傾斜的變化范圍從4.0°~15.7°。Keles和Isguden利用滑動桿技術,比較好的控制了力的作用方向,使磨牙接近于整體移動。大多數安氏Ⅱ類錯牙患者上頜第一磨牙會發生圍繞腭根的近中舌向旋轉,而在推磨牙向遠中后,磨牙會有不同程度的遠中舌向旋轉,正好可以補償術前磨牙的位置不正。