綠色環(huán)保氧化硼高檔陶瓷釉料 等

綠色環(huán)保氧化硼高檔陶瓷釉料

綠色環(huán)保氧化硼高檔陶瓷釉料，為解決含氧化鉛的陶瓷釉面材料，避免陶瓷制品因鉛溶出對(duì)人體及環(huán)境造成危害等問(wèn)題而設(shè)計(jì)的。其制備方法如下：原料經(jīng)干燥，按重量百分比混合：SiO2 50％～60％、Al2O3 5％～8％、B2O3 15％～20％、Na2O 2％～8％、CaO 2%～8％、Li2O 1～2％、K2O 1％～2％、MgO 1％～2％、BaO 1％～2％、ZrO2 1％～2％。將原料充分?jǐn)嚢杌旌希^(guò)60目標(biāo)準(zhǔn)篩，入爐經(jīng)1250～1300℃熔制，燒好的熔塊流入水中淬冷，然后撈出經(jīng)烘干后制得綠色環(huán)保氧化硼高檔陶瓷釉料。本發(fā)明提供的綠色環(huán)保氧化硼高檔陶瓷釉料從根本上消除了高檔日用陶瓷產(chǎn)品中的鉛對(duì)人類的威脅，對(duì)延長(zhǎng)窯爐壽命等非常有利。

專利號(hào)：CN200910220614.X

一種紫外光固化數(shù)碼噴繪油墨及其制備方法

本發(fā)明公開(kāi)一種紫外光固化數(shù)碼噴繪油墨及其制備方法，該紫外光固化數(shù)碼噴繪油墨包括活性稀釋劑、低聚物、合成丙烯酸酯、納米色漿、光引發(fā)劑、分散穩(wěn)定劑和消泡劑，能夠在紫外光的照射下瞬間固化，滿足高速打印的要求，打印在玻璃、陶瓷、鋁塑板等硬質(zhì)材料上和PET、PC、PVC等軟質(zhì)材料上，均具有較好的附著力和良好的固化速度。

專利號(hào)：CN102093782A

日用雙層陶瓷碗及其制備方法

本發(fā)明提供一種日用雙層陶瓷碗技術(shù)，屬于陶瓷材料制品領(lǐng)域。其特征在于碗體有內(nèi)外兩層，兩層的上邊緣合在一起，碗體的外底部設(shè)有支撐腳，碗體為工業(yè)瓷。本發(fā)明的制備方法：配料、成形和燒成，其特征在于成形采用注漿成形方法，外底部單獨(dú)成形，采用粘合方式與碗體結(jié)合。日用雙層陶瓷碗保溫、不燙手，而且強(qiáng)度高，便于運(yùn)輸，使用壽命長(zhǎng)，又方便裝飾，健康環(huán)保，產(chǎn)品檔次高；制備方法科學(xué)合理、簡(jiǎn)單易行。

專利號(hào)：CN201010551262.9

一種熟料窯用陶瓷噴嘴的制備方法

一種熟料窯用陶瓷噴嘴用于高溫、高壓、強(qiáng)腐蝕等各種惡劣的生產(chǎn)環(huán)境中。其特征在于該陶瓷噴嘴為高鋁質(zhì)陶瓷材質(zhì)，原料的重量配比為：熟滑石2%～7%、石英3%～7%、蘇州土1%、Cr2O3 2%～5%、阿拉伯樹(shù)膠水溶液3%～8%、Na2CO3 0.1%～0.5%、α-Al2O3 61.9%~72.5%，阿拉伯樹(shù)膠水溶液與水的重量比為1:9。本發(fā)明采用注漿成形、高溫?zé)Y(jié)工藝，得到性能良好的陶瓷環(huán)。優(yōu)點(diǎn)：原料價(jià)格便宜；采用注漿成形，降低了生產(chǎn)成本；陶瓷環(huán)使用壽命長(zhǎng)，易于在工業(yè)上推廣。

專利號(hào)：CN201010579652.7

一種新形ZrO2陶瓷靶材的制備方法

一種新型ZrO2陶瓷靶材解決了目前使用的ZrO2陶瓷靶材只能作為小薄件用于個(gè)別小型磁控濺射設(shè)備中，以及噴涂到制品表面后的熱障性能降低等技術(shù)問(wèn)題。本發(fā)明的制備方法：以工業(yè)ZrO2粉末為原料，添加部分電熔釔穩(wěn)定ZrO2粉末，采用冷等靜壓成形工藝，通過(guò)燒成溫度來(lái)控制靶材的體積密度和氣孔率。本發(fā)明制備的ZrO2靶材，其密度為3.8～4.8g/cm3，顯氣孔率為12％～38％，適用于電子束物理氣相沉積。本發(fā)明采用的技術(shù)合理，工藝方法簡(jiǎn)單易行，可以滿足各種不同靶材的尺寸要求，并提高了ZrO2涂層的熱障性能。

專利號(hào)：CN200910220569.8

陶瓷蜂窩的制造方法

本發(fā)明提供一種陶瓷蜂窩結(jié)構(gòu)體，是具有由多孔隔壁形成的多個(gè)流路的一種陶瓷體。其特征在于多孔隔壁的氣孔率為45%～68％，具有如下的氣孔，即：平均細(xì)孔直徑為15～35μm；細(xì)孔直徑超過(guò)50μm的細(xì)孔容積為總細(xì)孔容積的10％～25％；細(xì)孔直徑為100μm以上的細(xì)孔容積為總細(xì)孔容積的1%～8％；細(xì)孔直徑小于10μm的細(xì)孔容積為總細(xì)孔容積的3%～10％。細(xì)孔分布偏差σ為0.45以下[其中，σ＝log(D20)-log(D80)，D20、D80在表示細(xì)孔直徑與累積細(xì)孔容積的關(guān)系的曲線中，D20的細(xì)孔容積占總細(xì)孔容積的20％，D80的細(xì)孔容積占總細(xì)孔容積的的80％，且D80＜D20]。

專利號(hào)：CN200980127387.4