張峣
高技術企業是我國促進經濟發展方式轉變的推動力量。在現實中,一方面,企業加大新技術研發的投資力度,不斷擁有新的知識產權。另一方面,高技術企業的知識產權保護又存在一些問題:如知識產權大量流失、閑置浪費;知識產權不當使用造成價值貶損;未依法維護造成知識產權滅失;因管理不善造成高技術企業失去本應取得知識產權的機會等。在分析流失原因的基礎上,需要通過營造外部環境、完善科技成果的轉化體系和制度、制定技術創新階段的保密措施和專利申請保護范圍的選擇等舉措,對知識產權進行保護。
一、高技術企業知識產權保護的原則
第一,制度化原則。高技術企業要成立專門機構,配備素質相應的人員,在研究國家相關法律法規的同時,注重企業內部制度與國家法律的統一,并將企業內部知識產權制度細化到技術研發、專利申請、發明創造的激勵、專利的管理、專利的利用等過程中。依靠制度的完備來克服企業、政府的隨機性,促進人們行為的預期和知識產權保護意識、價值觀念的形成。
第二,適應技術創新原則。技術創新是高技術企業發展的關鍵,而知識產權保護也必須適應這種不斷的技術創新。如在授權審查期限、權利有效期及對技術創造性、新穎性的要求上,都應不斷適應變化的技術發展。而且,由于現代科技已不同一種經驗技術(高技術尤其如此),而是一種實驗型技術,因此,對處于科研階段的理論創新或尚未成果化的技術,也必須加強保護。……