王卓華 謝天會(huì) 蔡留意
(1.鄭州大學(xué)口腔醫(yī)學(xué)院 河南 鄭州 450052;2.武警河南總隊(duì)醫(yī)院 口腔科 河南 鄭州 450052)
隨著國(guó)內(nèi)舌側(cè)正畸技術(shù)的提高及人群對(duì)此技術(shù)的認(rèn)可度增強(qiáng),舌側(cè)矯治的潛在患者在未來(lái)幾十年之內(nèi)會(huì)大量增加,因此在矯治技術(shù)上對(duì)舌側(cè)種植體支抗的理論指導(dǎo)需求也較為迫切。由于國(guó)內(nèi)舌側(cè)矯治開(kāi)展時(shí)間較短,與舌側(cè)矯治的相關(guān)的種植體植入部位的研究尚不多見(jiàn)。河南省內(nèi)也缺少對(duì)本省成年人腭部骨組織的形態(tài)測(cè)量。本文旨在通過(guò)CT 掃描,對(duì)河南地區(qū)成年正常牙合人群上頜骨腭部骨質(zhì)厚度進(jìn)行測(cè)量和分析,得出腭部骨組織的厚度分布規(guī)律,為本地區(qū)腭側(cè)種植體的植入提供參考,為臨床舌側(cè)矯治提供便利。
1.1 病例選擇 選取2012年1月至2013年1月于武警河南總隊(duì)醫(yī)院進(jìn)行健康體檢的52例患者。其中男37例,女15例,共52例。患者年齡26~53 歲,平均年齡為44.9 歲。納入標(biāo)準(zhǔn)如下:①河南籍25 歲以上成年人;②無(wú)全身性疾病,身體及骨骼發(fā)育正常;③無(wú)口腔疾病,牙周情況正常,無(wú)唇腭裂史、外傷史、正畸治療史;④以Angle 個(gè)別正常牙合為選擇標(biāo)準(zhǔn),尖牙磨牙均為安氏Ⅰ類關(guān)系,牙列中無(wú)牙列缺失(不包括第3 磨牙),牙弓形態(tài)基本正常,擁擠度3 mm 以內(nèi)。
1.2 256 層螺旋CT 掃描 使用荷蘭皇家飛利浦電子公司(Philips)生產(chǎn)的256 層極速CT (Brilliance iCT)(見(jiàn)圖1),對(duì)患者進(jìn)行顱頜面部體層掃描。掃描參數(shù):管電壓120 kV、管電流200 mA。掃描方法:囑患者仰臥,使用頭架對(duì)頭顱位置進(jìn)行固定,使用CT 模板對(duì)上下頜位置進(jìn)行固定,掃描基線為眶耳平面(Frankfort plane),探測(cè)器寬度為128 ×0.625 mm,重建層厚度為0.9 mm,掃描間隔為0.5 mm,床進(jìn)入速度158.7 mm/s,螺旋轉(zhuǎn)速為0.5 s,探測(cè)器螺距為0.992。
1.3 圖像重建 對(duì)患者掃描結(jié)束,將重建數(shù)據(jù)傳入Extended Briliance Workspace (4.0)工作站。數(shù)據(jù)錄入完畢后,使用儀器附帶的三維重建軟件,對(duì)患者顱頜面數(shù)據(jù)直接進(jìn)行三維重建(見(jiàn)圖2)。圖像重建成型后,使用附帶軟件將頸椎部分截除,僅保留上下頜骨,且確保圖像無(wú)重疊影,1024 ×1024 像素矩陣得到重建圖像數(shù)據(jù)。圖像重建完畢后,其可沿X 軸、Y 軸、Z 軸三個(gè)方向做360°任意旋轉(zhuǎn)、切割與放大,并可使用軟件附帶的測(cè)量功能輕松對(duì)功能參數(shù)的大小做出測(cè)量。
1.4 測(cè)量方法
1.4.1 坐標(biāo)系的建立 在水平軸面掃描數(shù)據(jù)中,從頭顱頂端向下開(kāi)始逐層尋找,以剛出現(xiàn)切牙孔為準(zhǔn),確定此時(shí)所在平面為確立坐標(biāo)軸所需平面。以切牙孔為坐標(biāo)軸原點(diǎn),以切牙孔所在冠狀面為X 軸,以腭中縫所在矢狀面為Y 軸設(shè)立坐標(biāo)系,以5 mm 為1 個(gè)單位劃分坐標(biāo)軸(見(jiàn)圖3)。與X 軸平行的平面以英文單詞plane 首字母P 作為簡(jiǎn)寫,切牙孔所在冠狀平面為P0,其后方每隔5 mm 所劃分的與其平行的冠狀平面分別標(biāo)記為P1,P2,P3 等。與Y 軸平行的平面以英文單詞distance 首字母D 作為簡(jiǎn)寫,腭中縫所在矢狀面為D0,其右側(cè)(數(shù)據(jù)測(cè)量時(shí)圖片右側(cè),即測(cè)量者右側(cè))每隔5 mm所劃分的與其平行的矢狀平面分別標(biāo)記為+D1,+D2,+D3,其左側(cè)(同前,測(cè)量者左側(cè))此種平面分別標(biāo)記為-D1,-D2,-D3。例如:切牙孔的坐標(biāo)表示為P0D0,P3 +D3 表示距切牙孔向后15 mm,腭中縫向右15 mm 的兩平面相交所成點(diǎn)。
1.4.2 數(shù)值測(cè)量 如上建立坐標(biāo)系后,坐標(biāo)系中出現(xiàn)37 個(gè)坐標(biāo)點(diǎn)(切牙孔所在點(diǎn)P0D0 不做測(cè)量)。首先在水平軸面選定所要測(cè)量的坐標(biāo)點(diǎn),之后確定該點(diǎn)所在矢狀切面,并在此矢狀切面上,利用儀器附帶數(shù)據(jù)測(cè)量軟件,對(duì)該點(diǎn)所在處垂直骨厚度做出數(shù)據(jù)測(cè)量(見(jiàn)圖4)。
1.4.3 計(jì)算種植體可植入率 垂直骨量大于8 mm的區(qū)域,被認(rèn)為是可以成功植入種植體的區(qū)域。通過(guò)數(shù)據(jù)測(cè)量,計(jì)算37 個(gè)位點(diǎn)微種植體的可植入率。計(jì)算公式為:8 mm 種植體可植入率=(該部位垂直骨量≥9 mm 的患者例數(shù)/總患者例數(shù))×100%。

圖1 philips brilliance iCT

圖2 256 CT 三維重建

圖3 以切牙孔為原點(diǎn)確定坐標(biāo)軸,并選定需要測(cè)量的位點(diǎn)

圖4 在矢狀面上測(cè)量該位點(diǎn)垂直向骨組織厚度
1.5 統(tǒng)計(jì)學(xué)分析 采用SPSS 17.0 統(tǒng)計(jì)軟件進(jìn)行統(tǒng)計(jì)學(xué)分析。使用t 檢驗(yàn),比較不同測(cè)量部位骨垂直厚度的性別差異;使用卡方檢驗(yàn),比較37 個(gè)部位可植入率的性別差異,檢驗(yàn)水準(zhǔn):雙側(cè)α=0.05。
2.1 骨厚度測(cè)量情況 腭部37 個(gè)虛擬種植體植入部位的平均骨厚度情況為:①女性平均骨厚度最大的部位為:P0-D2,平均值為(19.3±3.7)mm;平均骨厚度最小部位為:P5 +D2,平均值為(2.1±0.8)mm;兩者厚度相差為:17.2 mm。②男性平均骨厚度最大的部位為:P0 +D2,平均值為(18.6±3.1)mm;平均骨厚度最小部位為:P5 +D2,平均值為(3.1±1.1)mm;兩者厚度相差為:15.5 mm。③合計(jì)總平均骨厚度最大的部位為:P0 +D2,平均值為(18.7±3.0)mm;平均骨厚度最小部位為:P5 +D2,平均值為(2.8±1.1)mm;兩者厚度相差為:15.9 mm。其中,過(guò)切牙孔的冠狀平面上4 個(gè)位點(diǎn)P0-D2,P0-D1,P0 +D1,P0 +D2,其平均骨厚度均大于15 mm。見(jiàn)圖5。
2.2 種植體可植入率 當(dāng)植入長(zhǎng)度為8 mm 微螺釘種植體時(shí),女性可植入率較高的10 個(gè)種植部位為:P0-D2,P0-D1,P0 +D1,P0 +D2,P1-D2,P1D0,P1 +D2,P2-D3,P2 +D3,P3-D3,P4-D3,在這些部位中,可植入率最高為:100.0%,最低為:60% (其中可植入率最低的位點(diǎn)為兩個(gè):P1+D2,P4-D3);男性可植入率較高的10 個(gè)種植部位為:P0-D2,P0-D1,P0 +D1,P0+D2,P1-D2,P1-D1,P1D0,P1 +D1,P1 +D2,P2-D3,P2+D3,可植入率最高為:100.0%,最低為:67.6% (其中可植入率最低的位點(diǎn)為2 個(gè):P1 +D1,P2-D3);合計(jì)可植入率較高的10 個(gè)種植部位為:P0-D2,P0-D1,P0+D1,P0+D2,P1-D2,P1-D1,P1D0,P1 +D2,P2-D3,P2+D3,可植入率最高為:100%,最低為:63.5%。其中,過(guò)切牙孔的冠狀平面上4 個(gè)位點(diǎn)P0-D2,P0-D1,P0+D1,P0 +D2,其種植體可植入率均為100.0%。腭中縫處骨質(zhì)厚度較同一水平面中心部位稍高,但較兩側(cè)腭部邊緣部位稍低。

圖5 腭部骨厚度變化趨勢(shì)

圖6 腭側(cè)種植體與舌側(cè)矯治的結(jié)合
3D 重建可以建立顱頜面部骨組織立體形態(tài)圖像,清晰重現(xiàn)牙齒、骨骼及其間的位置關(guān)系,方便距離、角度的測(cè)量,具有定位準(zhǔn)、無(wú)重疊、無(wú)偽影、隨意性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),可以充分彌補(bǔ)二維圖像影像失真、組織結(jié)構(gòu)重疊、不能獲取立體重建影像、無(wú)法對(duì)骨密度作出評(píng)估等。
在口腔正畸學(xué)中,“支抗”被定義為:支持矯治力,抵抗矯治力反作用力的單元[1]。種植體支抗作為一種強(qiáng)支抗,在正畸治療中十分關(guān)鍵。關(guān)于種植體的適宜長(zhǎng)度,國(guó)內(nèi)學(xué)者蘭澤棟等[2]與臺(tái)灣學(xué)者Tseng 等[3]皆認(rèn)為:支抗用微種植體長(zhǎng)度越長(zhǎng),其與骨的接觸面積越多,骨界面的應(yīng)力分布也更趨于合理,從而增加了微種植體的抗載荷能力,其成功率與長(zhǎng)期穩(wěn)定性越高。樸孝尚[4]認(rèn)為種植體在骨內(nèi)長(zhǎng)度小于6 mm,是臨床種植體支抗松脫的原因之一。高子童[5]通過(guò)研究的出結(jié)論:Ⅰ、Ⅱ類骨質(zhì)微種植體支抗的最佳長(zhǎng)度為5.0~11.0 mm。Ⅲ、Ⅳ類骨質(zhì)微種植體支抗的最佳長(zhǎng)度為6.5~9.5 mm。國(guó)內(nèi)王震東等[6]通過(guò)三維有限元分析認(rèn)為:8 mm 長(zhǎng)度的微種植體,在承受非軸向力時(shí),種植體頸部應(yīng)力值最小。Kokich[7]通過(guò)研究得出結(jié)論:種植體植入過(guò)程中,若預(yù)留1 mm 的緩沖區(qū)域,可提高種微植體支抗的成功率。
硬腭部適宜種植體植入的原因有:23 歲以上成人腭中縫多已骨化完畢,硬腭區(qū)域有較好的手術(shù)視野,被覆角化上皮可以使種植袖口達(dá)到較快封閉不易引起組織腫脹,影響種植體植入的干擾因素(牙根、神經(jīng)、血管等)較少,便于與舌側(cè)托槽相互配合等[8]。
隨著國(guó)外和國(guó)內(nèi)舌側(cè)矯治的蓬勃發(fā)展以及經(jīng)濟(jì)水平的提高,越來(lái)越多的成年患者為了牙齒及頜面部的美觀,開(kāi)始尋求舌側(cè)正畸治療。腭部種植體因其植入部位的特殊性,極大程度的地方便了舌側(cè)矯治中的對(duì)伸長(zhǎng)磨牙的壓低、對(duì)磨牙內(nèi)翻以及對(duì)前牙舌傾的控制,是達(dá)到舌側(cè)矯治效果不可或缺的技術(shù)手段(見(jiàn)圖6)。
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