王志陽
(遼寧城市建設職業技術學院,遼寧 沈陽 110000)
面向集成電路的大尺寸單晶石墨烯的可控制備方法
王志陽
(遼寧城市建設職業技術學院,遼寧 沈陽 110000)
近些年來,由于人們生活水平在不斷提高,電子產品已經被人們廣泛應用到實際生活中。在集成電路中,大尺寸單晶石墨烯的制備具有至關重要的作用。因此,本文主要研究集成電路中大尺寸單晶石墨烯的可控制備方法。
集成電路;大尺寸單晶石墨烯;制備方法
由于大尺寸單晶石墨烯具有穩定性與安全性較高等特點,人們將其安裝在集成電路中,能夠保證電力資源得到更好的利用,提高電路的運行效率。但是,在制備大尺寸單晶石墨烯時,存在很大難度,在一定程度上影響了電力企業的發展。基于此,本文主要分析集成電路的大尺寸單晶石墨烯的可控制備方法,從而保證單晶石墨烯能夠得到更好的利用,促進電力企業快速發展。
石墨烯屬于二維晶體,由于其內部的電子與質子運動速度較快,具有很高的穩定性,在普通導體中,其內部的質子與電子運動速率遠遠低于石墨烯內部的質子運動速率。石墨烯中的電子也常常被人們稱為“荷子”,石墨主要由大量的石墨分子組成,由于分子之間的吸引力較小,經常分離成單層石墨,這些僅具有一個分子的石墨層就是石墨烯。根據大量的研究數據表明,由于石墨烯的穩定性較強,細菌很難在其表面生長,因此,利用石墨烯的這種特性,可以用來制作環保包裝,減少細菌對系統的影響。
大尺寸單晶石墨烯的制備方法主要包括機械制備法、SIC外部延長生產法、化學控制沉積法等。采用機械制備法,雖然能夠提高石墨烯的反應速率,但是其生產成本過高,會降低企業的經濟效益。當工作人員采用SIC外部延長生產法制備大尺寸石墨烯時,石墨烯的生產成本較高,不利于企業的穩定發展,因此,為了不斷提高企業的經濟效益,企業中的工作人員在實際工作中,要嚴格控制石墨烯的反應溫度,從而降低大尺寸單晶石墨烯的生產成本。采用CVD法制備大尺寸單晶石墨烯,能夠幫助工作人員更好的控制石墨烯反應時間,保證其生產質量。同時,CVD法制備的石墨烯穩定性較高,生產成本較低,已經被人們廣泛應用到大尺寸單晶石墨烯的生產當中。
利用CVD法制備大尺寸單晶石墨烯,在高溫狀態下,利用甲烷作為生產原料,氫氣作為保護氣體。石墨烯的生產裝置主要包括石墨反應室與氣體加熱設備、氣體統計系統、真空反應系統與冷卻反應設備等。在實驗過程中,工作人員需要對生產設備進行預熱,預熱溫度一般控制在1077攝氏度左右,預熱一段時間之后,可以將甲烷氣體投放到反應室中,反應時間大約在40分鐘左右,在這個時間段內,需要保證反應溫度,讓甲烷的反應速率加快。同時,在反應的過程中,可以在反應室中加入適量的氫氣,減少安全事故的發生。
四邊形石墨烯的生產溫度較高,一般維持在1000攝氏度左右,當反應溫度高,不但會保證石墨烯的生產質量,還能夠讓甲烷等原料得到更好的利用。如果反應溫度過低,石墨烯表面的吸附能力會明顯下降,影響四邊形石墨烯的生產質量。因此,四邊形石墨烯生產人員在實際工作中,需要嚴格控制反應溫度,提高石墨烯的反應速度,保證四邊形石墨烯的生產質量。
四邊形單晶石墨烯主要分為兩種類型,一種是有棱角的四邊形,另一種是沒有穩定狀態的四邊形石墨烯,由于生長溫度,產生的石墨烯形態也不同。同時,由于四邊形石墨烯沒有固定形狀,常常出現較長的生長結構,具體形態見圖1。在四邊形石墨烯中,晶體之間存在一定的界限,每個四邊形石墨烯中的晶體導向存在很多差異,當晶體之間的距離較大時,石墨烯會出現生長緩慢現象。可以在石墨烯中添加催化劑,提高石墨烯的反應速率。另外,如果石墨烯的反應溫度不穩定,不但會影響其生長速率,還會降低反應速度。

圖1 長形石墨烯形狀
四邊形石墨烯在生長的過程中,如果反應溫度過高,很容易形成六邊形石墨烯,根據實驗數據顯示,當反應溫度由1000攝氏度升到1077攝氏度時,反應室表面的銅箔會出現液態。在石墨烯生長的過程中,石墨表面的碳與晶體結構會快速分離,并由四邊形石墨烯變成六邊形石墨烯。1077攝氏度下的單晶石墨烯見圖2。六邊形石墨烯與四邊形石墨烯有很多相同點,由于銅箔表面出現液態,石墨中的晶體會逐漸變形,并且反應速度很快。同時,在反應的過程中,由于加入大量的保護氣,對石墨烯的變形也產生一定的影響,不但能夠加快反應速度,還會保證六邊形石墨烯的生產質量。

圖2 1077攝氏度下的六邊形石墨烯形態
石墨烯在反應的過程中,會產生大量的石墨原子,這些原子會影響反應速率,因此,為了保證六邊形石墨烯的生產質量與反應速率,為了保證石墨烯生長成正六邊形,可以在反應室內添加適量穩定劑,并嚴格控制反應溫度,保證石墨烯生長成標準的六邊形石墨烯。石墨烯在生長的過程中,反應室中的銅箔也會發生反應,隨著反應的進行,銅箔厚度逐漸下降。因此,為了保證反應速度,需要定期更換反應室中的銅箔。
當大尺寸單晶石墨烯出現重疊時,說明反應室的溫度過高,或者是石墨烯中的晶體含量過高,影響反應的正常進行。在石墨烯生長的過程中,一旦兩個石墨烯晶體出現重疊,會產生阻止反應的晶體。同時,隨著溫度的不斷升高,會影響晶體對石墨烯的正常生長,影響大尺寸單晶石墨烯的穩定生長。由于重疊的石墨烯主要生長在銅箔上,因此,需要定期對銅箔進行清理,提高銅箔的限制性,從而減少大尺寸單晶石墨烯重疊現象的產生。
除此之外,通過不斷向反應室內添加甲烷與保護氣體,保證大尺寸單晶石墨烯能夠正常生長。在單晶石墨烯生長的過程中,還要嚴格控制生長溫度,如果溫度過高,大尺寸單晶石墨烯生長速度較快,使得反應室中的石墨烯出現重疊。如果生長溫度過低,會影響碳原子的生長,降低其生長效率。同時,要保證大尺寸單晶石墨烯的生長空間,盡可能提供一些大的生長空間,保證其生長質量,工作人員還要嚴格控制甲烷與氫氣的比例,并嚴格控制反應室中的氣流比,從根本上保證大尺寸單晶石墨烯的生長質量。
綜上所述,在不同的溫度下,大尺寸單晶石墨烯的形態與穩定性有所不同,工作人員需要根據石墨烯的實際情況,合理控制反應溫度,保證石墨烯的生產質量。但是,相關工作人員在實際工作中,仍然會遇到很多問題,因此,為了提高大尺寸單晶石墨烯的生產質量,工作人員需要不斷學習國內外先進的石墨烯制備知識,提高自身的專業技能。
[1]高鴻鈞,黃立,申承民. 與硅技術融合的石墨烯類材料及其器件的研究立項報告[J]. 科技創新導報,2016,(11):167-168.
[2]陶瑩,楊全紅. 石墨烯的組裝和織構調控:碳功能材料的液相制備方法[J]. 科學通報,2015,(33):3293-3305.
[3]劉平,龍明生,李銘. 銅鎳合金催化制備大面積均勻的少層石墨烯[J]. 材料科學與工程學報,2016,(05):629-633+664.
[4]李昕,張娟,李全福,楚朋志,王小力,劉衛華. 面向集成電路的大尺寸單晶石墨烯的可控制備方法[J]. 西安交通大學學報,2015,(06):103-109.
[5]姜鴻基,毛炳雪. 一鍋溶劑熱法制備具有不同形貌特征的CdSe量子點負載石墨烯[J]. 無機化學學報,2016,(11):2305-2314.
TN304.9
:A
:1671-0711(2017)09(下)-0138-02