陳曉東 麥麗碧 許潔瑜 肖紅新
(廣東省工業分析檢測中心,廣州510650)
鈷鉻合金最早用于制作人工關節,具有杰出的生物相容性,由于其不含對人體有害的鎳元素與鈹元素,安全可靠且價格合理,目前已廣泛用到口腔領域。鈷鉻烤瓷合金主要成分為鈷、鉻、鉬、鎢,其中鈷的質量分數為55%~68%,鉻的質量分數為25%~32%,鎢的質量分數為6%~10%,鉬的質量分數為4%~6%,合金中常含有少量的雜質元素銅、鎳、硅、鎵、鋁、鉭、銠、錳、硼、碳等[1]。其中雜質元素硅對鈷鉻烤瓷合金的晶粒成型、鑄造及耐腐蝕性能影響較大,所以應嚴格控制合金中硅的含量。因此鈷鉻烤瓷合金中硅量的準確測定就顯得十分重要。目前測定硅的常用方法有重量法[2-3]、滴定法[4-5]、X射線熒光光譜法[6]、電感耦合等離子體原子發射光譜法(ICP-AES)[7-10]、電 感 耦 合 等 離 子 體 質 譜 法 (ICPMS)[11-12]和分光光度法[13-15]等。分光光度法因其操作簡單,所用儀器價格低而被廣泛應用。
鈷鉻烤瓷合金具有較強的金屬穩定性和耐腐蝕性,在王水和氫氟酸介質中經高溫高壓才能分解完全。本文采用高壓密閉消解法分解試樣,鉬藍分光光度法[16-17]測定鈷鉻烤瓷合金中的硅量。
Secura225D-1CN萬分之一電子分析天平(北京賽多利斯科學儀器有限公司);723可見光分光光度計(上海奧譜勒儀器有限公司)。
硝酸、氫氟酸、硫酸均為分析純,硼酸飽和溶液(儲存于塑料瓶中),氨水(1+3),硫酸(1+3),硫酸(1+11),高錳酸鉀溶液(30 g/L),鉬酸銨溶液(100 g/L,儲存于塑料瓶中),抗壞血酸(100 g/L,用時現配)。
稱取0.10 g(精確至0.000 1 g)試樣于聚四氟乙烯高壓消解罐中,加入10 m L鹽酸、3 m L硝酸和1.5 m L氫氟酸于預熱至150℃的烘箱中加熱溶解,冷卻后取出,移入100 m L聚四氟乙烯容量瓶中,加入50 m L硼酸飽和溶液,以水稀釋至刻度,混勻。移取5 m L溶液于100 m L容量瓶中(一式兩份,一份作顯色液,一份作參比液),在顯色液中加入3滴2,4-二硝基酚(1.0 g/L),滴加氨水(1+3)至溶液恰變成黃色,再滴加硫酸(1+11)至溶液黃色消失并過量4 m L。滴加高錳酸鉀(30 g/L)至溶液呈淡紅色,放置5 min,用水稀釋至30 m L。加入10 m L鉬酸銨溶液(100 g/L),混勻,在20~25℃水浴中放置20 min。再加入20 m L硫酸(1+3),混勻,放置10 min。加入1 m L抗壞血酸溶液(100 g/L),用水稀釋至刻度,混勻,放置30 min。隨同試料做空白實驗。
將部分溶液移入1 cm比色皿中,以隨同試料的空白溶液為參比,于分光光度計波長810 nm處,測定其吸光度。從相應的工作曲線計算硅的質量。
工作曲線的繪制:準確移取0.00、0.50、1.00、1.50、2.00 m L硅標準溶液(50μg/m L),分別置于5個100 m L容量瓶中,分別加入5 m L隨同試料的空白溶液,以下按實驗方法(從加入3滴2,4-二硝基酚開始)進行。移取部分試液于1 cm比色皿中,以硅質量為“零”的溶液為參比,于分光光度計波長810 nm處,測定其吸光度。以硅的質量為橫坐標,吸光度為縱坐標,繪制工作曲線。
鈷鉻烤瓷合金強度高、硬度大,具有良好的耐腐蝕性,溶解時一般需要在高溫高壓條件下于王水和氫氟酸介質中進行[18]。稱取0.10 g(精確至0.000 1 g)樣品于聚四氟乙烯燒杯中,加入鹽酸、硝酸和氫氟酸,于電熱板上加熱;另取0.10 g(精確至0.000 1 g)樣品于聚四氟乙烯高壓消解罐中,加入鹽酸、硝酸、氫氟酸,于預熱至150℃的烘箱中加熱溶解7 h。實驗結果見表1。

表1 用酸量實驗Table 1 Acid consumption experient
從表1可以看出,使用聚四氟乙烯燒杯,在電熱板加熱條件下,用鹽酸、硝酸、氫氟酸混酸24 h不能完全溶解樣品,并且在此條件下硅和氫氟酸反應生成的SiF4易揮發掉而使測定結果偏低,此溶解方法不可行;而將樣品置于聚四氟乙烯高壓消解罐中經高溫高壓,樣品可完全溶解,溶液清亮。由實驗可知,0.1 g鈷鉻烤瓷合金樣品在10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.0 m L氫氟酸介質中經150℃高溫,7 h加熱可以完全溶解。實驗選擇10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.5 m L氫氟酸溶解樣品。
分別稱取0.10 g(精確至0.000 1 g)樣品(ωSi=1.49%、ωCr=27.52%、ωCo=61.38%、ωW=9.33%、ωMn=0.25%)于聚四氟乙烯高壓消解罐中,加入10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.5 m L氫氟酸,于預熱至150℃的烘箱中加熱不同的時間。實驗結果如表2。

表2 消解時間實驗Table 2 The time of dissolving experient
實驗結果表明0.10 g鈷鉻烤瓷合金樣品在聚四氟乙烯高壓消解罐中,加入10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.5 m L氫氟酸,于150℃的烘箱中加熱4 h以上可完全溶解。實驗采用加熱時間為4 h。
鈷鉻烤瓷合金主要成分為鈷、鉻、鎢、鉬等,合金中少量的銅、鎳、鎵、鋁、鉭、銠、錳、硼、碳等不影響硅的測定[19]。因此,主要考慮鈷、鉻、鎢、鉬對硅測定的影響。
按鈷鉻烤瓷合金中的元素最高含量進行實驗。移取1.00 mg硅標準溶液置于聚四氟乙烯高壓消解罐中,分別加入鈷、鉻、鎢和鉬元素標準溶液,再加入10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.5 m L氫氟酸,于150℃的烘箱中加熱4 h,按照實驗方法進行測定。測定結果如表3。

表3 共存離子干擾試驗Table 3 Instrument of the coexisting ions(n=5)
試驗表明,上述共存元素對硅的測定無干擾。
對兩個已知成分的鈷鉻烤瓷合金(1號樣:ωSi=1.49%、ωCr=27.52%、ωCo=61.38%、ωW=9.33%、ωMn=0.25%;2號樣:ωSi=1.05%、ωCr=25.47%、ωCo=61.63%、ωW=5.56%、ωMo=5.12%、ωFe=0.63%、ωMn=0.17%)按照實驗方法獨立地進行11次測定,實驗結果如表4。實驗結果表明方法精密度高,穩定性好。

表4 精密度實驗Table 4 Precision test(n=11)
為了考察本方法的準確度,在試樣(ωSi=1.49%、ωCr=27.52%、ωCo=61.38%、ωW=9.33%、ωMn=0.25%)中分別加入不同量的硅,進行加標回收實驗,測試過程與樣品分析過程一致,結果如表5。由表5可知,在擬定的實驗條件下,硅加標回收率在98.9%~101%,符合常量分析要求。
實驗表明,該方法精密度高、準確度及穩定性好,能夠滿足鈷鉻烤瓷合金中硅含量測定的要求。

表5 加標回收實驗Table 5 Recovery test
[1]汪大林,江中明.牙科合金材料應用研究現狀[J].特種鑄造及有色合金(Special-cast and Non-ferrous Alloys),2010(增刊2)::76-78.
[2]劉春,王丹,張翼明,等.高氯酸脫水-重量法結合電感耦合等離子體原子發射光譜法測定富鈮渣中二氧化硅[J].冶金分析(Metallurgical Analysis),2014,34(9):29-33.
[3]馬麗.動物膠凝聚重量法測定磁鐵礦中二氧化硅[J].中國無機分析化學(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2013,3(3):91-92.
[4]董禮男,朱春要,張良芬,等.氟硅酸鉀沉淀-酸堿滴定法測定超低碳碳化稻殼中二氧化硅[J].中國測試(China Measurement&Testing Technology),2015,41(8):48-51.
[5]王娜,滕新華,王力強,等.酸溶-氟硅酸鉀滴定法測定硅鉛鋅礦中二氧化硅[J].冶金分析(Metallurgical Analysis),2015,35(6):65-69.
[6]蘭福蔭,劉天一,李先和,等.粉末壓片-X射線熒光光譜法快速測定生石灰粉中氧化鈣和二氧化硅[J].中國無機分析化學(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2017,7(2):34-37.
[7]張世龍,黃啟華,胡小明,等.電感耦合等離子體原子發射光譜法測定鎢礦石中硅、鐵、鋁、鈦、鎢、錫和鉬的含量[J].理化檢驗:化學分冊(Physical Testing and Chemical Analysis:Part B Chemical Analysis),2016,55(10):1237-1240.
[8]龔靜,張文莉,邱德仁,等.電感耦合等離子體原子發射光譜法測定鋼鐵中微量硅[J].分析化學(Chinese Journal of Analytical Chemistry),2000,28(8):971-973.
[9]鐘國生.電感耦合等離子體原子發射光譜(ICP-AES)法測定ADC12中硅[J].中國無機分析化學(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2017,7(1):63-65.
[10]杜米芳.微波消解-電感耦合等離子體原子發射光譜法測定鎳基合金中硅[J].冶金分析(Metall-urgical Analysis),2017,37(4):71-75.
[11]TAKAKU Y,MASUDA K,TAKAHASHI T.Determination of trace silicon in ultra-high-purity water by inductively coupled plasma mass spectrometry[J].Anal Chem,1994(9):1385-1387.
[12]石蕊,金獻忠.激光剝蝕電感耦合等離子體質譜法測定純鋁及鋁絲中鐵、硅、銅、錳、鈦、鋅、鉻和鎳[J].理化檢驗:化 學 分 冊 (Physical Testing and Chemical Analysis:Part B Chemical Analysis),2015,51(6):837-841.
[13]毛端平,何西平,杜建俠,等.硅鉬藍分光光度法測定濕法磷酸中的二氧化硅[J].中國無機分析化學(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2017,7(3):72-74.
[14]于亞輝,張翼明,王東杰,等.硅鉬藍分光光度法測定鎂釹合金中硅[J].冶金分析(Metallur-gical Analysis),2016,36(5):49-52.
[15]段文靜,石林.硅鉬藍分光光度法測定硅肥中有效硅[J].分析科學學報(Journal of Analytical Science),2015,31(3):389-392.
[16]國家標準化管理委員會.GB/T 4698.3—1996海綿鈦、鈦及鈦合金化學分析方法 鉬藍分光光度法測定硅量[S].北京:中國標準出版社,1997.
[17]曹海峰.鉬藍分光光度法測定鉛精礦中二氧化硅[J].中國無機分析化學(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2016,6(4):41-45.
[18]麥麗碧,許潔瑜,陳小蘭,等.碘量法測定鈷鉻烤瓷合金中的鈷[J].材料研究與應用(Materials Research and Application),2016,10(3):229-232.
[19]曹國強,李興利,鄭明星,等.硅鉬酸鹽光度法測定硅鐵中硅的含量[J].化學分析計量(Chemical Analysis and Meterage),2006,15(1):45-46.