張保中,張 挺,王 飛,廖毓芝,王兆偉,張一鳴,袁 磊


1.2 電極置入方法 顱骨鉆孔位置的選擇,原則上由電極擬接觸的大腦區域決定。最常用顱骨鉆孔中心位置是耳廓尖上、后各2.0 cm。此處相當于外側裂后支末端,這樣電極可較準確地分別放置于額、顳、頂和枕葉的表面。具體操作是:取頭皮縱向直線切口3.0~5.0 cm,依次切開頭皮各層組織,剝開顱骨骨膜;顱骨鉆孔,必要時可用咬骨鉗適當擴大骨孔;“十”字打開硬腦膜和蛛網膜,可見腦脊液流出;按需要向不同方向分別置入不同規格的條狀電極;自深及淺依次分層縫合頭皮組織。電極導線從頭皮另戳切口引出、固定,連接腦電圖儀進行VEEG監測。
2.2 并發癥 65例中,發生并發癥1例,并發癥率1.54%。該例并發癥為局部腦組織挫裂傷,原因是放置電極時將電極插入了附近的腦組織。該組患者無永久性神經功能障礙并發癥。
3.2 顱骨鉆孔硬腦膜下電極置入VEEG監測的安全性 顱內電極VEEG作為一種有創檢查具有一定的風險,可以出現感染、出血、永久性神經功能障礙等嚴重并發癥,甚至可導致死亡。文獻[8]顯示,顱內電極置入出現永久性神經功能障礙的概率比切除性手術低得多,只有0.5%,導致死亡的更是極為罕見。Ravindra等[9]研究發現,截至2013年,文獻報道的顱內電極置入導致死亡的只有5例。本研究顯示,顱骨鉆孔硬腦膜下電極置入VEEG監測的并發癥率1.54%,未造成永久性神經功能障礙。打開硬腦膜和蛛網膜時盡量保持軟腦膜的完整、置入電極時勿用暴力可避免將電極誤插入腦組織造成局部腦挫裂傷。
盡管本研究出現1例極為罕見的死亡病例。我們仍然同意大多數研究者的結論:顱內電極置入是一種非常安全的檢查方法,并發癥率極低,死亡極為罕見,是完全能為醫師和患者所接受的一種有創檢查。
