顱骨鉆孔硬腦膜下電極置入視頻腦電監測在致灶定位中的應用

張保中，張 挺，王 飛，廖毓芝，王兆偉，張一鳴，袁 磊

1 對象與方法

1.2 電極置入方法 顱骨鉆孔位置的選擇，原則上由電極擬接觸的大腦區域決定。最常用顱骨鉆孔中心位置是耳廓尖上、后各2.0 cm。此處相當于外側裂后支末端，這樣電極可較準確地分別放置于額、顳、頂和枕葉的表面。具體操作是：取頭皮縱向直線切口3.0～5.0 cm，依次切開頭皮各層組織，剝開顱骨骨膜；顱骨鉆孔，必要時可用咬骨鉗適當擴大骨孔；“十”字打開硬腦膜和蛛網膜，可見腦脊液流出；按需要向不同方向分別置入不同規格的條狀電極；自深及淺依次分層縫合頭皮組織。電極導線從頭皮另戳切口引出、固定，連接腦電圖儀進行VEEG監測。

2 結 果

2.2 并發癥 65例中，發生并發癥1例，并發癥率1.54%。該例并發癥為局部腦組織挫裂傷，原因是放置電極時將電極插入了附近的腦組織。該組患者無永久性神經功能障礙并發癥。

3 討 論

3.2 顱骨鉆孔硬腦膜下電極置入VEEG監測的安全性 顱內電極VEEG作為一種有創檢查具有一定的風險，可以出現感染、出血、永久性神經功能障礙等嚴重并發癥，甚至可導致死亡。文獻[8]顯示，顱內電極置入出現永久性神經功能障礙的概率比切除性手術低得多，只有0.5%，導致死亡的更是極為罕見。Ravindra等[9]研究發現，截至2013年，文獻報道的顱內電極置入導致死亡的只有5例。本研究顯示，顱骨鉆孔硬腦膜下電極置入VEEG監測的并發癥率1.54%，未造成永久性神經功能障礙。打開硬腦膜和蛛網膜時盡量保持軟腦膜的完整、置入電極時勿用暴力可避免將電極誤插入腦組織造成局部腦挫裂傷。……