論集成電路布圖設計知識產(chǎn)權的刑法保護

趙軍

摘 要：集成電路布圖設計（以下簡稱布圖設計）是當今世界最為活躍也最為需要保護的前沿性知識產(chǎn)權，無論是從經(jīng)濟角度還是其他戰(zhàn)略角度，都是無可替代的。我國在保護布圖設計的過程中雖然吸納了國外的優(yōu)秀立法經(jīng)驗，給予了布圖設計行政立法保護，但是忽視了布圖設計的刑法保護。由于布圖設計蘊含巨大的經(jīng)濟價值，專利、著作權等又不能提供有效保護，從長遠發(fā)展戰(zhàn)略來看對侵權行為有必要予以入罪設置。因此，布圖設計理應和專利、著作權一樣完全有必要給予刑法保護。

關鍵詞：集成電路布圖設計;集成電路;刑法保護;知識產(chǎn)權

中圖分類號：D923.4文獻標識碼：A文章編號：2095-4379-（2019）02-0040-04

Abstract： Layout-designs of integrated circuits（hereinafter referred to as layout-design）is the most active in the world today is also the need to protect the frontier of intellectual property rights，whether from the perspective of economic or other strategic point of view，is irreplaceable in our country in the process of protection of layout-designs while absorbing the excellent foreign legislative experience，given the layout-design administrative legislation protection，but ignored the layout design of the criminal law protection due to the layout design contains the huge economic value，such as patent，copyright and does not provide effective protection，from the long-term development strategy is necessary for the infringement crimes set so，layout design is supposed to and patent Copyright is also necessary to give criminal protection

Key words：Integrated circuit;Protection of criminal law;Integrated circuit layout design;Intellectual property rights

一、問題的提出

隨著AI、物聯(lián)網(wǎng)等高科技的興起，我國集成電路①產(chǎn)業(yè)也進入了轉型升級的黃金期，僅2018年上半年國家知識產(chǎn)權局共收到布圖設計申請量1993件，有效布圖設計1636件②。根據(jù)中國半導體協(xié)會的相關統(tǒng)計;近十幾年間，其銷售額空前上漲，僅2017年就到達到5411.3億元③。產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)模已經(jīng)占據(jù)了全球市場份額的一半以上，有數(shù)據(jù)顯示已經(jīng)達到60%。與發(fā)達國家的增速相比，我國布圖設計產(chǎn)業(yè)發(fā)展速度快，進步空間更加大。其市場規(guī)模和前景更是達到了與石油產(chǎn)業(yè)不相上下的地位。習近平曾指出“要攻克高端通用芯片和集成電路裝備。”④2014年兩會期間政府工作報告中李克強也表示：“要在集成電路等方面趕超先進”⑤。

與布圖設計的發(fā)展速度相比，《集成電路布圖設計保護條例》未能有效制止侵權行為，以至不能有效的保護布圖產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。擺在面前的一大突出的問題，就是無法對侵害布圖設計的“犯罪”行為進行懲罰和預防。從知識產(chǎn)權的立法歷史來看，它的重要特點就是和刑法的關聯(lián)度在一直增加，⑥布圖設計并沒有得到對等地位。因此，對《條例》提出了更高層次的專業(yè)保護需求，加強刑法保護已經(jīng)迫在眉睫。

二、集成電路布圖設計侵權行為入刑的應然性與可然性

（一）布圖設計入刑的應然性

布圖設計不僅是信息社會構建的基礎，還在更新產(chǎn)品結構和性能等方面發(fā)揮重要的作用，能給傳統(tǒng)的產(chǎn)業(yè)帶來新的轉型和升級。從我國現(xiàn)階段布圖設計的發(fā)展現(xiàn)狀來看，假冒偽劣等復制侵權現(xiàn)象不僅僅損害了所有權人或者持有人的經(jīng)濟利益，更加影響了市場秩序，造成巨大社會危害，不管是從維護國家、人民群眾利益的角度還是從布圖設計的特殊性等方面考慮，給予刑事打擊都是必要的。筆者從以下幾個方面分析。

1.布圖設計具有巨大的經(jīng)濟價值

為什么從經(jīng)濟利益上來判斷？因為布圖設計的經(jīng)濟利益巨大，不管是設計者還是使用者，都能為他們帶來巨大的經(jīng)濟收益;根據(jù)中國半導體協(xié)會的相關統(tǒng)計，從2013年到2017年，銷售額年均增速都在20%以上，2017年總額達5411.3億元⑦，不足五年時間銷售額增長兩倍多。從當前布圖設計的研發(fā)情況來看，每設計一種大規(guī)模或者特大規(guī)模的布圖設計，至少需要投入百萬到千萬人民幣，花費數(shù)年時間。布圖設計在時間和金錢上投入如此巨大，一旦被人仿制就可能造成巨大損失，釀成無法挽回的后果。再從政府投資力度來看，2018年財政部對于集成電路小于65nm的投資150億，并且享受法定稅率減半征收。政府的重視程度高、投資力度大，足以證明集成電路的經(jīng)濟價值極高，必須加強刑法保護。

司法判賠額亦充分體現(xiàn)布圖設計的巨大經(jīng)濟價值。2010年，原告XX光電公司訴上海XX電子零件公司等侵害布圖設計糾紛案進行了公開庭審。原告訴稱，其“ATXXXXXX”集成電路布圖設計獲得了國家專利保護，被告在沒有經(jīng)過其許可的情況下，以謀取經(jīng)濟利益為目的，復制了原告布圖設計。一審判被告敗訴，并賠償損失320萬元。2015年，南京XXX電子公司訴西安XXX通訊公司等侵害布圖設計專有權案件進行了公開審理。南京XX電子公司訴稱其“BSXXXXXX”名稱為“THXXXXXX”的集成電路布圖設計被西安XX通訊等幾家公司擅自生產(chǎn)并投入商業(yè)銷售，嚴重侵犯其布圖設計專有權。法院查清本案事實后，裁定西安XXX通訊公司等停止侵權，并賠償南京XXX公司210萬元。這兩起侵權案件的涉案金額巨大，根據(jù)我國《關于辦理侵犯知識產(chǎn)權刑事案件具體應用法律若干問題的解釋》第六條的規(guī)定，違法所得數(shù)額在10萬元以上的屬于巨大。那么該案從經(jīng)濟利益角度來分析也已經(jīng)具備了巨大的危害性。

最后，從發(fā)達國家的發(fā)展歷史中我們可以得到一條規(guī)律：每增長百元GDP就需要一元到兩元與布圖產(chǎn)業(yè)相關企業(yè)的支持。日本和韓國在八九十年代能快速騰飛就得益于IT的發(fā)展，而IT的基礎就是微電子集成電路。因此，從布圖設計經(jīng)濟利益角度出發(fā)，加強布圖設計保護有利于激發(fā)科研人員的積極性，擺脫布圖設計大而不強的局面。

2.專利法、著作權法等知識產(chǎn)權法不能提供有效保護

專利法要求，凡是發(fā)明創(chuàng)造必須要滿足三性⑧，從布圖設計的特點看，滿足實用性和新穎性并不難，但是從創(chuàng)造性角度來說布圖設計很難達到，布圖設計從技術方案上不可能達到突出的實質性特點和顯著的進步。首先，布圖設計的制造者關注核心在于布圖設計的集成度，是量的增加。集成度也是反映布圖設計技術水平的重要標志，試想如果從集成度來反映創(chuàng)造性顯然無法獲得保護，集成度并不等于創(chuàng)造性。其次，有些布圖設計已經(jīng)達到最優(yōu)化程度，已經(jīng)不可替代，或者已經(jīng)成為制作其他布圖設計不能跳過的設計方案;還有一種布圖設計是利用現(xiàn)有設計組合而成。因此這些有限的布圖設計或者組合而成的布圖設計無法通過創(chuàng)造性審查，亦排除了眾多布圖設計作品。當然，不可否認那些尖端領域具有創(chuàng)造性的布圖設計可以尋求專利法保護。如果按照專利法的要求對布圖設計給予保護，將使得眾多布圖設計排除在專利法保護的范圍之內。因此專利法不是保護布圖設計的最佳方案。

著作權法保護，“1979年，美國人Edward、McCloskey和Mineta三人聯(lián)合提出采用著作權法的方式保護布圖設計。”⑨長期以來，我國布圖設計一直被置于著作權體系下進行保護，但是布圖設計并不適用于著作權所要保護的作品。首先，布圖設計一般是使用編碼語言的方式存儲于一定的介質之中，這種數(shù)據(jù)化的存儲易遭受復制侵權，使得侵權后很難辨認原件與復制件之間的區(qū)別。其次，著作權法保護的作品所追求是作品在表達上所達到的藝術水準，而集成電路所追求的是布圖設計完成之后的實用功能。著作權法所保護的作品限于非實用的目的，這對布圖設計的保護顯然是不可行的。再次，和專利法不同，著作權法沒有創(chuàng)造性的要求，也沒有新穎性的要求。著作權法所要求的作品只需要是獨立完成即可，這種保護方式非但沒有保護好布圖設計，反而阻礙了技術進步，不利于社會創(chuàng)新。最后，著作權法禁止反向工程，布圖設計主要應用于工業(yè)產(chǎn)品、電子產(chǎn)品等領域，實施反向工程才能研發(fā)出兼容產(chǎn)品，提升行業(yè)技術水平，也是他人能夠利用產(chǎn)品更好創(chuàng)新的起點。只要不是為了復制他人布圖設計用于生產(chǎn)，法律就不應該禁止他人實施反向工程，更不能成為阻礙技術發(fā)展的絆腳石。這足以說明著作權法并不能保護布圖設計。

其他知識產(chǎn)權法保護，實用新型是專利的一種，主要針對產(chǎn)品的形狀和構造或者形狀構造的結合，顯然布圖設計并不追求產(chǎn)品的形狀和構造，而是追求實用性。加上保護期限過短，很難置于實用新型下予以保護。商標法所保護的對象是一種商品標志，主要起到是識別功能。因此不能把布圖設計納入保護范圍。外觀設計簡稱為工業(yè)設計，⑩但是布圖設計并不等同于工業(yè)設計，布圖設計的外觀并不是法律保護的重點，因為不同的設計通過肉眼觀察到的外觀基本都是一樣的，因此也不能獲得外觀設計法的保護。

3.侵犯集成電路布圖案件發(fā)展趨勢呼喚刑事保護

現(xiàn)階段我國刑事立法對于知識產(chǎn)權類型的犯罪堅持零容忍的態(tài)度。同樣筆者認為需要對具有巨大經(jīng)濟利益且危害社會主義社會關系的行為給予國家最嚴厲的刑罰懲罰，如果對侵害布圖設計的行為不予以懲罰，那就不足以有效的保護正常的秩序。現(xiàn)階段我國集成電路侵權表現(xiàn)如下情況：一是假冒侵權，二是實質侵權。2017年，假冒江蘇XX公司的注冊商標芯片案引發(fā)各方關注，這起案件是全國首例侵犯集成電路的刑事案件。江蘇XX公司是擁有知識產(chǎn)權領域的多項技術的高企。其經(jīng)營范圍包括軟件、集成電路等。2015年到2016年期間，幾名犯罪嫌疑人在未經(jīng)江蘇XX公司的許可的情況下生產(chǎn)該公司的注冊商標芯片，嚴重損害了該公司的利益和名譽。從本案布圖設計的侵權行為看，其行為已經(jīng)符合法定的犯罪構成要件。該起案件又是典型的假冒侵權與實質侵權相結合的案件，不得不引起我們的思考。

（二）布圖設計入刑的可然性

1.法律與政策基礎

首先，從國內法律來看，根本找不到與集成電路直接相關的刑法規(guī)定，似乎集成電路入刑沒有根據(jù)。但是筆者并不這么認為，布圖設計被認為是當今知識產(chǎn)權體系中最新興的客體之一，雖然刑法典中找不到與集成電路直接相關的法律規(guī)定，但集成電路作為知識產(chǎn)權不可分割的一部分，其入刑就并非沒有相關政策和法律理論的支持。2015年，國務院出臺《國務院關于新形勢下加快知識產(chǎn)權強國建設的若干意見》（以下簡稱《意見》）中指出：要加大知識產(chǎn)權犯罪打擊力度○11。同時，我國刑法條文明確規(guī)定了著作、商標這幾類傳統(tǒng)知識產(chǎn)權的刑法保護，并且獲得了很大的成功，我國正在從一個盜版隨處看見的國家轉變成一個知識產(chǎn)權保護強國，這一切都得益于刑法的保護。作為科技發(fā)展的基石，集成電路理應和傳統(tǒng)的知識產(chǎn)權一樣受到刑法保護。從這個角度來看給其立法并非子虛烏有，它符合我國對知識產(chǎn)權保護的一貫主張。

其次，從國際條約看，凡加入的國際條約都可以視為我國法律的淵源。首先，筆者在TRIPS協(xié)定中找到相關法律的支持。該公約第六十一條有如下規(guī)定：“各成員國應規(guī)定至少將適用于具有商業(yè)規(guī)模的蓄意假冒商標或……，其他知識產(chǎn)權侵權案件尤其是以謀取非法利益的具有一定商業(yè)規(guī)模的侵權案件給予刑事處罰。”○12筆者認為，Trips協(xié)定關于解決知識產(chǎn)權刑法保護的問題是十分明確的，只要該侵權案件是為了謀取非法利益并且具有較大的商業(yè)規(guī)模，就可以納入刑法保護。其次，2001年政府的入世承諾之一便是提供足夠的知識產(chǎn)權保護。作為知識產(chǎn)權家族的一員，布圖設計權直到現(xiàn)在都沒有獲得同等法律待遇。反觀這類侵權案件，它符合Trips協(xié)定的基本要求和我國入世時承諾，理應給予刑法保護。因此國際條約也給其入刑提供了法律基礎和法理依據(jù)。

2.發(fā)達國家的啟示

日本和韓國是布圖設計產(chǎn)業(yè)十分發(fā)達的國家，相較于其他國家而言，他們對布圖設計的刑法保護更為成功。日本1985年《布局法》○13，是世界上首開刑法保護集成電路先河的國家，其《布局法》在最后一章規(guī)定了如下法律責任：“第五十一條：侵害集成電路布圖設計專有權或獨占許可權的，處3年以下有期徒刑或者100萬日元以下罰金。第五十二條：通過欺詐行為獲得布圖登記權的，處1年以下有期徒刑或者30萬日元以下罰金。第五十三條：違反第38條第一款規(guī)定的處一年以下有期徒刑或者30萬日元以下罰金”○14。韓國《布圖設計法》○15也做出了類似相應的規(guī)定，對侵犯布圖設計的犯罪也有明確的法定刑。這為韓國的布圖設計產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了刑法保障。日本和韓國對于布圖設計權的保護是對于長期以來侵權行為日益增長的有利打擊。韓國和日本都是緊隨美國之后的世界集成電路強國，他們對集成電路的刑法保護很值得我們去學習。

基于這樣的環(huán)境下，我國應積極參與與布圖設計權有關的刑事立法工作，這也與我國所提出的建設知識產(chǎn)權強國戰(zhàn)略相契合，雖然布圖設計發(fā)展歷史只有30多年，但作為知識產(chǎn)權家族的“小兄弟”也是不可忽視的力量。當然，知識經(jīng)濟時代下信息技術不斷膨脹式發(fā)展，單從集成電路發(fā)展的歷史就可以預見，該領域的競爭必定會越來越激烈，加強刑事救濟也是必不可少，具有可行性。

刑法保護的缺失是我國布圖設計保護的一大缺陷。我國正在建設社會主義法治國家，放任侵犯集成電路布圖的行為必然惡化社會法治環(huán)境，與智力成果價值不斷提升的內涵相違背。集成電路入刑可以有效的打擊犯罪，提升我國的國家形象，優(yōu)化我國的投資環(huán)境，減少侵權損失。既順應了智慧財產(chǎn)的保護趨勢，又可以形成尊重智慧成果的社會風氣。也與十九大所提出的建成知識產(chǎn)權型強國目標相符合。

三、集成電路布圖設計侵權行為的入罪設置

（一）明確布圖設計的刑法救濟模式不管是大陸法系還是英美法系，理論界關于知識產(chǎn)權救濟的立法模式，大體上可以分成分散型、集中型和結合型。

當前，布圖設計產(chǎn)業(yè)還處在不斷革新和發(fā)展階段，如“人工智能芯片”的出現(xiàn)。這就要求與之相關的立法仍然需要探索創(chuàng)新。筆者認為，結合型的立法模式并不適用于科技性強的集成電路。結合型的立法模式要求刑法典與知識產(chǎn)權法必須同時修訂。如果刑法典修訂不及時就有可能放縱犯罪，頻繁的立法活動不僅違背了刑法的穩(wěn)定性特征導致朝令夕改，還會造成法律資源的浪費。綜合考慮其他知識產(chǎn)權的保護模式，結合型的模式必須摒棄。

從分散走向集中的立法模式是知識產(chǎn)權的最佳選擇。在我國現(xiàn)行刑法典中規(guī)定了知識產(chǎn)權犯罪，其模式正是集中型，這種模式又可以稱為刑法典模式，它的主要特點是有統(tǒng)一完備的指導思想和較強的穩(wěn)定性，這種立法模式雖然可以提升立法的科學性，使知識產(chǎn)權個罪之間更加協(xié)調，但集中型的立法模式不符合布圖設計的特性，我們都知道集成電路布圖極易受到新技術和社會經(jīng)濟的影響，采用集中型的立法模式很難找到集中統(tǒng)一的立法思想，極易導致立法滯后。當今世界對于集成電路的保護多半還停留在半導體集成電路的時代，但隨著電子信息技術的不斷發(fā)展，一些非半導體芯片也開始出現(xiàn)，比如以微物流芯片為代表新型芯片。這些非半導體芯片的合法權益同樣需要保護，以適應科技的發(fā)展。因此，集中型的立法模式也不適用。

法的穩(wěn)定性和高新科技的靈活性之間有著難以調和的矛盾，要想調節(jié)科技靈活性和法律穩(wěn)定性，就必須采取分散型立法模式，發(fā)揮好附屬刑法的作用。新技術的不斷發(fā)展必然帶來知識產(chǎn)權法律體系開放式發(fā)展，與之相適應是布圖設計侵權犯罪在短時間內仍然會呈現(xiàn)動態(tài)發(fā)展趨勢。為了更好地適應現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展，保護好集成電路產(chǎn)業(yè)的明天，分散型的立法模式是現(xiàn)階段我國的最佳選擇。其特點是能夠及時的對新出現(xiàn)的侵犯布圖設計的行為進行立法并加以保護，修改程序也更為簡單。

（二）布圖設計構成要件主觀要件方面;相較于其他知識產(chǎn)權，除著作權要求以盈利為目的外，商標、專利并沒有要求以盈利為必要條件。關于布圖設計的主觀構成要件，同樣不能簡單要求以盈利目的為構成要件，把非營利性的侵權行為排除在外，這顯然是在放任違法行為的發(fā)生。目前我國國內關于布圖設計入刑的構成要件并沒有明確法律層面文件，只有國務院出臺的《意見》，要求加大知識產(chǎn)權犯罪打擊力度。從國外的立法實踐來看，日本并沒有要求以盈利為構成要件。從知識產(chǎn)權主觀要件發(fā)展趨勢而言，只要有犯罪故意即可，這樣可以給布圖設計更加全面的保護。客觀要件方面;布圖設計犯罪應該包括如下兩種行為：其一是復制行為;其二是商業(yè)利用等不法行為，為了防止布圖設計犯罪未來新的犯罪形式，不必窮盡式的列舉客觀方面。可以參照我國知識產(chǎn)權犯罪相關立法并輔以參照日本布圖設計立法。

（三）布圖設計的罪名、罪狀罪名是對一種犯罪行為的集中反映，布圖設計的罪名設計既要體現(xiàn)準確性又要反映侵害布圖設計的危害本質，罪名的設置還要反映罪名和罪狀的關系。談起罪狀，筆者認為應當采用空白罪狀，上文已經(jīng)論述過集成電路處在不斷革新和發(fā)展的階段，使用空白罪狀既可以保證法典的穩(wěn)定又可以適應布圖設計時代發(fā)展的需要，還可以確保刑法條文簡練。

（四）布圖設計法定刑法定刑是刑法不可或缺的部分，是定罪量刑的標尺，也是最能反映犯罪和刑罰之間關系的評價標準。我國知識產(chǎn)權犯罪相關法定刑均為相對確定法定刑。布圖設計犯罪法定刑應當從資格型和財產(chǎn)刑兩方面予以構建。就資格刑而言，依法剝奪侵犯布圖設計犯罪人一定的人身自由，既可以達到特殊預防的目的還可以暫時確保犯罪人無再犯的可能性。就財產(chǎn)刑而言，侵犯布圖設計目的主要是為了經(jīng)濟利益，為了保障受害人的利益，筆者建議布圖設計權犯罪應該由資格型和財產(chǎn)刑相互配合使用，縱觀全球知識產(chǎn)權立法，都在資格刑的基礎上輔以相對確定的罰金刑。罰金的運用可以使犯罪人體會到物質痛苦，自覺遵守法律;還可以使受害人得到安撫，信仰法律。

四、結語

布圖設計廣泛應用于各行各業(yè)，戰(zhàn)略價值是不言而喻的。隨著人工智能的發(fā)展，不僅出現(xiàn)了集成度更高的布圖設計，還出現(xiàn)了“人工智能芯片”、“光子芯片”、“量子芯片”等前沿性科技成果，“人工智能芯片”、“光子芯片”和“量子芯片”能否從《條例》中得到保護筆者不得而知。但是從《條例》施行到現(xiàn)在，不管是從立法、行政還是司法現(xiàn)狀，我國《條例》似乎并沒有達到預期的法律效果。因此，應當立足本國實際，參照國務院《意見》的要求，再借國外鑒經(jīng)驗，整合國際條約相關規(guī)定，推進布圖設計入刑。

[ 注 釋 ]

①集成電路是一種微型電子器件或部件.采用一定的工藝，把一個電路中所需的晶體管、電阻、電容和電感等元件及布線互連一起，制作在一小塊或幾小塊半導體晶片或介質基片上，然后封裝在一個管殼內，成為具有所需電路功能的微型結構.集成電路布圖設計：至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置，或者為制造集成電路而準備的上述三維配置.

②國家知識產(chǎn)權局：http： // www. sipo. gov. cn/ zcfg/ tjxwx/ 1126077. htm，2018-11-3.

③中國半導體協(xié)會：http： // www. csia. net. cn/ Article/ ShowInfo. asp ？ InfoID = 73025，2018-4-17.

④習近平在全國科技創(chuàng)新大會、兩院院士大會、中國科協(xié)第九次全國代表大會上的講話，http： // news. cctv. com/ 2016/06/02/ ARTIYnK8m W4hE1hfbIz Q0ZY8160602. shtml，2018-11-3.

⑤2014年兩會政府工作報告http： // it. people. com. cn/n/ 2014/0312/ c1009-24615282. html，2018-11-3.

⑥商標權和專利權，大體也是如此.1979年我國刑法就規(guī)定了對于商標權的保護，在1993年和1997年又分別進行了完善;1984年，以附屬刑法的方式明確了侵犯專利權的刑事責任，開啟了我國專利刑事保護歷史，1997年刑法修訂的過程中又予以完善;1987年11月，《關于依法嚴懲非法出版犯罪活動的通知》中，第一次把以謀取暴利為目，進行非法出版物的出版、發(fā)行等活動納入刑法第117條投機倒把罪論處，此后數(shù)年又予以完善.

⑦中國半導體協(xié)會：http： // www. csia. net. cn/ Article/ ShowInfo. asp ？ InfoID = 73025，2018-4-17.

⑧專利法要求受保護的技術方案必須滿足新穎性、實用性和創(chuàng)造性三個要件.

⑨郭禾.半導體集成電路知識產(chǎn)權的法律保護[J].中國人民大學學報，2004.1.

⑩它是指關于產(chǎn)品的形狀、圖案、色彩、或者其結合所提出的富有美感并適用于工業(yè)應用的新設計.

11國家知識產(chǎn)權權局：http： // www. sipo. gov. cn/ zcfg/ tjxwx/ 1054245. htm，2018-11-3.

12莫洪憲，賀志軍，著.多維視角下我國知識產(chǎn)權的刑事保護研究[M].北京：中國人民公安大學出版社，2009.30.

13指日本1985年《半導體集成電路電路布局之法律》，該法為日本集成電路的發(fā)展提供了完備的保護.

14楊和義，譯.日本知識產(chǎn)權法[M].北京：北京大學出版社，2014：409.

15指韓國《半導體集成電路布圖設計法》.

[ 參 考 文 獻 ]

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