王小菊, 呂一帆, 祁康成, 任 帥, 陸榮國, 陳德軍
(電子科技大學光電科學與工程學院,成都610054)
自倫琴發現X射線以來,X射線分析技術得到了快速發展[1-4]。作為材料研究領域的一種基本方法,X射線光電子能譜(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)分析得到了人們的普遍關注和應用。通過測量電子能量,XPS可以提供元素定性、定量分析和化學態信息[5-8],且表面靈敏度高。目前,國內高校的材料專業幾乎都開設了與XPS相關的材料分析課程。
XPS的X射線源以單色X射線為主。單色X射線源的主要缺點是當待測樣品為絕緣體時,樣品表面容易出現荷電效應。即當X射線照射在絕緣樣品表面時,根據光電效應,樣品表面會發射光電子而在表面留下正電荷,導致測試出的結合能遠遠高于實際值。為了消除荷電效應,需要給XPS設備配置電子槍。
計算機仿真可以在實驗開展前,初步探討器件結構、材料等因素對其特性的影響,一定程度上可預測器件性能,因此現階段虛擬仿真得到了各高校實驗室建設的高度認可。本文采用仿真模擬軟件Opera(Operating environment for Electromagnetic Research and Analysis)對XPS中和電子槍的結構和電子發射情況進行模擬。通過仿真,學生能夠掌握電子槍的基本結構、參數和分析方法,了解XPS分析技術。在此基礎上,學生的科研素養與仿真能力可以得到有效提高。
Opera是全球最先進的電磁設備有限元仿真分析軟件之一。使用Opera軟件進行中和電子槍的仿真,可以實現電子槍模型尺寸的參數化,可以反復設計,更改仿真模型的參數,在仿真精準度和優化設計方面具有很大的優勢[9-12]。
本文要求設計的XPS中和電子槍性能指標如下:① 陽極電流Ia≥50 μA;② 陽極電流分布均勻;③ 束斑為方形,邊長a≤2 mm。根據電子光學系統理論,初步設計出如圖1所示的電子槍結構。該電子槍由陰極、柵極和陽極組成。初始參數為:陰極發射面為0.9 mm×0.9 mm的矩形面;柵極為空心圓筒狀,中心孔直徑2×r=1 mm(r為孔半徑);陰極和柵極間距離D1=0.3 mm;柵極厚度D2=0.2 mm;柵極電壓Ug=0 V;陽極電壓Ua=30 V,陽極與陰極間距離L=3 mm。
在電子槍的設計中,陰極材料是電子槍性能可靠性和壽命的關鍵,不同的電真空器件對于陰極材料的要求不同。對于XPS電子槍來說,陰極發射材料需要具備下列性質:熔點高、蒸發率??;化學性質穩定、抗離子轟擊能力強;逸出功低、發射效率高、發射電流密度大;良好的機械性能。六硼化鑭(LaB6)熔點高達2 210℃,逸出功僅為2.4~3.4 eV,化學性質極其穩定,常溫下不與酸堿發生反應(硝酸除外),且可長時間暴露大氣[13-16]。因此,相對于傳統的商用鎢材料,LaB6更符合XPS電子槍對陰極材料的要求。本文選擇LaB6作為仿真實驗中的陰極材料。

圖1 XPS電子中和槍物理模型
圖2給出了初始參數不變,陽極束斑尺寸a和陽極電流(Ia)隨柵孔半徑(r)的變化趨勢。隨著r的增大,Ia和a呈線性增加。當r由0.6 mm增加到2.4 mm 時,Ia由12.8 μA 增加到177.5 μA,a 由0.24 mm增大到2.84 mm。分析原因,隨著r增大,柵極屏蔽作用減弱,陰極有效發射面積增大,極間電流隨之增大。另一方面,r增大使電子束會聚能力變差,束腰位置向陽極靠近,a隨之增大。

圖2 Ia和s隨r的變化曲線
圖3(a)~(c)分別給出了r=1.0、1.6 和2.2 mm時的陽極電流密度(Ja)分布。分析仿真結果,當r較小時(見圖3(a)),邊緣電子束會聚作用很強,陽極處呈現中間電流密度小,四周電流密度大的情況。比較圖3(b)和(c)可以看出,當r=2.2 mm 時,Ja分布的不均勻性相對于r=1.6 mm時顯著增大。因此,綜合考慮陽極電流和束斑質量,初步選定r=1.6 mm為較佳的柵孔尺寸,在此基礎上進一步調整Ja分布的均勻性。

圖3 不同r的Ja分布圖
圖4給出了r=1.6 mm,其余初始結構參數不變時D1對Ia和s的影響。結果表明,D1對Ia和s的影響很大。隨著D1的增加,Ia和s均呈線性減小。當D1由0.2 mm 增加到0.8 mm 時,Ia由124.8 μA 減小到62.1 μA,s由2.16 mm 減小到1.55 mm。分析原因,由于柵極與陰極為同電位,形成浸沒物鏡結構。此時,柵極對陰極發射電子將起到聚焦作用,且D1越大,聚焦作用越強。因此,Ia和s隨D1增加而迅速減小。

圖4 Ia和s隨D1的變化曲線
圖5(a)~ (c)分別給出了D1為0.5、0.7 和0.8 mm 時的Ja分布。當D1較小(D1=0.3 mm)時,Ja分布較均勻,Ja值較大;隨著D1增加,Ja分布的均勻性變差,且整體Ja值減小,如圖5(b)和5(c)所示。綜合考慮Ia和s,選定D1=0.7 mm作為較佳的陰柵距參數。此時Ja分布仍呈現四周大、中間小的趨勢,差值較小,還需做進一步調整。

圖5 不同D1的Ja分布圖
保持r=1.6 mm,D1=0.7 mm,Ia和s隨D2的變化趨勢如圖6所示。結果發現,D2對Ia和s的影響較小。如,當D2由0.1 mm 增加到0.3 mm 時,Ia由81.0 μA 減小到60.4 μA,s由1.78 mm 減小到1.52 mm。

圖6 Ia和s隨D2的變化曲線
圖7(a)~ (c)分別給出了D2為0.1、0.2 和0.3 mm時的Ja分布。仿真結果表明:D1由0.1 mm增加至0.3 mm,Ja分布均為中間小、四周大。當D2接近0.2 mm時,Ja分布均勻性較好;但是,當D2增加至0.3 mm時,Ja的均勻性劣化。故選擇D2=0.2 mm作為最佳的柵極厚度參數。

圖7 不同D2的Ja分布圖
在確定了電子槍的各結構參數后,嘗試改變Ug,以提高Ja分布的均勻性。分別取Ug=-1,0,1 V 3種情況模擬,結果如圖8所示。
當Ug=-1 V時,柵極電位降低,從陰極發射出的電子受到排斥,限制了電子的發射,導致Ia減小,束斑尺寸減小,Ja分布的均勻性較差。當Ug=1 V時,由于柵極電位增高,從陰極發射出的電子受到加速,促進了電子的發射,導致陽極電流增大,但束斑較為發散。綜合考慮束斑質量及電子槍接線和裝配的可實施性,最終取Ug=0 V。

圖8 Ia和s隨Ug的變化曲線
通過選擇合適的柵極內徑、陰柵距等參量,在保證陽極束斑尺寸和陽極電流滿足XPS要求的前提下,得到了XPS中和電子槍的最佳結構與電位參數,見表1。電子槍的聚焦能力主要取決于柵極孔徑及陰柵距離。當柵極內徑為1.6 mm,陰柵距為0.7 mm時,出現理想的電子束聚焦,此時的陽極電流及束斑尺寸符合設計要求,陽極束斑尺寸為1.64 mm×1.64 mm,陽極電流大小為70.1 μA。

表1 仿真所得的最佳電子槍參數
此時最佳電子束軌跡如圖9所示,可見,在最佳結構參數下,柵極對電子束會聚作用較為理想,電子束幾乎呈平行電子注,滿足設計要求。

圖9 最佳電子束軌跡
中和電子槍是XPS系統的關鍵組成部件之一。本文利用計算機軟件,建立了簡單易行的仿真教學實驗方案。通過軟件OPERA,初步設計了一種基于XPS的六硼化鑭中和電子槍,實現了對電子槍的陽極束斑和陽極電流的模擬。通過觀察陽極電流值,束斑尺寸和電子束運動軌跡等仿真結果,學生在實驗過程中可以深入掌握中和電子槍的結構與基本特性,為其在以后的學習打下堅實的基礎。在教學過程中,教師可以指導學生分別調節柵極孔徑、陰柵距等結構參數,探索它們對于電子槍發射能力的影響。