許永姿,楊瑤,蔡珊珊,彭巨擘,王加俊
云南錫業集團(控股)有限責任公司研發中心,云南 昆明 650000
電子信息技術的快速發展對電子設備提出了更高的要求,電子設備逐漸向密度更大、性能更好、功能性更強、可靠性更高的方向發展,這對電子封裝技術提出了新的挑戰[1]。在實際封裝過程中,焊料與焊盤間發生界面反應生成的金屬間化合物(IMC)是焊接良好的保證,但由于IMC 本身的脆性,其過厚時容易導致焊接的可靠性降低,因此焊料與焊盤的反應尤為重要[2]。錫鍍層具有優良的可焊性和耐蝕性,被廣泛應用于電子封裝領域,尤其是對耐腐蝕性能要求高的應用場景(如汽車電子)[3]。在焊接過程中銅基板會與錫鍍層反應生成Cu6Sn5,在后期服役過程中則通過固?固反應生成Cu3Sn,這些IMC 的生長過程會產生內應力,純錫鍍層在內外應力的作用下會產生晶須,導致電子設備發生短路,其可靠性降低[4]。以往一般通過在鍍層中引入少量鉛[5]來抑制錫晶須的產生,但鉛及其化合物有劇毒,影響人類的身體健康和生活環境,歐盟RoHS 指令明確禁止在電鍍錫中使用鉛[6],因此需要尋找新的元素來替代鉛。
在Sn 鍍層中添加In、Bi、Cu、Ag 等金屬元素能有效抑制錫晶須的產生[7-8]。其中In 作為焊料合金的常見元素,不僅可以令焊料表面的氧化膜減少,增強焊料的潤濕效果[9],還能夠參與Sn 與焊盤Cu 的反應,在焊接過程中In、Sn 與Cu 相互間反應形成Cu6(Sn,In)5相,影響IMC 的生長,從而提高界面的可靠性[10-11]。在焊料焊接過程中,焊點越小,焊盤表面鍍層的金屬元素對其影響就越大,這是因為在焊接過程中焊盤元素會熔融到焊料合金中,起到合金化作用。……