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交流驅(qū)動無電學(xué)接觸GaN 基Micro-LED 器件光電特性

2023-12-29 15:57:04郭韞韻翁書臣鄒振游許海龍王浩楠周雄圖吳朝興張永愛
發(fā)光學(xué)報 2023年12期
關(guān)鍵詞:交流信號

郭韞韻, 翁書臣, 鄒振游, 許海龍,王浩楠, 周雄圖,, 吳朝興,, 張永愛,*

(1. 福州大學(xué) 物理與信息工程學(xué)院, 福建 福州 350116;2. 中國福建光電信息科學(xué)與技術(shù)創(chuàng)新實驗室, 福建 福州 350108)

1 引 言

微型發(fā)光二極管(Micro-light emitting diode,Micro-LED)具有高亮度、易集成化、高分辨率、長壽命、低功耗和高響應(yīng)速度等優(yōu)點,有望成為下一代主流顯示技術(shù)[1]。Micro-LED 顯示技術(shù)發(fā)展涵蓋了微顯示、中小尺寸顯示和大尺寸商顯[2-5],在穿戴顯示設(shè)備、5G 超高清顯示、微型顯示、透明顯示、柔性顯示、AR/VR等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用場景[6-11]。

Micro-LED 顯示性能優(yōu)異,但其商業(yè)化與產(chǎn)業(yè)化仍面臨諸多技術(shù)挑戰(zhàn)[12-16]。隨著Micro-LED器件的微型化,一系列技術(shù)問題隨之出現(xiàn),如尺寸效應(yīng)、高速巨量轉(zhuǎn)移、發(fā)光器件與驅(qū)動背板的高精度鍵合等問題[1,17-18]。為了實現(xiàn)外部載流子的高效注入,傳統(tǒng)Micro-LED 器件外部驅(qū)動電極需與發(fā)光器件之間形成穩(wěn)定的歐姆接觸,這對發(fā)光器件與驅(qū)動背板的精準(zhǔn)鍵合技術(shù)提出了極高的技術(shù)挑戰(zhàn)[19-23]。此外,在載流子注入模式下,電壓和電流的波動將會引起Micro-LED 器件的亮度波動,從而影響顯示質(zhì)量[24-28]。為解決上述問題,研究者提出了一種無電學(xué)接觸(Non-electrical contact,NEC)模式驅(qū)動氮化鎵基(GaN)Micro-LED 器件的全新技術(shù)方案[29-32]。2021 年,Wang 等提出一種采用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)作為絕緣材料的無電學(xué)接觸型μLED 器件,實現(xiàn)了10 ~ 150 kHz、50 ~ 300 Vpp條件下的穩(wěn)定發(fā)光[33];2022 年,Li 等提出一種單端電學(xué)接觸型Micro-LED 器件結(jié)構(gòu),有望應(yīng)用于微顯示檢測[34]。目前,Micro-LED 器件結(jié)構(gòu)主要有垂直、倒裝和正裝結(jié)構(gòu),因此驅(qū)動電場可以選擇垂直方向和水平方向。水平方向電場驅(qū)動的Micro-LED,電場兩端的電場線相互平行;垂直方向電場驅(qū)動的Micro-LED,電場兩端的電場線方向與器件垂直。與水平結(jié)構(gòu)的Micro-LED 器件相比,垂直結(jié)構(gòu)的Micro-LED 驅(qū)動電壓更低,發(fā)光能力更穩(wěn)定,亮度也更強(qiáng)。

因此,本文設(shè)計并制備了一種基于垂直結(jié)構(gòu)的交流驅(qū)動NEC Micro-LED 器件,在器件兩端施加交流驅(qū)動信號,研究NEC Micro-LED 器件的光電性能。

2 實 驗

本實驗選用經(jīng)過表面處理的藍(lán)寶石襯底,利用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(Metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)、光刻技術(shù)和等離子體干法刻蝕制備Micro-LED 器件,器件尺寸為37 μm×94 μm。為了實現(xiàn)無電學(xué)接觸,防止外部載流子注入器件,本實驗采用原子層沉積技術(shù)(Atomic layer deposition,ALD)在Micro-LED 芯片的p-GaN 表面沉積一層高介電常數(shù)、高透明度的Al2O3絕緣層。圖1(a)為本實驗垂直結(jié)構(gòu)GaN 基NEC Micro-LED 器件結(jié)構(gòu)示意圖,圖1(b)為NEC Micro-LED 器件驅(qū)動示意圖。從上至下分別為Al2O3絕緣層(15 nm)、p-GaN(0.65 μm)、多量子阱(Multiple quantum wells,MQWs,)(141 nm)、n-GaN(2 μm)、u-GaN(4 μm)以及藍(lán)寶石襯底,驅(qū)動信號施加在Al2O3和藍(lán)寶石襯底的兩端。其中,MQWs 勢阱層In0.2Ga0.8N 為3 nm,勢壘層GaN 為15 nm,共7 個周期(7 個阱8 個壘)。圖1(c)為NEC Micro-LED 器件的SEM 形貌圖,圖1(d)為器件表面Al2O3薄膜的原子力顯微鏡形貌圖。從圖中可以看出,Micro-LED 芯片生長質(zhì)量良好,Al2O3薄膜平均粗糙度大約為2.6 nm,有利于NEC Micro-LED 器件的交流驅(qū)動。

本實驗利用功率放大器(Aigtek,ATA2161、ATA122D)與函數(shù)信號發(fā)生器(RIGOL,DG4162)產(chǎn)生正弦交流驅(qū)動信號,驅(qū)動電壓峰峰值(Vpp)最高可達(dá)1 600 V,頻率最高可達(dá)22 MHz。采用示波器(RIGOL,DS7024)、高壓差分探頭(RIGOL,RP1025D)、光電倍增管(SENS-TECH,DM0090 C)、雪崩光電探測器(Thorlabs,APD120A2/M)以及遠(yuǎn)方光譜儀采集器件的發(fā)光波形圖像和光學(xué)性能。本實驗全程在SCG 真空探針臺(SEMISHARE,SCG-0-2)上進(jìn)行。實驗中器件交流電壓均為峰峰值(Vpp),器件電流為交流峰值電流。

3 結(jié)果與討論

3.1 直流和交流驅(qū)動Micro-LED 器件的光電特性

圖2 為傳統(tǒng)Micro-LED 器件在直流和交流驅(qū)動下的光電特性曲線。圖2(a)為直流驅(qū)動Micro-LED 器件的伏安特性(Current-voltage,I-V)曲線,定義Micro-LED 器件開始發(fā)光時的電壓為Micro-LED 器件的開啟電壓。當(dāng)器件處于反向偏置時,反向電流幾乎為0 A。當(dāng)器件處于正向偏置時,該器件的開啟電壓為5 V 左右,在電壓小于開啟電壓時,器件的電流趨近于0 A;當(dāng)電壓大于開啟電壓時,隨電壓的增大,電流呈指數(shù)增長趨勢,當(dāng)電壓大于15 V 時Micro-LED 器件會被擊穿。圖2(b)為Micro-LED 器件的相對亮度-電壓特性曲線,為了降低環(huán)境光對測試結(jié)果的影響,對亮度進(jìn)行歸一化處理。當(dāng)電壓大于開啟電壓時,器件的亮度隨著電壓的增大呈指數(shù)增長,與其I-V特性曲線的變化趨勢基本相同。

圖2 Micro-LED 的直流光電特性曲線:(a)I-V 特性,(b)相對亮度-電壓特性。 Micro-LED 的交流光電特性曲線:(c)I-V 特性,(d)開啟電壓-頻率特性,(e)亮度-電壓特性,(f)相對亮度-頻率特性。Fig.2 Photoelectric performance of Micro-LED device in DC mode:(a)I-V curves at different frequencies, (b)relative luminance versus voltage. Photoelectric performance of Micro-LED device in AC mode: (c)I-V curve, (d)opening voltage versus frequency, (e)luminance versus voltage, (f)relative luminance versus frequency.

圖2(c)為傳統(tǒng)Micro-LED 器件在交流驅(qū)動下的I-V特性曲線。從圖中可以看出,Micro-LED 器件的I-V特性曲線接近線性。在不同頻率下對Micro-LED 器件的開啟電壓進(jìn)行測試,結(jié)果如圖2(d)所示。從圖中可看出,交流驅(qū)動模式下的Micro-LED 器件開啟電壓大于直流驅(qū)動模式下的開啟電壓,與頻率變化呈正相關(guān),且在較高的頻率范圍內(nèi)(50 kHz~2 MHz),開啟電壓與頻率呈線性關(guān)系。圖2(e)為1 kHz 頻率下,在不同電壓下Micro-LED 器件的亮度變化曲線。當(dāng)驅(qū)動電壓大于開啟電壓,其發(fā)光亮度與電壓呈正相關(guān),且升高的趨勢趨于線性,與I-V特性曲線的趨勢類似。圖2(f)為傳統(tǒng)Micro-LED 器件在交流驅(qū)動模式下的相對亮度-頻率特性曲線。從圖中可以看出,當(dāng)頻率為100 Hz 時,Micro-LED 器件亮度達(dá)到最大亮度值的90.3%,且在100 Hz~20 kHz 的頻率范圍內(nèi),器件亮度一直保持大于最大亮度值的90%;當(dāng)頻率大于20 kHz,器件發(fā)光性能開始減弱;當(dāng)頻率達(dá)到80 kHz 附近時,器件基本不發(fā)光。這是因為隨著頻率的升高,載流子無法充分復(fù)合發(fā)光,最終導(dǎo)致器件亮度極低。因此,Micro-LED 器件在較低頻率下就能發(fā)揮出器件的發(fā)光性能,且在一個較大的頻率范圍內(nèi)都能保持90%以上的發(fā)光亮度,但超過這個范圍,器件發(fā)光性能開始減弱,直至無法發(fā)光。

在直流驅(qū)動和交流驅(qū)動模式下,通過研究傳統(tǒng)GaN 基Micro-LED 器件的光電特性,有助于開展垂直結(jié)構(gòu)型GaN 基NEC Micro-LED 器件的性能研究。

3.2 NEC Micro-LED 器件的光電特性

3.2.1 電學(xué)特性

垂直結(jié)構(gòu)NEC Micro-LED 器件的RC(Resistor-capacitance,RC)等效電路如圖3(a)所示。其中Rexternal為與器件串聯(lián)的一個外部電阻,C1、C2為Micro-LED 與絕緣層之間的等效電容,CLED為與pn 結(jié)有關(guān)的電容,RLED為體半導(dǎo)體和MQWs 的電阻。由于絕緣層的存在,器件的電路模型可等效為電阻電容并聯(lián)電路。

圖3 (a)交流驅(qū)動NEC Micro-LED 器件的等效電路;(b)I-V 特性曲線;(c)電流-頻率曲線;(d)電流超前效應(yīng)。Fig.3 (a)Equivalent circuit model of AC-driven NEC Micro-LED. (b)I-V curves at different frequencies. (c)Current-frequency curves in different applied voltages. (d)Current leading effect.

圖3 (b)為器件在不同頻率下的I-V特性曲線。從圖中可以看出,器件的I-V特性曲線趨于線性。當(dāng)頻率固定時,NEC Micro-LED 器件的阻抗穩(wěn)定,不隨工作電壓的變化而改變。實驗中Micro-LED 器件在直流驅(qū)動下的擊穿電壓在15 V左右,而在電壓為70 Vpp甚至更高時,NEC Micro-LED 器件仍可正常工作。這說明NEC Micro-LED器件的耐高壓能力比傳統(tǒng)Micro-LED 器件強(qiáng)。圖3(c)為不同電壓驅(qū)動下,交流驅(qū)動NEC Micro-LED 器件的電流-頻率曲線。隨著頻率的增加,電流先快速增大,隨后趨于平穩(wěn),穩(wěn)定時所能達(dá)到的最大電流為12 mA 左右。即隨著驅(qū)動信號頻率的增大,器件等效阻抗先快速減小后趨于穩(wěn)定。由于NEC Micro-LED 器件具有電容特性[35],當(dāng)交流正弦信號驅(qū)動時,流經(jīng)器件的電流和作用在器件兩端的電壓存在著相位差。通過采集器件兩端的電壓和回路的電流,實驗結(jié)果如圖3(d),從圖中可以看出,電流波峰超前于電壓波峰,這說明NEC Micro-LED 器件的電路存在電流超前效應(yīng)。

3.2.2 光學(xué)特性

在直流和交流驅(qū)動模式下,傳統(tǒng)Micro-LED器件發(fā)光機(jī)理均是通過電極注入空穴和電子實現(xiàn)連續(xù)的電致發(fā)光。由于絕緣層阻擋了外部載流子的注入,NEC Micro-LED 器件只利用器件內(nèi)部固有的載流子復(fù)合發(fā)光。在交流電場的驅(qū)動下,器件內(nèi)部的載流子向MQWs 漂移,并在MQWs 內(nèi)周期性地復(fù)合發(fā)光[31-33]。因此,驅(qū)動信號的頻率和電壓幅度會直接影響NEC Micro-LED 器件的發(fā)光特性。

利用光電倍增管采集NEC Micro-LED 器件產(chǎn)生的光子數(shù),探究NEC Micro-LED 器件的亮度-頻率特性曲線,實驗結(jié)果如圖4(a)所示。當(dāng)信號電壓固定時,隨著頻率逐漸增加,器件亮度呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢。實驗中,當(dāng)器件亮度達(dá)到最大值時所對應(yīng)的頻率定義為器件最佳頻率。當(dāng)頻率高于最佳頻率時,器件發(fā)光亮度驟降直至為0。因為當(dāng)頻率過高時,驅(qū)動電場轉(zhuǎn)向過快,載流子還未復(fù)合而電場方向已經(jīng)改變,嚴(yán)重影響了器件內(nèi)部載流子輻射復(fù)合效率。此外,從圖中可以看出,電壓幅度也會影響NEC Micro-LED 器件亮度。

圖4 NEC Micro-LED 器件的光學(xué)特性曲線。 (a)亮度-頻率特性曲線;(b)亮度-電壓曲線(其中紅色曲線為線性擬合所得);(c)最佳頻率-電壓曲線;(d)亮度-電壓特性曲線;(e)發(fā)光波長隨電壓變化曲線;(f)發(fā)光波長隨頻率變化曲線。Fig.4 Optical characteristic curves of NEC Micro-LED. (a)Luminance versus frequency in different applied voltages. (b)Luminance versus voltage(the red curve is obtained by linear fitting).(c)Optimum frequency-voltage curves.(d)Luminance versus voltage at different frequencies. (e)Electroluminescence spectra at different voltages. (f)Electroluminescence spectra at different frequencies.

圖4 (b)為最佳頻率下的NEC Micro-LED 器件亮度與電壓變化曲線,器件最大亮度與電壓呈線性關(guān)系。圖4(c)為NEC Micro-LED 器件的最佳頻率與電壓變化曲線,從圖中可看出,NEC Micro-LED 器件的最佳頻率隨著電壓的增大而增大。這說明驅(qū)動電壓大小影響了器件的發(fā)光特性,驅(qū)動電壓越大,越有利于激發(fā)NEC Micro-LED 器件的復(fù)合發(fā)光,器件最佳頻率也隨之升高。圖4(d)是NEC Micro-LED 器件亮度隨電壓變化曲線。從圖中可以看出,當(dāng)頻率固定時,驅(qū)動電壓越大,器件亮度就越強(qiáng)。因為電場強(qiáng)度增大,器件內(nèi)部載流子輻射復(fù)合的速度變快,載流子復(fù)合數(shù)量越多,器件亮度越高。但是過大的電壓可能會擊穿器件,所以驅(qū)動電壓不宜過大。

圖4(e)為不同電壓下(10 ~70 Vpp)器件的電致發(fā)光光譜。從圖中可看出,隨著電壓增大,器件峰值波長出現(xiàn)藍(lán)移現(xiàn)象,峰值波長從436.80 nm偏移至432.07 nm,偏移了4.73 nm 左右。圖4(f)為不同頻率下(8 ~18 MHz)器件的電致發(fā)光光譜。隨著頻率增大,器件峰值波長出現(xiàn)藍(lán)移現(xiàn)象,峰值波長從435.05 nm 移動至432.35 nm,器件的峰值波長偏移了2.7 nm 左右。

通過雪崩光電探測器和示波器分別采集相對亮度和驅(qū)動電壓信號,圖5 為交流驅(qū)動NEC Micro-LED 器件的發(fā)光波形與電壓曲線,其中紅色曲線為相對亮度變化曲線,黑色曲線為驅(qū)動電壓信號,插圖為器件發(fā)光照片。驅(qū)動信號的頻率為10 MHz、電壓幅度為15 Vpp。從圖中可以看出,在一個正弦交流信號周期里,NEC Micro-LED 器件只發(fā)光一次且僅在正半周期發(fā)光。

圖5 交流驅(qū)動NEC Micro-LED 器件的發(fā)光波形與電壓曲線,插圖為器件發(fā)光照片。Fig.5 Luminescence and voltage waveform of the AC-driven device. The inset is a luminous image of the device.

在正弦交流信號的正半周期,NEC Micro-LED 器件內(nèi)部的載流子向MQWs 漂移,并在MQWs 內(nèi)輻射復(fù)合發(fā)光。同時,多數(shù)載流子的漂移會產(chǎn)生一個方向與驅(qū)動電場相反的感生電場,抑制載流子的擴(kuò)散,最終終止輻射復(fù)合過程。在正弦交流信號的負(fù)半周期,正半周期形成的感生電場被消除,器件內(nèi)部的載流子逐漸回到平衡狀態(tài),為下一個發(fā)光周期做準(zhǔn)備。因此在周期性變化的信號驅(qū)動下,NEC Micro-LED 器件能保持穩(wěn)定的周期性電致發(fā)光[36-38]。

此外,從實驗結(jié)果可以發(fā)現(xiàn),NEC Micro-LED器件的發(fā)光波形滯后于驅(qū)動電壓信號,存在發(fā)光延遲效應(yīng)。這說明電荷需先在器件兩端的絕緣層累積并形成電場,隨后驅(qū)動器件內(nèi)部載流子運動至MQWs 復(fù)合發(fā)光。

4 結(jié) 論

本文設(shè)計了一種垂直結(jié)構(gòu)的交流驅(qū)動NEC Micro-LED 器件,通過MOCVD 和ALD 技術(shù)成功制備了NEC Micro-LED 器件,并研究了其光電特性。與常規(guī)Micro-LED 器件不同,藍(lán)寶石襯底和Al2O3絕緣層使得NEC Micro-LED 器件與外部電極之間無電學(xué)接觸,在交流驅(qū)動條件下只利用器件內(nèi)部固有的載流子輻射復(fù)合發(fā)光。當(dāng)器件兩端施加交流驅(qū)動信號時,該器件的電路模型可等效為RC 電路。隨著交流驅(qū)動信號頻率增大,器件等效阻抗先快速減小后趨于穩(wěn)定。當(dāng)驅(qū)動信號頻率固定時,器件I-V特性曲線呈線性關(guān)系,器件等效阻抗穩(wěn)定,發(fā)光亮度隨驅(qū)動電壓的增大而增強(qiáng)。而當(dāng)驅(qū)動信號電壓固定時,器件發(fā)光亮度隨頻率逐漸增加呈現(xiàn)先上升后下降的趨勢,在16~22 MHz 頻率范圍內(nèi)達(dá)到最大亮度。此外,回路呈電容特性,NEC Micro-LED 器件存在電流超前效應(yīng)與發(fā)光延遲效應(yīng)。綜上,與傳統(tǒng)Micro-LED 器件相比,NEC Micro-LED 器件與外部驅(qū)動電路不需形成歐姆接觸,即可在交流驅(qū)動信號下實現(xiàn)內(nèi)部載流子的周期性復(fù)合發(fā)光,有望解決Micro-LED 微型化帶來的巨量轉(zhuǎn)移與高精度鍵合、發(fā)光芯片與驅(qū)動電極高穩(wěn)定性接觸等技術(shù)問題,為未來Micro-LED 顯示技術(shù)發(fā)展提供了新思路。

本文專家審稿意見及作者回復(fù)內(nèi)容的下載地址:http://cjl. lightpublishing. cn/thesisDetails#10.37188/CJL.20230234.

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