摘 要:知識產權制度是一個開放的體系,它對社會福利的作用受到諸多因素影響,因此,要達到不同行業或不同地域的社會福利最大化,就需通過知識產權制度的創新與發展來實現,當然,制度創新必須適應客體的實際情況,從多維和動態的角度來科學選擇。
關鍵詞:技術溢出;累積創新;知識產權;數值模擬
中圖分類號:F061.4 文獻標識碼: A 文章編號:1003-3890(2008)10-0011-08
一、引言
知識產權保護對技術創新的影響主要是通過對技術創新溢出效應的影響來實現的。“溢出”現象的理論研究始于對外國投資過程中技術轉移的溢出效應的分析研究。薩繆爾森對溢出這種外部經濟效應的定義是“當生產或消費對其他人產生附帶的成本或效益時,外部經濟效應就發生了;就是說,成本或效益被加于其他人身上,而施加這種影響的人卻沒有為此付出代價。”
對技術創新中的溢出效應問題,經濟學家Kenneth Arrow(1962)提醒經濟學家們注意產業中的投資與技術變化的關系,他觀察到:“在溢出方面的增加,將減少企業的投資”。許多著名學者如熊彼特(J.Schumpeter,1934)、N.Rosenberg(1963)、J.Schmookler(1966)、R.E.Evenson(1968)、Y.Kislev(1968)、Z.Griliches(1968)和M.spence(1973)等,都研究過溢出效應對技術投資的影響。尤其是Nordhaus(1969)①提出了孤立創新(isolated innovation)發明的模型,表明強的專利保護會導致更多的RD投資,同時他也研究了發明的競爭與擴散和最優專利的期限問題②。但這些研究文獻都只是注意到了孤立的創新,研究企業之間的橫向溢出,而沒有考慮累積創新(cumulative innovation)③框架下前期創新者對后期創新者的正外部性或溢出效應(縱向溢出)。而現實中,研究和創新活動往往是具有累積性的。創新相互之間彼此依賴,后續的研究活動直接是對先前發現的改進或應用。這個事實使許多有關創新和知識產權保護問題變得更為復雜。
現代的創新模型是基于累積創新的框架之下,任何廠商必須先完成(或以其他途徑獲得)前期創新,然后才能進行后續創新(Green和Scotchmer,1995;Denicolo和Zanchettin,2002)。研究的重點為如何在兩個創新者之間分配利潤即如何給原始創新者以足夠的激勵。Scotchmer(1991)提出了兩階段累積創新的研究中需要解決的主要問題,最早研究了累積創新條件下的創新激勵問題。他認為在前的創新者如果不能在后續創新者的利潤中得到補償,就沒有足夠的激勵去投資研究。這一現象特別體現在研究工具(research tool)的研發工作中。如果創新者不能從后續開發的產品中獲利,就沒有激勵去創造研究工具。Green and Scotchmer(G-S,1995)和Scotchmer(1996)對Scotchmer(1991)對所提問題作了進一步的研究。Hunt(1995)從可專利性的角度來增加對創新者的保護,認為增加對可專利性的要求就使得專利權人的回報得到了更大的保障。O’Donoghu,Scotchmer and Thisse(1998)提出了一個重要的概念:有效期限(effective life)。所謂有效期就是專利權人享受專利權保護并從中獲利的實際期限。O-S-T(1998)的研究表明,加大專利保護的前寬度④可以提高創新的速度。O’Donoghue(1998)將前寬度和可專利性都納入其分析中,得出的結論是:即使在有“前寬度”保護的情況下,增強對可專利性的要求也能增加RD的投入,而且還能提高動態的社會福利水平。
本文通過構建一個累積創新框架下的拍賣模型來探討知識產權制度的福利效應,比較各種具體制度的效率及其在各種特殊的產業中的應用保護問題。引入累積創新框架,討論當存在領先廠商的情況下兩個廠商在“研究”與“開發”過程中的創新策略與行為,分別考察了領先廠商單獨開發、追隨廠商模仿以及領先廠商授權,追隨廠商獲得許可三種情況中的社會福利水平。最后是模型的研究結論和應用擴展,將模型得出的結論進行比較,并結合不同的產業特征討論知識產權保護政策的差異。
二、模型設定
(一)基本假設條件
為構建累積創新框架下的廠商創新競賽模型,首先要給定以下假設條件:
1. 廠商由領先國(leader)和后發國(follower)兩類企業組成,而且發展中企業存在模仿(縱向溢出)和創新兩種情況。廠商為創新出一種商業上有價值的產品,必須經歷研究(Research)和開發(Development)兩個過程(Grossman和Shapiro,1987)。研究是累積創新的第一過程,得到的產品是中間產品,即研究工具;開發是第二過程,得到的是最終產品。在累積創新框架下,廠商不僅能從其他同期廠商開發活動中得到橫向溢出效用還能從前一過程中得到縱向溢出效用。
2. 借用熊彼特的“毀滅性創造”理論,認為新技術比舊技術總有著更重要的作用的思想以及Mondal和Gupta(2006)對Helpman(1993)模型中的知識資本重新定義認為已被模仿的舊技術并不構成知識資本的假定,我們認為在競爭性研發市場上,只有未被其他研發企業模仿的新技術才能對研發新的技術產生貢獻。
3. 在縱向溢出中只有未被模仿的技術才能帶來效用。
4. 在社會福利函數中,不考慮消費者剩余問題。
5. 假定技術領先國有嚴格的知識產權保護,由于南北貿易,領先國的一部分技術會被后發國模仿,領先國的技術積累受到后發國知識產權保護的影響,后發國的知識產權保護越強,有效知識資本存量越大。
(二)模型框架
1. 縱向溢出函數。設 為后發國知識產權保護力度,主要對縱向溢出有影響,可看作不能模仿的領先國技術比例。在分析知識產權保護的文獻中,一般以技術溢出程度作為知識產權保護力度的度量指標 (Zigic,2000),因此我們又設 ≡1- 為由于知識產權保護不力導致技術知識溢出的部分,由此可得 =1時,技術進步完全依靠自主創新; =0技術完全溢出,沒有自主創新的動力,技術進步依靠對領先國先進技術的模仿。另設,AL代表領先國技術;AF代表后發國技術,AL>AF。后發國對領先國技術的模仿只是對其沒有的技術進行,即對(AL-AF)進行模仿。
可得領先國家總的技術存量分為三部分:(1- )(AL-AF)為被后發國企業模仿部分,(1- )AF是已被后發國普遍掌握的舊技術,對領先國而言,新技術為
AL-(1- )(AL-AF)-(1- )AF= AL(1)
AL為領先國知識資本存量。與領先國不同的是,后發國可以通過自主創新和模仿獲得新技術,設 , 分別為自主研發和模仿的效率參數,其研發部門的總量生產函數有如下形式:
AF= AF+ (1- )(AL-AF)(2)
AF為后發國所有研發企業已有的知識資本總存量,這一部分只能由后發國研發企業自主創新得到。 AF體現了知識產權保護對自主創新的影響,知識產權保護越強,則 AF越大,自主創新對技術進步的貢獻就越大。 (1- )(AL-AF)體現了知識產權保護對模仿領先國技術的影響,知識產權保護越強,則 (1- )(AL-AF)越小,模仿領先國技術對后發國技術進步的貢獻就越小。所以適度知識產權保護需在鼓勵自主創新和模仿領先國技術的兩難中權衡。
2. 橫向溢出函數。此處主要是借鑒Waterson與Ireland(1998)的研究思路,考慮兩個廠商在孤立創新的情況下進行創新競賽的拍賣模型。參與創新的兩廠商根據評價來競標,出價高者將獲勝。假設每個潛在創新者的個人收益是由兩部分組成的:一部分是創新的直接收益;另一部分是從其他同期創新參與者的開發中得到的潛在收益。社會收益可以被認為是所有潛在參與者個人收益的總和。由此,可以分別得出兩廠商的期望效用函數、投標函數以及社會福利函數。
(1)期望效用函數。倘若對參與創新的評價為的廠商,其競標價為b(b>b,b是最低的競標價,也是最低的研發投入),他創新成功的概率為p(b)。廠商的創新成功過程可以理解為廠商根據其評價在投入研發成本也即競標價之后取得競拍成功的過程。競標價是評價的單調遞增函數,由此可以保證出價最高的參與者將獲勝。實際上,b為投入研發的資源成本,一經投入,則無論參與者競拍是否成功,都必須支付此價格。 (0 1)可以定義為知識產權的保護強度; ≡1- 為知識產權的不完備程度,主要指復制模仿或侵犯知識產權被發現的可能性大小。為簡化模型,暫不考慮侵犯知識產權后的懲罰問題。 (0 1)表示橫向溢出的參數,即從其他參與者的研發中可以得到的溢出程度的大小。模型廠商獲勝可以從其他廠商獲得的溢出收益為(1- ) ( p(b)+ *(1-p(b)),其中 *代表其他廠商的評價水平,且 *獨立于 。依據上述假定,參與創新的 型廠商的期望效用可以表示為:
U( )= p(b)+(1- ) [ p(b)+z(b)]-b=[1- (1- )] p(b)+ z(b)-b(3)
其中z(b)≡[1-p(b)]E( *)
在給定的評價 服從[0,1]之間均勻分布的假設下,廠商競標獲勝的概率是沒有別的參與者有更高的評價的概率,所以p= n-1,由于假定只有兩家廠商參與故p= ,相應的有:
= =(1- )p+pa =(1- (1- ) (4)
令(1- (1- ))≡C,C為一個邊際系數。對上式積分,可以得到:
U( )=U(0)+C 2當U(0)>0時(5-1)
U( )=C( 2- *2)/2
當對于 *>0有U( *)=0,且U(0)<0(5-2)
由于存在溢出,當從溢出獲得的收益大于參與者的進入成本時(也即最低競標價b小于某個臨界值),則所有的廠商都會參與競標;當b大于某個臨界值,則只有部分參與競標。據此,計算該臨界值,當一個參與者必定要贏的時候,那么 =0型廠商的效用為:U(0)=max(0, z-b)
根據之前 是均勻分布的假定以及z的定義,可以推出:
U(0)= -b 當b (6-1)
U(0)=0 當b> (6-2)
顯然該臨界值為 ,當b< ,所有人都參與。
(2)投標函數。根據期望效用函數可以求出所有人參與和部分人參與兩種情況下的投標函數。如果b< ,結合方程(3)和(3-1)以及z的定義,可知:
b( )= +b(7-1)
如果b> ,從方程(1)和(3-2)可知:
b( )= + + (7-2)
上述(7-1)式和(7-2)式的投標函數,是關于b連續的,關于 遞增的,因此最高報價 *者將贏得知識產權保護。
(3)社會福利函數。如果社會福利函數為W=E {nU( )},僅考慮了廠商的效用,忽略了消費者剩余。那么可以根據給定的投標均衡得出兩種情況下的社會福利函數:
當b ,W=2 [U(0)+C 2/2]d =2( -b)+
(8-1)
當b> ,W=2 [C 2- *2)/2]d =C( + 3- 2)
(8-2)
其中: 2=
三、模型分析
這一部分將研究兩個廠商的創新策略與行為。通過這一累積創新框架下廠商競賽模型,將分別考察領先廠商單獨開發、追隨廠商模仿以及領先廠商授權追隨廠商獲得許可三種不同情形中的社會福利水平。
1. 基本假設。(1)假定在第一過程中,廠商L先取得了創新并申請了知識產權保護,于是他成為了領先廠商(Leader firm);第二過程中,廠商F(追隨廠商)如果也想參與競標,必須先從廠商L那里獲得研究成果。追隨廠商F獲取成果的方式既可以是通過正規的授權許可得到,也可能是選擇通過非正規的模仿手段獲得。(2)如果廠商F選擇通過授權許可的方式獲得前一過程的創新,則廠商F必須為此支付許可費,其大小是受雙方談判能力決定的。(3)在社會福利函數中,同樣不考慮消費者剩余問題。(4)研究過程中廠商L獲得知識產權后,到了開發過程他可以有兩種策略,一是授權許可別人使用,同時收取許可費;二是不許可,自己保留競爭優勢。針對廠商L的兩種策略,廠商F也可以相應地作出決策:如果對應的是廠商L的不許可策略,廠商F在知識產權保護嚴格的情況下選擇退出競爭,在知識產權保護不嚴格的情況下選擇模仿;如果對應的是廠商L的許可策略,廠商F在知識產權保護嚴格的情況下選擇通過談判取得許可,在知識產權保護不嚴格的情況下也選擇模仿。
可以將以上所述情況歸納為圖1所示,并在此基礎之上分別討論和比較不同情形下的社會福利水平:
2. 情況Ⅰ:廠商L單獨開發。在這種情況之下,廠商L自己進行開發,隨著廠商F的退出,整個市場即為完全壟斷市場。根據基本模型的思路,廠商的期望效用包括當期可獲得的直接效用和從其他廠商開發活動中得到的橫向溢出效用外,還包括從前一過程得到的縱向溢出效用。但由于此時廠商L單獨開發,無法從同期的參與廠商處得到溢出,因此橫向溢出參數 =0,且完全壟斷廠商擁有完全的前期成果因而能在無競爭的條件下和足夠的時間內將其商業化開發出新產品,開發成功的概率p=1。因此,廠商L的期望效用為:
UL( )=(1- (1- )) p(b)+ z(b)+ *1-b
由于p=1, =0;所以,UL( )=(1- (1- )) + -b=(1+ ) -b;(9)
dUL( )/d =1+
因為在此種情況之下,只有廠商L單獨從事開發,廠商L作為唯一的壟斷廠商其投標函數一定是一個最低的投標值b,由此可以得出b( )=b,所以廠商L的期望效用函數就為:
UL( )=(1+ ) -b
同樣也可以將福利函數表示為含b的形式
W= [(1+ ) -b]d = -b(10)
引理1:如果在廠商L單獨開發的情況下,社會福利函數如上式所示,則可以得出dW/d = >0,d2W/d 2=0。即隨著 的增加,W遞增。
命題1:也即保護程度越嚴格,社會福利越大。也就是說當只有領先國自己進行開發、整個市場即為完全壟斷市場時,產權保護越強,社會福利越大。且在 的取值范圍內,社會的最大值在 取最大值即為1時得到。
3. 情況Ⅱ:廠商F選擇模仿并進行創新。在這種情況之下,兩個廠商都進行開發。廠商F通過模仿取得前一過程的研究成果,因而廠商F從前一期得到的縱向溢出為前面所說的AF=?姿 AF+?滋(1- )(AL-AF),AL>AF,其中?姿、?滋分別為自主研發和模仿的效率參數,0 1。由于考慮了F廠商的模仿因素,此時廠商L的期望效應函數為:
引理2:如果在廠商F選擇模仿并進行創新、兩個廠商都進行開發的情況下,社會福利函數如(16)所示。則在其他條件不變的情況下,W僅相對于 來說,dW/d = ,d2W/d 2=0。
則當8 -3 -5 0時,W為一斜率為正的直線,即W隨著 的增加而增加,或者說隨著 的增加而減小。
則當8 -3 -5<0時,W為一斜率為負的直線,即W隨著 的增加而減小,或者說隨著 的增加而增大。
并且由于此時滿足b?燮 ,所以 的取值范圍為1- ?燮 ?燮1。
命題2:當領先國和后發國共同開發、后發國對領先國的技術既模仿又創新時,為了達到最大的社會福利水平,知識產權策略的采取與后發國的創新效率和技術的橫向溢出系數有關。在技術的橫向溢出效率不變時,后發國創新水平提高到一定水平時( < ),應采取較強的知識產權保護;反之,創新水平較弱時( ?燮 ),采取較弱的保護強度能使社會福利更大。同時,還可以看出,在這種情況下,社會福利與后發國的模仿水平?滋無關。
4. 情況Ⅲ:廠商L授權,廠商F獲得許可。在這種情況下,兩個廠商都進行開發。廠商F通過從廠商L手中獲得授權許可而取得之前的研究成果。但廠商F必須為此支付許可費。許可費k=K ,也即許可費的大小取決于對研究成果的評價,其中k為許可費比例。則可以認為廠商L的縱向溢出部分得到補償,相當于得到完全的知識產權保護,縱向溢出 =1中,但仍有橫向溢出,則期望效用與情況1相同:
UL( )=(1- (1- )) p(b)+ z(b)+ *1-b(17)
對后發國來說,由于可以全面得到領先國的技術,借用熊比特的觀點,認為其沒有創新的動力, =0,且在模仿部分全面繼承發達國的技術,?滋=1,但相應地須付出成本。此時縱向溢出部分 +?滋 ( L- )-K L=(1- )( L- )-K L;得到后發國的期望效用為:
UF( )=[1- (1- )] p(b)+(1- ) z(b)+(1- )(AL-AF)-kAL-b(18)
根據類似情況Ⅱ的方法可以得到以下結論以及引理3:
b( )= 2+b(19)
W= -2b+ + (20)
引理3:如果在廠商L授權、廠商F獲得許可且兩個廠商都進行開發的情況下,社會福利函數如上式(20)所示,則當 時,W為一斜率為正的直線,即W隨著 的增加而增加,也即知識產權制度的不完備程度增加時,有利于社會福利的增加,所以此時宜采用弱保護政策;當 < ,W為一斜率為負的直線,即W隨著 的增加而減少,也即知識產權制度的不完備程度增加時,會使社會福利趨于減少,所以此時宜采用強保護政策。
證明:
四、研究結論與應用擴展
通過對上述擴展模型的討論,可以得到三種不同情況下的社會福利函數(見表1)。
比較不同的情況,可以看出,社會福利水平在不同的情況下具有不同的形式,這意味著在不同的情況下取得的社會福利水平也可能不同。比如W= + -2b(模仿)與W= -2b+ + (授權許可)兩種情況作比較,可得當 ?燮 時,模仿要比取得授權的情況得到更大的社會福利,反之則更少,但這與社會創新水平和授權成本有關。這就要求在設計知識產權保護制度時,必須考慮到各種因素,使社會福利達到最大化。
為使社會福利水平達到最大值, (或者 )值都不盡相同,這意味著在不同的情況下,所運用的知識產權保護制度的種類和保護程度也都不可能是完全相同的,必須根據具體的保護客體情況來加以確定。進一步講,作為外生變量的 (知識溢出的程度)和b(最低研發投入成本)以及創新水平 也會對社會福利的大小產生影響;且 、b和 對應于不同的行業呈現不同的大小和狀態。因此,有必要結合具體的 、b和 的行業特征,來討論在各種不同的行業進行知識產權保護的適合類型和保護程度。由于知識產權不完備程度 還包括所采用有差異的技術保護措施和不同的知識產權保護制度,并且在某些情況中進行比較統計是模糊的。因此,可以把 作為一個自變量,用仿真軟件進行數據模擬分別考察廠商L不允許授權許可(見圖2)和廠商L允許授權許可(見圖3)兩種情形下,不同的 、b和 取值對社會福利水平的影響。
圖2表示在廠商L不授權許可條件下,廠商F在選擇退出或模仿策略下的社會福利比較,為求簡便,暫假設創新水平為0.5.其 橫坐標中表示知識產權的不完備程度,縱坐標W表示社會福利大小,在圖2中,A圖是當 =0.2、b=0.1時的福利大小比較;B圖是當 =0.85、b=0.1時的福利大小比較;C圖是當 =0.2、b=0.4時的福利大小比較;D圖是當 =0.85、b=0.4時的福利大小比較;其中當廠商F選擇退出策略時,圖形用“×”表示;當廠商F選擇模仿策略時,圖形用“+”表示。
圖3表示在廠商L允許授權許可條件下,假設授權許可費比例k=0.5、廠商F在選擇取得許可或模仿策略下的社會福利比較,其中橫坐標 表示知識產權的不完備程度,縱坐標W表示社會福利大小。在圖3中,A圖是當 =0.2、b=0.1時的福利大小比較;B圖是當 =0.85、b=0.1時的福利大小比較;C圖是當 =0.2、b=0.4時的福利大小比較;D圖是 =0.85、b=0.4時的福利大小比較;其中當廠商F選擇退出策略時,圖形用“×”表示;當廠商F選擇模仿策略時,圖形用“+”表示。
根據上述數據模擬結果,可以得出如下研究結論:
結論1:當廠商L不授權許可條件時,廠商F有兩種策略選擇,即模仿或退出。但是不管采取何種策略選擇,當采取較強的知識產權保護措施時,廠商 F的選擇是退出;反之當采取較弱的知識產權保護措施時,廠商F的選擇是模仿。
結論2:當廠商L允許授權許可條件時,廠商F也有兩種策略選擇,即模仿或取得許可。但是不管采取何種策略選擇,當采取較強的知識產權保護措施時,廠商F的選擇是取得許可;反之當采取較弱的知識產權保護措施時,廠商F的選擇是模仿。
由于以上把 與K設為定值,在此作進一步的說明:
在情況(Ⅱ)中,廠商既模仿又創新時,由公式dW/d = ,d2W/d 2=0,可以看出,為了獲得最大的社會福利,所采取的知識保護強度與創新水平 有關,在技術的橫向溢出效率不變時,后發國創新水平提高到一定水平時( > ),應采取較強的知識產權保護;反之,創新水平較弱時(( ),采取較弱的保護強度能使社會福利更大。
同時,在授權許可的情況下,社會福利函數為W= -2b+ + ,在其他因素不變的情況下,當取最小值時社會福利最大。根據(18)式也可得到此時追隨廠商F的效用最大。但是這種情況在實際生活中幾乎是不存在的。追隨廠商所付出的成本一般小于領先廠商,如果在成本不同的情況下卻能取得同樣的技術,兩者的博弈結果會導致領先廠商沒有創新動力最終導致整個社會福利水平的降低。因此,在研究此類問題時,必須考慮如何補償創新者的貢獻,防止創新者與后創新者的競爭導致彼此利潤的減少。
基于以上的各種考慮,應當努力尋求在補償在先創新者利潤、社會總體創新效率和社會福利水平之間的一個最優解。這個最優解就是社會所選擇的最優知識產權保護制度。
具體到不同的行業領域來說,生物技術、電子和醫藥等行業中,一般都存在一個較大的b,例如要投資研發一種新藥或是開發一種轉基因的產品都需要政府給予很大的經濟支持,一項創新活動的投資往往在數千萬美元以上。而且這類行業的?琢很低,各家廠商都極力維護各自的創新成果,因此廠商之間的知識溢出很少。對于這類行業,應該適用比較嚴格的保護制度進行保護,比如專利制度。但是,即使在此種情形下一個國家的知識產權保護程度的強弱還是要與該國的技術水平和政策結合起來綜合考慮。有研究表明,當國家間存在較大差距時,對后發國來說采取較弱的知識保護政策能更大地提高技術進步率,反之在差距較小時,可采取較強的保護政策(Acemoglu,D.;Zilibotti,F.,2002)。同時還要考慮本國技術吸收能力的限制(Borensztein,1998),而在計算機軟件、音樂、書籍和期刊等行業中,往往存在一個較小的b,在研發人員的數量、研發設備的要求和啟動研發的資金等各個方面與前一類行業相比都要小得多;并且廠商相互之間的溢出水平比較高,原因在于這類行業的創新成果維持是一件較為困難的事情。復制活動在這類行業中頻頻發生,侵權案件的數量在這類行業中也是居高不下,關鍵在于創新成果的易復制性和復制成本的低廉。對于此類行業,我們認為應該適用比較寬松的保護制度進行保護,比如版權制度。
綜上所述,我們看到知識產權制度是一個開放的體系,其對社會福利的作用受到諸多因素的影響,因此要達到不同行業或不同地域的社會福利最大化,創新和發展知識產權制度也可以通過多方面的努力來實現,比如通過完善傳統規則、建立保護新客體制度以及重構知識產權制度等。最為重要的是當我們面對一種新的知識產權保護對象時,應該從客體的實際情況出發,避免經驗式的單純比較和靜態選擇,更多地從多維、動態的角度來看待知識產權制度的發展以及對新客體的包容。
注釋:
①Nordhaus于1969年發表的《創新、增長與福利:對技術變遷的理論研究》。他在此書中解釋了為什么對專利(以及其他知識產權)的保護應該有時間期限。
②Nordhaus(1969)在平衡福利損失時所用的政策工具是專利保護的期限,20世紀90年代以后的文獻更多地將注意力放在對專利保護范圍的討論上,通常用范圍來調節福利損失,用期限來實現預定的補償額度。
③指創新的發生是單一的、孤立的,沒有進行后續創新的可能性,保留創新結果也沒有價值,所以廠商在取得創新之后,會對其進行披露并申請專利。而累積創新是指后續創新建立在先前的創新基礎之上的創新。創新相互之間彼此依賴,后續的研究活動直接是對先前發現的改進或應用)。
④O-S-T(1998)還區分了兩種寬度:后寬度(lagging breadth)和前寬度(leading breadth)。后寬度是針對模仿行為的,它劃定了模仿產品與專利產品的最小差異;前寬度是針對改進行為的,它劃定了改進產品與專利產品的最小差異。在討論累積創新時,主要用到的是后者。
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責任編輯:張增強
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