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電極寬度對ZnO基MSM紫外光電探測器性能的影響

2015-04-20 01:39:03李健孫娥金禮南裴佳楠蔣大勇
博覽群書·教育 2015年12期

李健?孫娥?金禮南?裴佳楠?蔣大勇

摘 要:利用射頻磁控濺射技術,選用靶材為ZnO陶瓷靶材,在石英襯底上制備ZnO 薄膜。并且制備了叉指電極,指寬分別為 3μm、5μm、8μm的金屬-半導體-金屬型紫外光電探測器,研究了不同指寬對探測器性能的影響。結果表明:指寬為3 um的探測器響應性能明顯高于其它兩種類型探測器。

關鍵詞:ZnO薄膜;射頻磁控濺射;不同電極寬度;MSM型紫外光電探測器

近年來, 由于紫外光電子器件廣闊的應用前景,寬禁帶半導體材料ZnO已經引起了人們廣泛的關注. ZnO是一種新型的直接寬隙II-VI 族化合物半導體材料, 晶體結構為六方纖鋅礦結構,其室溫禁帶寬度為3.37eV,激子束縛能高達60meV。ZnO原材料資源豐富、價格低廉、無毒無污染、制備工藝簡單。ZnO具有高熔點、高熱穩定性及化學穩定性等優點,因此是制作紫外光電探測器的理想材料。在軍事、民用等方面有著巨大的應用前途。近年來,科研工作者們分別采用金屬有機氣相沉積法(MOCVD)、激光脈沖沉積法(PLD)、分子束外延法(MBE)等方法制備了不同類型的ZnO合金薄膜[3-5]。采用射頻磁控濺射法制備ZnO薄膜材料時,其襯底材料選擇為石英襯底,濺射反應氣體則為氬氣、氧氣一定比例的混合氣體,這種ZnO薄膜制備方法研究較少,尤其是不同指寬對紫外光電探測器性能的影響方面研究。

本文利用射頻磁控濺射方法,用氧氣和氬氣作為濺射氣體在石英襯底上制備了ZnO薄膜,并對其結構和光學性質進行分析研究。通過射頻磁控濺射所成的ZnO薄膜會具有良好的致密性和均勻性,有利于得到高質量的ZnO薄膜。通過測試分析不同類型的探測器的光響應光譜,得出最優指寬的叉指型電極。

一、實驗

本實驗利用射頻磁控濺射方法在石英襯底上制備ZnO 薄膜。所使用的靶材是純度99.99%的ZnO陶瓷靶材。石英襯底分別用酒精,丙酮,去離子水超聲清洗五分鐘,然后使用氮氣吹干,待吹干后立即放入薄膜生長腔體。使用分子泵將薄膜生長腔體內真空抽到5×10-4Pa,之后把純度為99.999%的氬氣和氧氣通入到生長腔體,氣體流量分別設為50sccm、50sccm,濺射功率控制在110W,薄膜的生長溫度控制在673K,石英襯底轉數控制在8r/min,薄膜生長過程中生長腔體內的的壓強保持在5Pa。薄膜的生長時間為2h。同樣使用射頻磁控濺射的方法在ZnO 薄膜上表面濺射生長約100nm后的Au,使用光刻的方法刻出叉指型電極。指間距均為5μm,制備出指寬分別為 3μm、5μm、8μm的紫外光電探測器。

二、結果與討論

圖1 所示為利用射頻磁控濺射方法,用ZnO靶材生長的ZnO薄膜的X 射線衍射(XRD)圖譜。圖中在34.44°處有一個高強度的尖銳的衍射峰,對應于六角纖鋅礦ZnO晶體的(002)取向。XRD 的半高寬對于樣品的晶體質量來說是一個有力的表征手段。在得到半高寬值為0.25°后,可以通過下面的公式計算得到平均晶粒尺寸d 即

d = 0.94λ/B cosθ (1)

式中d 是晶粒的平均尺寸,λ是波長(1.54?),測B是衍射峰半高寬度,θ是Bragg 衍射角。通過計算晶粒的直徑為213.2nm,大的晶粒尺寸有利于減少晶粒的界面和表面缺陷,從而形成高質量的ZnO薄膜,這對于制備高性能紫外光電探器件是積極有益的。

圖2 ZnO基MSM光電探測器件結構示意圖,通過濕法刻蝕得到Au電極,為了研究電極寬度對器件性能的影響,我們制備了電極寬度 h 分別為3,5,8μm的ZnO基MSM光電探測器。

圖3 所示為指寬分別為 3μm 的ZnO基MSM型紫外光電探測器在1-7 V 偏壓下的響應圖譜。由圖可見隨著電壓的增大,器件的響應度逐漸上升。響應圖譜中截止邊清晰,呈直線型。圖3 所示為指寬分別為 3μm、5μm、8μm 的ZnO基MSM型紫外光電探測器在5 V 偏壓下的響應圖譜。圖2中3個器件的響應峰值均位于380nm。指寬為3μm的探測器響應度最高達到0.058 A/W,5μm的探測器響應度最高達到0.041 A/W,8μm的探測器響應度最高達到0.03 A/W。本文中由于外加電場恒定為5 V,若增大指寬,則落于叉指電極間電阻上的電壓增大,會使耗盡區上的分壓減小,耗盡區會比窄叉指電極的情況下變窄。MSM 結構光電探測器的有效光響應區即為耗盡區。因此探測器的反應接收區變小,則可分離的光生載流子減少,器件的響應度降低。反之,則器件的響應度升高。

三、結論

用射頻磁控濺射方法制備了高質量的ZnO薄膜。利用Au 叉指電極,在ZnO薄膜上制備了電極指寬不同的金屬-半導體-金屬結構紫外光電探測器。研究發現,隨著叉指電極寬度的縮小,光響應度增大。在相同偏壓下,電極寬度3μm 的器件響應度比寬度8μm 的器件增大了2倍。上述現象是由于叉指電極寬度的縮小導致器件耗盡區寬度增大,因此更多的光生載流子得到有效分離,從而提高了光電流輸出。本文的結果表明,對MSM 結構的紫外光電探測器件來說,在一定的工作偏壓下,過大的叉指電極寬度會減小實際的耗盡區寬度。因此叉指電極寬度的選取要充分考慮到耗盡區寬度和偏壓大小。

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